JPH0430040Y2 - - Google Patents

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JPH0430040Y2
JPH0430040Y2 JP15147087U JP15147087U JPH0430040Y2 JP H0430040 Y2 JPH0430040 Y2 JP H0430040Y2 JP 15147087 U JP15147087 U JP 15147087U JP 15147087 U JP15147087 U JP 15147087U JP H0430040 Y2 JPH0430040 Y2 JP H0430040Y2
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chromium
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  • Surface Treatment Of Glass (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)

Description

【考案の詳細な説明】
(産業上の利用分野) 本考案は建築物の窓ガラスや自動車の窓ガラス
として用いられる透明熱線反射板に関する。 (従来の技術) 室内への熱線の侵入を阻止し、室温の上昇を防
止するようにした透明熱線反射板が知られてい
る。この透明熱線反射板はガラス板の表面に金属
薄膜をスパツタリング等によつて形成したもので
ある。 また熱線反射機能のみでなく、装飾機能をも高
めるべく、ガラス板の表面にSnO2等の透明誘電
体層を形成し、この透明誘電体層の上に窒化クロ
ム層(CrNx)層を形成し、前記透明誘電体層の
厚みを変えることで非膜面反射色を調整するよう
にした透明熱線反射板が特開昭60−36355号とし
て知られている。 (考案が解決しようとする問題点) 上述した従来の透明熱線反射板にあつては、透
明誘電体層の厚みを変えることで、非膜面反射色
が変化するのであるが、ガラス面反射色を所定の
色調にした場合、透過色が橙色〜赤色〜赤紫色系
となつたり、膜面反射色が紫〜濃青色系となつた
りし、これらの色が一般建築用として好ましくな
いために用いることができない場合がある。 (問題点を解決するための手段) 上記の問題点を解決するために本考案は、透明
基板表面に幾何学的厚みで1〜40nmの範囲でク
ロム層又は窒化クロム層と5〜500nmの範囲の光
学的厚さの透明誘電体層と幾何学的厚みで1〜
40nmの範囲でクロム層又は窒化クロム層と5〜
300nmの範囲の光学的厚さの透明誘電体層を順次
形成した。 (作用) 透明熱線反射板の膜構成の4層とし、各々の層
の厚みが適当な組合せと成つたときにおだやかな
反射色を呈する。 (実施例) 以下に本考案の実施例を添付図面に基づいて説
明する。 第1図は本考案に係る透明熱線反射板を製造す
るスパツタリング装置の概略図であり、スパツタ
リング装置装置はアースされた真空槽1の一部に
バリアブルバルブ2を設けた排気口3を形成し、
この排気口3を介して真空ポンプ4と接続し、真
空槽1内を減圧するようにしている。また真空槽
1の上部には、マグネトロンカソード5,6,7
を設け、直流電源8,8,8と接続している。ま
たマグネトロンカソード5と6の間にはバルブ9
を備えたガス供給管10を設け真空槽1内にガス
を供給するようにしている。さらに各カソード
5,6,7下方には往復可能な搬送ベルト11を
配置している。 第2図は上記スパツタリング装置にて熱線反射
膜が形成された透明板の断面図であり、ガラス基
板16上に第1層としてのクロム層又は窒化クロ
ム層17を幾何学的厚みで1〜40nm形成し、こ
の第1層17の上にSnO2,TiO2,Al2O3,ZnO,
Bi2O3,ZrO2,Ta2O5,AlN,ZnS等からなる第
2層としての透明誘電体層18を光学的厚さで5
〜500nmの厚さで形成する。ここで光学的厚さと
はその物質の屈折率に幾何学的厚さ(物理的厚
さ)を乗じた値をいう。この透明誘電体層18の
上に第3層としてのクロム層又は窒化クロム層1
9を幾何学的厚みで1〜34nm形成し、この第3
層19の上に前記と同様の第4層としての透明誘
電体層20を幾何学的厚みで5〜30nm形成して
いる。以上の如き膜形成を行うには先ずカソード
5の下面にSnをターゲツト12として取り付け、
またカソード6の下面にはCrをターゲツト13
として取り付ける。そして搬送ベルト11上の基
板ホルダー15に洗浄したガラス基板16を載置
し、バリアブルバルブ2を開け、真空槽1内を5
×10-6Tprr以上まで減圧する。次いでガス供給管
10よりアルゴンを供給して、バリアブルバルブ
2を閉じ、真空槽1内圧力が2×10-3Tprrになる
ようにする。次にカソード6に350Vの負電圧を
印加し、ガラス基板16をカソード下に移動させ
ることでガラス基板16上に第1層として所定の
幾何学的厚みのクロム被膜17を形成する。そし
てカソード6のパワーを切り、バリアブルバルブ
2を開き、再び5×10-6Tprr以上の真空に引き、
次いでガス供給管10より酸素を供給して、バリ
アブルバルブ2を閉じ、真空槽1内圧力を2×
10-3Tprrとなるようにする。次にカソード5に
400Vの負電圧を印加し、ガラス基板16をカソ
ード5下を移動させることでクロム被膜17表面
に所定の光学的厚みの酸化スズ層18を第2層と
して形成する。 そして、カソード5のパワーを切り、バリアブ
ルバルブ2を開き、再び5×10-6Tprr以上の真空
に引いた後、ガス供給管10からアルゴンを導入
し、バリアブルバルブ2を閉じ、真空槽1内圧力
が2×10-3Tprrとなるようにする。 次にカソード6に350Vの負電圧を印加し、ガ
ラス基板16をカソード6下を移動させること
で、酸化スズ層18上に第3層として所定の幾何
学的厚みのクロム被膜19を形成する。再び5×
10-6Tprr以上の真空に引いた後、酸素を内圧2×
10-3Tprrになるまで導入し、前記同様にカソード
5に400Vの負電圧を印加し、クロム被膜19上
に第4層として所定の幾何学的厚みの酸化スズ層
を形成する。 尚、第1層又は第3層に形成した上記のクロム
被膜に代えて窒化クロム被膜を形成する場合に
は、5×10-6Tprr以下の真空に引いた後、ガス供
給管10からアルゴンを導入することに代えて窒
素を内圧2×10-3Tprrになるまで導入し、次にカ
ソード5に500Vの負電圧を印加し、ガラス基板
16をカソード6下に移動させる。 尚、実施例にあつては膜形成方法としてスパツ
タリング法を示したが、この他に真空蒸着法、デ
イツピング法、その他熱分解法で成膜した後に真
空蒸着法、ガススパツタリング法で成膜する方法
等任意である。また透明誘電体層としてはZnO,
Bi2O3,AlxNy,Alo,ZnS等が考えられるが、耐
久性からSnO2,TiO2,Al2O3が好ましい。 実施例 1〜3 上記の方法により、透明基板表面に第1層とし
てクロム層又は窒化クロム層、第2層として酸化
スズ被膜からなる透明誘電体層、第3層としてク
ロム層又は窒化クロム層、第4層として酸化スズ
被膜からなる透明誘電体層を各々[表1]に示す
所定の厚みで第2図に示すように形成し、実施例
1、実施例2、実施例3にかかる3種類の透明熱
線反射板を形成した。 実施例1〜3の透明熱線反射板に付いて各々の
可視光透過率(%)、透過色、膜面反射色、非膜
面反射色を[表1]に示した。 比較例 1〜3 実施例1〜3と同様な方法により第3図に示す
ように透明基板16の表面に第1層として酸化ス
ズ被膜からなる透明誘電体層21、第1層の表面
に第2層としてクロム被膜22、第2層の表面に
第3層として酸化スズ被膜からなる透明誘電体層
23を各々[表2]に示す所定の厚みで形成し、
比較例1、比較例2、比較例3にかかる3種類の
透明熱線反射板を形成した。 比較例1〜3の透明熱線反射板に付いて各々可
視光透過率(%)、透過色、膜面反射色、非膜面
反射色を[表2]に示した。 [表1]を[表2]に対比させることにより、
4層構成を有する本考案の透明熱線反射板は3層
構成を有する比較例の透明熱線反射板と比較して
次のような特性を有する。 a※の(+)の数値が大きいほど赤色が強
く、(−)の数値が大きいほど緑色が強くなる
が、このa※の(+)の数値から比較例1の透
明熱線反射板の透過色が赤色を示す一方、実施
例1の透明熱線反射板の透過色は薄い緑色を示
し、透過色が穏やかな好ましい色に改善されて
いる。 比較例2の透明熱線反射板膜面反射色はきつ
い青緑色を示すが、実施例1の透明熱線反射板
は非膜面反射色を変えることなく穏やかな青緑
色の膜面反射色を示すように改善されている。 比較例3の透明熱線反射板よりも実施例3の
透明熱線反射板被膜面反射色を表示するL※の
数値が大きいことから、反射率が高く、反射像
がより鮮やかに映ることを示し、更にb※の数
値が大きいことから、より金色に近くなり、4
層構成とすることにより、より優れた非膜面反
射性能が得られる。
【表】 表中〓 〓はクロム被膜に代えて窒化クロム
被膜を形成したことを示す。
【表】
【表】 (考案の効果) 以上の如く本考案の透明熱線反射板は、非膜面
反射色を変えずに透過色或いは膜面反射色を穏や
かな色に改善したものであり、一般建築用にも十
分に適応できる穏やかな好ましい色彩が得られ
る。
【図面の簡単な説明】
第1図はスパツタリング装置の概略図、第2図
は本考案にかかる反射板の断面図、第3図は比較
例にかかる反射板の断面図である。 尚、図面中、16はガラス板、17,19はク
ロム或いは窒化クロム層、18,20は透明誘電
体層である。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 透明基板表面に幾何学的厚みで1〜40nmの範
    囲でクロム層又は窒化クロム層からなる第1層を
    形成し、この第1層の表面に5〜500nmの範囲の
    光学的厚さで透明誘電体層の第2層を形成し、こ
    の第2層の表面に幾何学的厚みで1〜40nmの範
    囲でクロム層又は窒化クロム層からなる第3層を
    形成し、更にこの第3層の表面に5〜300nmの範
    囲の光学的厚さで透明誘電体層の第4層を形成し
    たことを特徴とする透明熱線反射板。
JP15147087U 1987-10-02 1987-10-02 Expired JPH0430040Y2 (ja)

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JP15147087U JPH0430040Y2 (ja) 1987-10-02 1987-10-02

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JP15147087U JPH0430040Y2 (ja) 1987-10-02 1987-10-02

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JPS6455022U JPS6455022U (ja) 1989-04-05
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JPH0764599B2 (ja) * 1988-12-20 1995-07-12 旭硝子株式会社 耐久性の優れた熱線反射性を有する光学体
BE1020719A3 (fr) * 2012-06-26 2014-04-01 Agc Glass Europe Panneau reflechissant.
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