JPS6325283A - 施釉珪酸カルシウム体の製法 - Google Patents
施釉珪酸カルシウム体の製法Info
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Landscapes
- Aftertreatments Of Artificial And Natural Stones (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は施釉珪酸カルシウム体の製法に係り、特にゾノ
トライト質珪酸カルシウム板の表面に剥離しに<<、か
つ硬買なセラミック被覆を形成する方法に関する。
トライト質珪酸カルシウム板の表面に剥離しに<<、か
つ硬買なセラミック被覆を形成する方法に関する。
[従来の技術]
ゾノトライト質珪酸カルシウム板は、軽量で耐火性に優
れる等の特長を有し、従来より断熱材等として有効に使
用されている。
れる等の特長を有し、従来より断熱材等として有効に使
用されている。
[発明が解決しようとする問題点]
従来、表面化粧されたゾノトライト買珪酸カルシウム板
は提供されておらず、ゾノトライト質珪酸カルシウム板
を断熱材等として建築物等に使用する場合には、その施
工面上に更に表面仕上げ材を施工する必要があり、施工
工数が多く、作業が煩雑であるなどの欠点があった。
は提供されておらず、ゾノトライト質珪酸カルシウム板
を断熱材等として建築物等に使用する場合には、その施
工面上に更に表面仕上げ材を施工する必要があり、施工
工数が多く、作業が煩雑であるなどの欠点があった。
[問題点を解決するための手段]
本発明は上記実情に鑑み、ゾノトライト質珪酸カルシウ
ム成形体に良好な表面化粧を施す方法を提供するべくな
されたものであって、全固型分量に対する全水量が65
〜76重量%で、かつ粘度が1000〜8500cpで
ある釉薬を、ゾノトライト質珪酸カルシウム成形体に施
釉し、次いで100〜150℃で乾燥した後、最高温度
800〜1000℃で0.1〜10時間焼成することを
特徴とする施釉珪酸カルシウム体の製法、を要旨とする
ものである。
ム成形体に良好な表面化粧を施す方法を提供するべくな
されたものであって、全固型分量に対する全水量が65
〜76重量%で、かつ粘度が1000〜8500cpで
ある釉薬を、ゾノトライト質珪酸カルシウム成形体に施
釉し、次いで100〜150℃で乾燥した後、最高温度
800〜1000℃で0.1〜10時間焼成することを
特徴とする施釉珪酸カルシウム体の製法、を要旨とする
ものである。
即ち、本発明者らは、まず、表面仕上げ材として、耐久
性に優れ、かつ非常に美麗であり、高級感を感じさせる
ものに釉薬を施されたタイルがあることから、ゾノトラ
イト質珪酸カルシウム成形体の上にこの釉薬を施すこと
ができれば、断熱材等としても優れ、かつ、高級感のあ
る表面美麗な極めて優れた建築材料が得られるものと推
察した。
性に優れ、かつ非常に美麗であり、高級感を感じさせる
ものに釉薬を施されたタイルがあることから、ゾノトラ
イト質珪酸カルシウム成形体の上にこの釉薬を施すこと
ができれば、断熱材等としても優れ、かつ、高級感のあ
る表面美麗な極めて優れた建築材料が得られるものと推
察した。
そこで、ゾノトライト貿珪酸カルシウム成形体に釉薬I
A3!!を施した施釉珪酸カルシウム体を製造する方法
について検討したが、陶磁器質タイルの場合には、施釉
する時点での成形体吸水率は5〜15%程度であるのに
対し、ゾノトライト貿珪酸カルシウム成形体は、150
〜200%の吸水率を有するため、通常の陶磁器質タイ
ルに施す釉薬をそのまま適用することができないという
一難点が見出された。即ち、通常の釉薬をそのまま通用
した場合には、良好な施釉面が得られず、亀裂、ピンホ
ール発生等は避けられない。本発明者らは、このような
点について更に研究を重ねた結果、特定の水分量で特定
粘度の釉薬であればゾノトライト買珪酸カルシウム成形
体に良好に適用できることを見出し、本発明を完成させ
た。
A3!!を施した施釉珪酸カルシウム体を製造する方法
について検討したが、陶磁器質タイルの場合には、施釉
する時点での成形体吸水率は5〜15%程度であるのに
対し、ゾノトライト貿珪酸カルシウム成形体は、150
〜200%の吸水率を有するため、通常の陶磁器質タイ
ルに施す釉薬をそのまま適用することができないという
一難点が見出された。即ち、通常の釉薬をそのまま通用
した場合には、良好な施釉面が得られず、亀裂、ピンホ
ール発生等は避けられない。本発明者らは、このような
点について更に研究を重ねた結果、特定の水分量で特定
粘度の釉薬であればゾノトライト買珪酸カルシウム成形
体に良好に適用できることを見出し、本発明を完成させ
た。
以下に本発明の詳細な説明する。
本発明において、施釉処理するゾノトライト質珪酸カル
シウム成形体は、常法により、珪酸質原料粉末、石灰質
原料粉末、水、必要に応じて耐火粘土、石綿、バインダ
等を混練し、成形、養生してゾノトライトを生成させる
ことにより、容易に製造することができる。この場合、
成形法としては、公知の抄造法、押出法、プレス成形法
等のいずれも採用可能である。
シウム成形体は、常法により、珪酸質原料粉末、石灰質
原料粉末、水、必要に応じて耐火粘土、石綿、バインダ
等を混練し、成形、養生してゾノトライトを生成させる
ことにより、容易に製造することができる。この場合、
成形法としては、公知の抄造法、押出法、プレス成形法
等のいずれも採用可能である。
本発明の方法においては、このようにして得られたゾノ
トライト質珪酸カルシウム成形体に施す釉薬として、全
固型分量に対する全水量が65〜76重量%で、かつ粘
度が1000〜8500cpである釉薬を用いる。
トライト質珪酸カルシウム成形体に施す釉薬として、全
固型分量に対する全水量が65〜76重量%で、かつ粘
度が1000〜8500cpである釉薬を用いる。
釉薬の全固型分量に対する全水量が65重量%未満ある
いは粘度が8500cpを超えると、平滑な施釉面が得
られず、ピンホール等が多量に発生するようになり好ま
しくない。一方、釉薬の全固型分量に対する全水量が7
6重量%よりも多い場合あるいは粘度が1000cp未
溝の場合には、釉薬が側面側へタレ、著しい場合には裏
面側にもまわってしまい、良好な施釉を行うことができ
ない。このため、本発明においては上記範囲の水分量及
び粘度の釉薬を用いる。
いは粘度が8500cpを超えると、平滑な施釉面が得
られず、ピンホール等が多量に発生するようになり好ま
しくない。一方、釉薬の全固型分量に対する全水量が7
6重量%よりも多い場合あるいは粘度が1000cp未
溝の場合には、釉薬が側面側へタレ、著しい場合には裏
面側にもまわってしまい、良好な施釉を行うことができ
ない。このため、本発明においては上記範囲の水分量及
び粘度の釉薬を用いる。
このような釉薬は通常の釉薬の調整法において、水分量
を適宜調整することにより容易に製造することができる
。
を適宜調整することにより容易に製造することができる
。
ところで、本発明で用いる、全固型分量に対する全水量
が65〜76重量%で、かつ粘度が1000〜8500
cpの釉薬は、水分量が多−く粘性が小さいことから固
型分粒子の沈降速度が速く、長期間安定に保存すること
が困難であるため、大量生産には必ずしも好適とはいえ
ない。
が65〜76重量%で、かつ粘度が1000〜8500
cpの釉薬は、水分量が多−く粘性が小さいことから固
型分粒子の沈降速度が速く、長期間安定に保存すること
が困難であるため、大量生産には必ずしも好適とはいえ
ない。
このため、本発明の実施にあたっては、予め、比較的水
分量が少なく粘性の高い、安定な釉薬を調製してお咎、
施釉する直前にこの釉薬に水を加えて再混練し、上記範
囲の水分量及び粘度を有する釉薬を調製して用いるのが
好ましい。この場合、予め調製しておく釉薬としては、
全固型分量に対する全水量が62重量%以下で、かつ粘
度が13000cp以上のものが、その安定性、使用時
に水を加えた時の混練性、釉薬特性の再現性等から特に
好ましい。
分量が少なく粘性の高い、安定な釉薬を調製してお咎、
施釉する直前にこの釉薬に水を加えて再混練し、上記範
囲の水分量及び粘度を有する釉薬を調製して用いるのが
好ましい。この場合、予め調製しておく釉薬としては、
全固型分量に対する全水量が62重量%以下で、かつ粘
度が13000cp以上のものが、その安定性、使用時
に水を加えた時の混練性、釉薬特性の再現性等から特に
好ましい。
本発明においては、釉薬をゾノトライト質珪酸カルシウ
ム成形体にスプレー、刷毛塗り等により施釉した後、1
00〜150℃で乾燥し、次いで最高温度800〜1o
OO℃で0.1〜10時間焼成する。特に、本発明にお
いては、100〜150℃で3時間以上の乾燥を行った
後、800〜1000℃で焼成を行うことにより、極め
て美麗で高特性の施釉珪酸カルシウム体を製造すること
ができる。なお、ゾノトライト貿珪酸カルシウム成形体
は、780℃付近でワラストナイト質に結晶形が変化す
るが、建築材料として要求される軽量性、耐火性等の特
性については、何ら影響を受けることはない。
ム成形体にスプレー、刷毛塗り等により施釉した後、1
00〜150℃で乾燥し、次いで最高温度800〜1o
OO℃で0.1〜10時間焼成する。特に、本発明にお
いては、100〜150℃で3時間以上の乾燥を行った
後、800〜1000℃で焼成を行うことにより、極め
て美麗で高特性の施釉珪酸カルシウム体を製造すること
ができる。なお、ゾノトライト貿珪酸カルシウム成形体
は、780℃付近でワラストナイト質に結晶形が変化す
るが、建築材料として要求される軽量性、耐火性等の特
性については、何ら影響を受けることはない。
[実施例]
以下、実施例について説明する。
実施例1
フリット釉100重量部、粘土5重量部及び第1表に示
す量の水を、各々ボットミルにとり、2〜3時間混合し
、更にCMC:2重量%溶液を20重量部加えて1〜2
時間時間口て、第1表に示す全水量及び粘度の釉薬No
、1〜No、10を調製した。この釉薬No、1〜No
、10を、各々、ゾノトライト買珪酸カルシウム成形体
にスプレーにて施釉し、120℃で3時間乾燥した後、
950℃で1時間焼成した。各々の施釉後の表面の状況
と焼成後の表面の状態の観察結果を第1表に示す。
す量の水を、各々ボットミルにとり、2〜3時間混合し
、更にCMC:2重量%溶液を20重量部加えて1〜2
時間時間口て、第1表に示す全水量及び粘度の釉薬No
、1〜No、10を調製した。この釉薬No、1〜No
、10を、各々、ゾノトライト買珪酸カルシウム成形体
にスプレーにて施釉し、120℃で3時間乾燥した後、
950℃で1時間焼成した。各々の施釉後の表面の状況
と焼成後の表面の状態の観察結果を第1表に示す。
第 1 表
*1 全水量=全水重量/
(フリット釉+粘度)重量×100
*2 評価基準
× ・・・施釉面に平滑性がなく、ピンホールが多量に
発生 O・・・良好(ただし、若干平滑性がラフでピンホール
が発生し易かった。) ◎ ・・・極めて良好 ム ・・・釉薬が側面まで垂れる。
発生 O・・・良好(ただし、若干平滑性がラフでピンホール
が発生し易かった。) ◎ ・・・極めて良好 ム ・・・釉薬が側面まで垂れる。
ムム・・・釉薬が側面へ多量に垂れて、裏面へも若干ま
わる。
わる。
第1表より、明らかなように全固型分量に対する全水量
が65〜76重量%で、粘度が1000〜8500cp
の釉薬(No、7〜10)を使用することにより、良好
な施釉面を得ることができる。
が65〜76重量%で、粘度が1000〜8500cp
の釉薬(No、7〜10)を使用することにより、良好
な施釉面を得ることができる。
実施例2
実施例1で調整された釉薬歯、1〜No、7を、各々、
ビーカーにとり、20℃で静置してその安定性を調べた
。結果を第2表に示す。
ビーカーにとり、20℃で静置してその安定性を調べた
。結果を第2表に示す。
第2表より、No、3〜No、7の全水量が62重量%
を超える釉薬では、粒子の沈降が速く、静置7日以後の
ものは、その沈降量が極めて多いことが明らかである。
を超える釉薬では、粒子の沈降が速く、静置7日以後の
ものは、その沈降量が極めて多いことが明らかである。
しかして、これらのものは、再度攪拌しても元の状態に
は戻らず、異質の釉薬に変性していた。
は戻らず、異質の釉薬に変性していた。
これに対して、全水量62重量%以下、粘度13000
cp以上のもの(No、1、No、2)であれば、長期
間安定に保存できることが確認された。
cp以上のもの(No、1、No、2)であれば、長期
間安定に保存できることが確認された。
第 2 表
評価基準 O・・・沈降なく安定
△ ・・・若干沈降あり
× ・・・沈降あり
××・・・沈降量
実施例3
実施例1で調整したNo、1の釉薬、即ち、下記組成及
び物性の釉薬を、各々、第3表に示す期間静置し、これ
に、ゾノトライト質珪酸カルシウム成形体に施釉する直
前に、13.75重量部の水を加えて再混練し、第3表
に示す全水量及び粘度の釉薬とし、この釉薬を用いてス
プレーにより施釉を行っ、二。
び物性の釉薬を、各々、第3表に示す期間静置し、これ
に、ゾノトライト質珪酸カルシウム成形体に施釉する直
前に、13.75重量部の水を加えて再混練し、第3表
に示す全水量及び粘度の釉薬とし、この釉薬を用いてス
プレーにより施釉を行っ、二。
釉薬No、1
全水量 57.1重量%
粘 度 27500cpこの場合
の、施釉作業性と施釉後の施釉面の状況を第3表に示す
。
の、施釉作業性と施釉後の施釉面の状況を第3表に示す
。
第3表より、全水量62重量%以下、粘度13000c
p以上の釉薬を作成しておき、これを使用する直前に、
水を加えて再混練することにより、良好な再現性のもと
に、本発明で特定する全水量及び粘度の釉薬を得ること
ができることが明らかである。
p以上の釉薬を作成しておき、これを使用する直前に、
水を加えて再混練することにより、良好な再現性のもと
に、本発明で特定する全水量及び粘度の釉薬を得ること
ができることが明らかである。
なお、得られた施釉ゾノトライト貿珪酸カルシウム成形
体を120℃で8時間乾燥し、最高温度900℃で60
分間保持して焼成したところ、いずれも極めて美麗な施
釉面を有する施釉珪酸カルシウム体を得ることができた
。
体を120℃で8時間乾燥し、最高温度900℃で60
分間保持して焼成したところ、いずれも極めて美麗な施
釉面を有する施釉珪酸カルシウム体を得ることができた
。
第 3 表
*1 全水量=全水重量/
(フリット軸子粘度)重量×100
*2 評価基準 ○・・・極めて良好
Δ・・・良好
[発明の効果]
以上詳述した通り、本発明の施釉珪酸カルシウム体の製
法は、全固型分量に対する全水量が65〜76重量%で
、かつ粘度が1000〜8500Cpである釉薬を、ゾ
ノトライト質珪酸カルシウム成形体に施釉し、次いで1
00〜150℃で乾燥した後、最高温度800〜100
0℃で0.1〜10時間焼成するものであって、軽量か
つ耐火性等に優れ、建材等として極めて有用なゾノトラ
イト買珪酸カルシウム成形体に良好な施釉作業性のもと
に容易に施釉面を形成することができる。
法は、全固型分量に対する全水量が65〜76重量%で
、かつ粘度が1000〜8500Cpである釉薬を、ゾ
ノトライト質珪酸カルシウム成形体に施釉し、次いで1
00〜150℃で乾燥した後、最高温度800〜100
0℃で0.1〜10時間焼成するものであって、軽量か
つ耐火性等に優れ、建材等として極めて有用なゾノトラ
イト買珪酸カルシウム成形体に良好な施釉作業性のもと
に容易に施釉面を形成することができる。
しかして、形成された施釉面は極めて平滑性に優れ、ピ
ンホールや割れ等の発生もなく、極めて良好な特性を有
する。しかも、施釉にあたっては、釉薬の水分量と粘性
を管理するため、釉薬の品質が安定化し、釉薬のロフト
による製品品質のバラツキもない。
ンホールや割れ等の発生もなく、極めて良好な特性を有
する。しかも、施釉にあたっては、釉薬の水分量と粘性
を管理するため、釉薬の品質が安定化し、釉薬のロフト
による製品品質のバラツキもない。
従って、本発明によれば、ゾノトライト買の美麗な表面
化粧材を得ることができ、建材等として適用する場合、
施工作業性は著しく改善される。
化粧材を得ることができ、建材等として適用する場合、
施工作業性は著しく改善される。
特許出願人 株式会社イナックス
代表取締役 伊奈輝三
Claims (2)
- (1)全固型分量に対する全水量が65〜76重量%で
、かつ粘度が1000〜8500cpである釉薬を、ゾ
ノトライト質珪酸カルシウム成形体に施釉し、次いで1
00〜150℃で乾燥した後、最高温度800〜100
0℃で0.1〜10時間焼成することを特徴とする施釉
珪酸カルシウム体の製法。 - (2)全固型分量に対する全水量が62重量%以下で、
かつ粘度が13000cp以上の釉薬に、施釉直前に水
を加えて混練し、全固型分量に対する全水量が65〜7
5重量%で、かつ粘度が1000〜8500cpである
釉薬とし、これを前記ゾノトライト質珪酸カルシウム成
形体に施釉することを特徴とする特許請求の範囲第1項
に記載の製法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15431486A JPS6325283A (ja) | 1986-07-01 | 1986-07-01 | 施釉珪酸カルシウム体の製法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15431486A JPS6325283A (ja) | 1986-07-01 | 1986-07-01 | 施釉珪酸カルシウム体の製法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6325283A true JPS6325283A (ja) | 1988-02-02 |
JPH032827B2 JPH032827B2 (ja) | 1991-01-17 |
Family
ID=15581409
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP15431486A Granted JPS6325283A (ja) | 1986-07-01 | 1986-07-01 | 施釉珪酸カルシウム体の製法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6325283A (ja) |
-
1986
- 1986-07-01 JP JP15431486A patent/JPS6325283A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH032827B2 (ja) | 1991-01-17 |
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