JPH0424315B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0424315B2 JPH0424315B2 JP12825084A JP12825084A JPH0424315B2 JP H0424315 B2 JPH0424315 B2 JP H0424315B2 JP 12825084 A JP12825084 A JP 12825084A JP 12825084 A JP12825084 A JP 12825084A JP H0424315 B2 JPH0424315 B2 JP H0424315B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cement
- sealing
- glazed
- molded body
- glaze
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
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Landscapes
- Aftertreatments Of Artificial And Natural Stones (AREA)
Description
<産業上の利用分野>
本発明は、施釉セメント製品を製造する方法の
改良に関する。 <従来技術> 従来からセメント製品は、建築業界で広く用い
られ、その表面の仕上げ方法も多様化して来てい
る。例えば、コンクリート面に、装飾を施した板
材やモザイクタイルなどの外装材を取り付ける方
法、或いは、予め施釉したセメント製品を用いて
外装工事を一部省略する方法など、色々の方法が
知られている。特に後者は最近施工の簡略化から
注目されている。 <発明が解決しようとする問題点> 従来施釉セメント製品は、セメント混練物を所
要形状に成形し、目止めを行なつたのち施釉し、
乾燥後、焼成する方法で製造されていた。その工
程中に行なわれる目止めは、水ガラスの水溶液を
塗布する方法、或いは釉薬にシリカ質紛末を添加
したものを塗布する方法が採用されていた。しか
し、このような従来行なわれていた目止め方法で
は、セメント成形体表面に無数に存在する凹部や
穴などの内部には、目止め材が充分に侵入せず目
止めが不完全であつた。そのために、焼成品の釉
面に気泡が残存したり、或いは貫入、ピンホー
ル、釉ちぢれなどが部分的に生じ、焼成品の美観
を低下させていた。 <問題を解決するための手段> 本発明者は、上記欠点を改良すべく、使用する
目止め材および目止め後の処理方法について鋭意
研究した結果、脱型後のセメント成形体表面をセ
メントで目止めしたのち、乾燥することによつ
て、焼成製品の釉面にピンホールやへこみを生じ
させることなく、きわめて平坦な仕上がりにさせ
ることができるとの知見を得て、本発明を完成さ
せた。 <発明の構成> 本発明の要旨は、施釉セメント製品を製造する
際、セメント成形体を、セメントで目止めし、乾
燥したのち施釉し焼成する施釉セメント製品の製
造方法にある。 本発明を詳細に説明する。本発明に使用するセ
メント成形体とは、所要量のセメント、骨材及び
水並びに必要に応じ各種混和材(例えば、高炉ス
ラグ、繊維類)を加えた混練物を、加圧脱水法、
押し出し法或いは、流し込み法によつて所望の形
状に成形したのち表乾状態ないしは、湿潤状態に
した硬化体である。 成形体にセメントで目止めする際、肝要なこと
は、成形体の表面が湿潤状態であることであり、
もし乾燥状態であると、セメントを用いてもほと
んど目止めの効果がない。したがつて、このよう
な場合には、成形体を水で十分にしめし湿潤状態
にしたのち、目止めを行なわなければならない。 目止め材に用いるセメントは、成形体の成形に
使用したセメントと必ずしも同一である必要はな
く、通常市販されているポルトランドセメント或
いは高炉セメント又はこれらの混合セメント等か
ら適宜選択される。 目止め材は、前述のセメントを紛状のまま使用
してもよいし水を加えてセメントペーストとして
から用いてもよい。セメントペーストを用いる場
合、水セメント比は20〜60重量%であることが好
ましいが、より好ましくは25〜35重量%である。 次に目止め方法について説明する。目止め材と
してセメントを紛状のまま用いる場合は、表面が
湿潤状態の成形体にヘラで軽く押えながらすり込
む。セメントペーストを用いる場合は、表面が湿
潤状態の成形体にセメントペーストを刷毛で塗布
するか又は、吹き付けたのち、あるいは成形体を
セメントペーストに浸漬したのちヘラで軽く押え
ながらすり込む。 なお、目止めの方法としては、セメントを紛状
のまま使用するよりも水を加え、セメントペース
トにして用いた方が目止めの効果が著しい。 乾燥条件は、特に限定されるものではないが、
工業的には70〜120℃、0.5〜6時間程度が好まし
い。この乾燥操作は、目止め後直ちに行なつて
も、また目止め材の硬化後に行なつてもよい。そ
の結果乾燥した成形体の表面は、開放気孔のない
一様な面が出来上がり、その後に塗布される釉薬
との接触をよくする。 本発明の方法に用いられる釉薬は、比較的低温
で溶融するものであれば市販のものが使用でき、
施釉方法は、従来法、例えばスプレー法や刷毛塗
り法で行なわれる。施釉された成形体は、慣用の
焼成炉によつて600℃〜800℃まで徐々に昇温し、
その温度で0.1〜2時間焼成される。 焼成後場合によつて水中養生してもよい。 実施例 1〜2 JIS−A−5406に従つて製造した湿潤状態の空
胴コンクリートブロツク(A種)を、7日間水中
養生したのち、該ブロツクの厚さ方向に対して直
角に切断し、二等分した。得られたそれぞれのブ
ロツク片の表面(平担面)に遊離している水を湿
布で拭き取り、ついでその面に普通ポルトランド
セメント又は水セメント比30重量%のセメントペ
ーストの目止め材をすり込んだ。ついでそれぞれ
の成形体を110℃で3時間乾燥した後、市販の釉
薬(日本琺瑯釉薬社製商品名No.4320釉薬)を塗布
し、電気炉に入れ常温から昇温させて700℃で、
20分間焼成した。焼成したそれぞれのブロツク片
の釉面について、ピンホール、貫入、釉ちぢれの
各項目について目視テストを行なつた。得られた
結果を表1に示した。 比較例 1〜3 前記実施例において、目止め材として水ガラス
水溶液(濃度10重量%)を用いた以外は実施例1
〜2に準じて処理したセメント成形体について得
られた目視テスト結果を表1に示した(比較例
1)。 また、前記実施例において、目止め材に、前述
した釉薬100重量部に対し、シリカ粉末(ブレー
ン値2500cm2/g)を50重量部配合した目止め材を
用いた以外は実施例1〜2に準じて処理した成形
体について得られた目視テスト結果を表1に示し
た(比較例2)。 さらに目止め材として比較例2に用いたシリカ
粉末を単独で用いた以外は実施例1〜2に準じて
処理したセメント成形体について得られた目視テ
スト結果を表1に示した(比較例3)。
改良に関する。 <従来技術> 従来からセメント製品は、建築業界で広く用い
られ、その表面の仕上げ方法も多様化して来てい
る。例えば、コンクリート面に、装飾を施した板
材やモザイクタイルなどの外装材を取り付ける方
法、或いは、予め施釉したセメント製品を用いて
外装工事を一部省略する方法など、色々の方法が
知られている。特に後者は最近施工の簡略化から
注目されている。 <発明が解決しようとする問題点> 従来施釉セメント製品は、セメント混練物を所
要形状に成形し、目止めを行なつたのち施釉し、
乾燥後、焼成する方法で製造されていた。その工
程中に行なわれる目止めは、水ガラスの水溶液を
塗布する方法、或いは釉薬にシリカ質紛末を添加
したものを塗布する方法が採用されていた。しか
し、このような従来行なわれていた目止め方法で
は、セメント成形体表面に無数に存在する凹部や
穴などの内部には、目止め材が充分に侵入せず目
止めが不完全であつた。そのために、焼成品の釉
面に気泡が残存したり、或いは貫入、ピンホー
ル、釉ちぢれなどが部分的に生じ、焼成品の美観
を低下させていた。 <問題を解決するための手段> 本発明者は、上記欠点を改良すべく、使用する
目止め材および目止め後の処理方法について鋭意
研究した結果、脱型後のセメント成形体表面をセ
メントで目止めしたのち、乾燥することによつ
て、焼成製品の釉面にピンホールやへこみを生じ
させることなく、きわめて平坦な仕上がりにさせ
ることができるとの知見を得て、本発明を完成さ
せた。 <発明の構成> 本発明の要旨は、施釉セメント製品を製造する
際、セメント成形体を、セメントで目止めし、乾
燥したのち施釉し焼成する施釉セメント製品の製
造方法にある。 本発明を詳細に説明する。本発明に使用するセ
メント成形体とは、所要量のセメント、骨材及び
水並びに必要に応じ各種混和材(例えば、高炉ス
ラグ、繊維類)を加えた混練物を、加圧脱水法、
押し出し法或いは、流し込み法によつて所望の形
状に成形したのち表乾状態ないしは、湿潤状態に
した硬化体である。 成形体にセメントで目止めする際、肝要なこと
は、成形体の表面が湿潤状態であることであり、
もし乾燥状態であると、セメントを用いてもほと
んど目止めの効果がない。したがつて、このよう
な場合には、成形体を水で十分にしめし湿潤状態
にしたのち、目止めを行なわなければならない。 目止め材に用いるセメントは、成形体の成形に
使用したセメントと必ずしも同一である必要はな
く、通常市販されているポルトランドセメント或
いは高炉セメント又はこれらの混合セメント等か
ら適宜選択される。 目止め材は、前述のセメントを紛状のまま使用
してもよいし水を加えてセメントペーストとして
から用いてもよい。セメントペーストを用いる場
合、水セメント比は20〜60重量%であることが好
ましいが、より好ましくは25〜35重量%である。 次に目止め方法について説明する。目止め材と
してセメントを紛状のまま用いる場合は、表面が
湿潤状態の成形体にヘラで軽く押えながらすり込
む。セメントペーストを用いる場合は、表面が湿
潤状態の成形体にセメントペーストを刷毛で塗布
するか又は、吹き付けたのち、あるいは成形体を
セメントペーストに浸漬したのちヘラで軽く押え
ながらすり込む。 なお、目止めの方法としては、セメントを紛状
のまま使用するよりも水を加え、セメントペース
トにして用いた方が目止めの効果が著しい。 乾燥条件は、特に限定されるものではないが、
工業的には70〜120℃、0.5〜6時間程度が好まし
い。この乾燥操作は、目止め後直ちに行なつて
も、また目止め材の硬化後に行なつてもよい。そ
の結果乾燥した成形体の表面は、開放気孔のない
一様な面が出来上がり、その後に塗布される釉薬
との接触をよくする。 本発明の方法に用いられる釉薬は、比較的低温
で溶融するものであれば市販のものが使用でき、
施釉方法は、従来法、例えばスプレー法や刷毛塗
り法で行なわれる。施釉された成形体は、慣用の
焼成炉によつて600℃〜800℃まで徐々に昇温し、
その温度で0.1〜2時間焼成される。 焼成後場合によつて水中養生してもよい。 実施例 1〜2 JIS−A−5406に従つて製造した湿潤状態の空
胴コンクリートブロツク(A種)を、7日間水中
養生したのち、該ブロツクの厚さ方向に対して直
角に切断し、二等分した。得られたそれぞれのブ
ロツク片の表面(平担面)に遊離している水を湿
布で拭き取り、ついでその面に普通ポルトランド
セメント又は水セメント比30重量%のセメントペ
ーストの目止め材をすり込んだ。ついでそれぞれ
の成形体を110℃で3時間乾燥した後、市販の釉
薬(日本琺瑯釉薬社製商品名No.4320釉薬)を塗布
し、電気炉に入れ常温から昇温させて700℃で、
20分間焼成した。焼成したそれぞれのブロツク片
の釉面について、ピンホール、貫入、釉ちぢれの
各項目について目視テストを行なつた。得られた
結果を表1に示した。 比較例 1〜3 前記実施例において、目止め材として水ガラス
水溶液(濃度10重量%)を用いた以外は実施例1
〜2に準じて処理したセメント成形体について得
られた目視テスト結果を表1に示した(比較例
1)。 また、前記実施例において、目止め材に、前述
した釉薬100重量部に対し、シリカ粉末(ブレー
ン値2500cm2/g)を50重量部配合した目止め材を
用いた以外は実施例1〜2に準じて処理した成形
体について得られた目視テスト結果を表1に示し
た(比較例2)。 さらに目止め材として比較例2に用いたシリカ
粉末を単独で用いた以外は実施例1〜2に準じて
処理したセメント成形体について得られた目視テ
スト結果を表1に示した(比較例3)。
【表】
【表】
目視テストの評価法
○:良 △:やや不良 ×:不良
実施例3比較例4〜5 セメント成形体としてセメント瓦を用い、その
その表面をセメントペーストで目止めしたのち、
施釉前と後で乾燥(110℃、3時間)した以外は
全て実施例2の要領にしたがつて実験し、得られ
た目視テスト結果をそれぞれ実施例3及び比較例
4として表2に示した。さらに、実施例3に用い
たセメント成形体を、目止め前に乾燥した以外は
実施例3に準じて処理し、得られた目視テスト結
果を比較例5として表2に示した。
○:良 △:やや不良 ×:不良
実施例3比較例4〜5 セメント成形体としてセメント瓦を用い、その
その表面をセメントペーストで目止めしたのち、
施釉前と後で乾燥(110℃、3時間)した以外は
全て実施例2の要領にしたがつて実験し、得られ
た目視テスト結果をそれぞれ実施例3及び比較例
4として表2に示した。さらに、実施例3に用い
たセメント成形体を、目止め前に乾燥した以外は
実施例3に準じて処理し、得られた目視テスト結
果を比較例5として表2に示した。
【表】
目視テストの評価法 表1に同じ
<効果> 本発明は、前述したようにセメント成形体にセ
メントをすり込んだ後、施釉直前に乾燥し、つい
で施釉し焼成することにより、釉面に貫入、ピン
ホール、釉ちぢれなどが全くなく、焼成後の釉面
に部分的に小気泡が集中したりすることがなく、
美麗な釉面が出来上がる。従つて本発明による施
釉セメント製品は建材品として好適である。
<効果> 本発明は、前述したようにセメント成形体にセ
メントをすり込んだ後、施釉直前に乾燥し、つい
で施釉し焼成することにより、釉面に貫入、ピン
ホール、釉ちぢれなどが全くなく、焼成後の釉面
に部分的に小気泡が集中したりすることがなく、
美麗な釉面が出来上がる。従つて本発明による施
釉セメント製品は建材品として好適である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 施釉セメント製品を製造する際、セメント成
形体をセメントで目止めし、乾燥したのち施釉し
焼成することを特徴とする施釉セメント製品の製
造方法。 2 特許請求の範囲第1項において、セメントで
目止めする際、セメントペーストをセメント成形
体にすり込むことを特徴とする施釉セメント製品
の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12825084A JPS616188A (ja) | 1984-06-21 | 1984-06-21 | 施釉セメント製品の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12825084A JPS616188A (ja) | 1984-06-21 | 1984-06-21 | 施釉セメント製品の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS616188A JPS616188A (ja) | 1986-01-11 |
JPH0424315B2 true JPH0424315B2 (ja) | 1992-04-24 |
Family
ID=14980205
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP12825084A Granted JPS616188A (ja) | 1984-06-21 | 1984-06-21 | 施釉セメント製品の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS616188A (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63236635A (ja) * | 1987-03-24 | 1988-10-03 | 株式会社 志野陶石 | ラスタ膜を備えた無機質プレ−ト |
JPH01138165A (ja) * | 1987-11-24 | 1989-05-31 | Inax Corp | 施釉セメント製品の製造方法 |
-
1984
- 1984-06-21 JP JP12825084A patent/JPS616188A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS616188A (ja) | 1986-01-11 |
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