JPS632437Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本考案は例えば機械加工により切粉、切削油等
が付着した被洗浄物を洗浄する場合に用いられる
洗浄装置に関するものである。

（従来の技術） 従来の洗浄装置は、一般的に洗浄装置本体に設
けた洗浄室内へ被洗浄物を搬入し、洗浄室内に配
設した洗浄ノズルによつて、被洗浄物に対して洗
浄液を噴出して洗浄し、洗浄後被洗浄物にエアー
を吹き付け乾燥し、該被洗浄物を次工程へ搬出し
ている。

一方洗浄ノズルより噴出する洗浄液は洗浄装置
本体の近傍に隣接して配設した洗浄タンクより洗
浄ポンプによつて洗浄液を吸い上げ、配管を介し
て洗浄ノズルに供給し、洗浄ノズルより洗浄液を
噴出して被洗浄物を洗浄し、洗浄後の汚液は、洗
浄室よりシユートを介して洗浄装置の近傍に隣接
しかつ洗浄タンクと連通したろ過装置へ送り、ろ
過装置によりろ過した後、再び洗浄液を洗浄タン
クへ戻している。すなわちろ過した洗浄液を再び
利用して順次被洗浄物の洗浄を行う循環システム
を採用している。

（考案が解決しようとする問題点） しかしながらこの様な従来技術においては、次
のような問題点を有している。

洗浄装置の近傍に洗浄タンク及びろ過装置を
設けているため、広い設置面積を多く必要とす
る。

各装置間を配管等で連絡しているため配管が
複雑となり、メーンテナンス費用が高くなる。

各装置がそれぞれ独立した製品であるため、
設備費用が高くなる。

本考案は上記した問題点を解決し、効果的に洗
浄及び洗浄後の汚液をろ過することのできる洗浄
装置を提供することを目的とする。

（問題点を解決するための手段） 本考案は上記問題点解決のための手段として、
洗浄装置本体の上部に洗浄・乾燥室を、下部に洗
浄タンクをそれぞれ設け、該洗浄タンクの内部を
第１の仕切板にて汚液槽と洗浄液槽とに区画し、
該汚液槽内に前記洗浄液槽に連通する流体路であ
る液体用連通管を配設し、該連通管の汚液槽側の
開口部を汚液槽の底部近傍まで延びた第２の仕切
板によつて囲繞し、連通管の汚液槽側の開口部の
下方に、汚液槽の底部に開口して臨む洗浄液回収
室を連成し、汚液槽内に該汚液槽の底部と沿つ
た、底面部と該底面部より上方傾斜した傾斜面部
とよりなるセツトラープレートを配設し、該セツ
トラープレートの洗浄液回収室と対向する箇所に
第１の磁石板を装着し、更に汚液槽内に、前記第
１の磁石板によつて吸着された異物を移動して排
出させるための異物排出用コンベアを配設し、セ
ツトラープレートの傾斜面部の汚液槽内の汚液面
と対応する箇所には、第２の磁石板を設けたこと
を特徴とするものである。

（作用） この様に洗浄・乾燥室を洗浄タンクの上方に設
ける構成にすれば、洗浄・乾燥室の分だけ洗浄装
置全体としての設置面積が縮少し、更に被洗浄物
を洗浄した後の汚液は、洗浄・乾燥室から洗浄タ
ンクに自然落下するので、該両者間に設けられる
配管が簡素化されることになる。

（実施例） 以下、本考案の一実施例を第１図、第２図及び
第３図について説明すると、１は洗浄装置本体で
その上部に洗浄・乾燥室２が設けられ、洗浄装置
本体１の下部には後述する洗浄タンク９が設けら
れている。洗浄・乾燥室２には、第１洗浄ステー
シヨン４及び第２洗浄ステーシヨン５更にエアー
ブローステーシヨン（乾燥ステーシヨン）６及び
アイドルステーシヨン７が配設され収納され洗
浄・乾燥室２の下部には底部３０と該底部３０の
排出口３０′が設けられている。洗浄・乾燥室２
の前方には、図示しない被洗浄物を受け入れるた
めのローデイングステーシヨン３が設置され、洗
浄・乾燥室２の後方には、洗浄された被洗浄物を
搬出するためのアンローデイングステーシヨン８
が設置されている。

一方、洗浄タンク９の内部は、その適所を横切
つて固着した第１の仕切板１０により、洗浄液槽
１１と汚液槽１２とに区画されている。汚液槽１
２内に流体路としての管（液体用連通管）１３が
配設され、管１３の一側は第３図に示すように第
１の仕切板１０に形成した開口１０′と連結され
ている。管１３の他側は、第１の仕切板１０と対
向した汚液槽１２の側壁に固着されている。１５
は管１３の汚液槽１２側の部分に形成した開口１
４を囲繞する第２の仕切板で、この仕切板１５の
下端部は、汚液槽１２の底部近傍まで延びてい
る。１６は仕切板１５と管１３とで形成された洗
浄液回収室で、洗浄液回収室１６は汚液槽１２の
底部に臨んで下方に開口している。汚液槽１２内
に配設されたセツトラープレート１７は、汚液槽
１２の底部に沿つた底面部１７′及び該底面部１
７′より上方へ向けて傾斜して延びる傾斜面部１
７″を有している。セツトラープレート１７の底
面部１７′の洗浄液回収室１６と対向する箇所に
は、第１の磁石板１８が装着されている。この磁
石板１８の大きさは、洗浄液回収室１６の開口部
よりも大きく形成されている。またセツトラープ
レート１７の傾斜部１７″の汚液面２９と接する
付近には、第２の磁石板２８が設けられている。
汚液槽１２の内部にはチツプコンベア１９が配設
され、チツプコンベア１９にはセツトラープレー
ト１７と係合してセツトラープレート１７上に付
着したチツプ等の異物を排出するための受板２０
が適所に複数装着されている。チツプコンベア１
９はスプロケツト２１と係合している。２２は駆
動モータで、その駆動軸に装着したスプロケツト
２３はチエーン２４を介して前記スプロケツト２
１と連結されている。２６は汚液槽１２に第２図
中CC′方向に回動自在に装着されたスクレーパ２
６で、スクレーパ２６には回動を抑制するストツ
パー２７が持着されている。

したがつて駆動モータ２２が回転すると、その
回転はスプロケツト２３及びチエーン２４を介し
てチツプコンベア１９へ伝達され、チツプコンベ
ア１９が回転することによつて、セツトラープレ
ート１７に付着したチツプ等の異物が受板２０に
よつて掻き集められ、排出口２５から排出される
ように構成されている。

次に、以上のような構成からなる洗浄装置の作
用を説明する。洗浄装置本体１のローデイングス
テーシヨン３に搬送された被洗浄物は、洗浄乾燥
室２の第１洗浄ステーシヨン４及び第２洗浄ステ
ーシヨン５にて洗浄され、さらにエアブローステ
ーシヨン６にて乾燥された後、アイドルステーシ
ヨン７を経てアンローデイングステーシヨン８へ
送られ搬出される。

一方、洗浄乾燥室２において被洗浄物を洗浄し
た後の汚液は底部３０に自然落下し、その底部３
０の排出口３０′より直接汚液槽１２内へ送られ
る。汚液が汚液槽１２内へ送られるとその汚液中
に含まれているチツプ等のあるものはそのままセ
ツトラープレート１７の底板１７′上に沈澱する。
又沈澱せずに汚液に浮遊している小さいチツプ等
は、汚液が必ず第２の仕切板１５の下を通つて洗
浄液回収室１６へ流れるので、汚液が該第２の仕
切板１５とセツトラープレート１７間を通過する
際に洗浄液回収室１６と対向して配設された磁石
板１８によりセツトラープレート１７に磁力吸着
される。このように汚液からはこれに含まれてい
るチツプ等がすべて確実に除去される。すなわ
ち、汚液はきれいにろ過され、洗浄液回収室１６
より管１３を通つて洗浄液として洗浄液槽１１へ
送られる。そこで、セツトラープレート１７上に
付着したチツプ等は、駆動モータ２２の回転によ
りチツプコンベア１９を回転させると、そのチツ
プコンベア１９に装着した受板２０が、セツトラ
ープレート１７の表面上を掻きながらチツプ等を
排出口２５まで運んでいくので、チツプコンベア
１９によつて前記チツプ等が排出口２５より排出
される。

また受板２０がセツトラープレート１７の傾斜
面部１７″において汚液面２９より脱出する際、
汚液はその受板２０の両側より流れ出る。この場
合、その汚液中に混つてチツプ等も流れ出そうと
するが、汚液槽２９とセツトラープレート１７の
傾斜面部１７″の汚液面２９と対応する箇所には
磁石板２８が配設されているので、汚液と共に流
出しようとするチツプ等は、磁石板２８によりセ
ツトラープレート１７に確実に磁力により吸着さ
れる。したがつて前記チツプ等は汚液に混つて流
れ出すことなく、受板２０によりチツプ等は確実
に排出口２５まで運ばれ排出される。

このようにチツプ等は受板２０により排出口２
５から排出されるのであるが、受板２０に付着し
たチツプ等はその受板２０がスクレーパー２６に
当接すると、チツプコンベア１９が持続して回転
しているので、そのスクレーパ２６は第２図C′方
向に回動し、受板２０に付着したチツプ等を確実
に除去分離する。受板２０がスクレーパ２６の先
端を通過すると、今度は受板２０がチツプコンベ
ア１９の回転に従つて回転するので、スクレーパ
２６はストツパー２６に当接するまで第２図中Ｃ
方向に回動することになる。以下、順次このよう
にして、被洗浄物の洗浄及び洗浄液の汚液のろ過
は繰り返される。

本考案は前記実施例に限定されるものではな
く、他にも多くの適用範囲がある。たとえば汚液
槽の両側に洗浄液槽を設け、汚液槽内に配設した
流体用連通管の両側より、汚液槽にてろ過された
後の洗浄液を両洗浄液槽１１へ流すようにしても
よい。また異物排出用コンベアは洗浄装置本体１
の被洗浄物の流れ方向Ｆ（第１図参照）と平行に
なるように配設する構成としてもよい。

（考案の効果） 以上のようにして本考案洗浄装置は、洗浄装置
本体の上部に洗浄・乾燥室を、下部に洗浄タンク
を設けた構成としたので洗浄装置本体の設置面積
が洗浄・乾燥室に相当する面積の分だけ低減し、
更に洗浄装置本体の構造を利用して洗浄タンク等
を一体に組込む構成としたので設備費用が大巾に
低減しかつ構造が簡単になるとともに配管が簡素
化されるとともにメーンテナンスが容易となる等
の効果を生じる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本考案の洗浄装置の正面図、第２図は
第１図のAA′拡大断面図、第３図は第２図の
BB′拡大断面図を示す。 １……洗浄装置本体、２……洗浄・乾燥室、９
……洗浄タンク、１０……第１の仕切板、１１…
…洗浄液槽、１２……汚液槽、１３……管、１４
……開口、１５……第２の仕切板、１６……洗浄
液回収室、１７……セツトラープレート、１８，
２８……磁石板、１９……チツプコンベア、２９
……汚液面。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 洗浄装置本体に被洗浄物を載置し、該被洗浄物
   に向けて洗浄液を噴出して、これを洗浄・乾燥
   し、この洗浄後の汚液をろ過して再利用するよう
   にした洗浄装置において、洗浄装置本体の上部に
   洗浄・乾燥室を設けると共に、前記洗浄装置本体
   の下部に洗浄タンクを設け、該洗浄タンクの内部
   を第１の仕切板によつて汚液槽と洗浄液槽とに区
   画し、該汚液槽内に前記洗浄液槽に連通する液体
   用連通管を配設し、該連通管の前記汚液槽側の開
   口部に、該開口部を囲繞して該汚液槽の底部近傍
   まで延びる第２の仕切板によつて、前記汚液槽の
   底部に臨む洗浄液回収室を形成し、前記汚液槽内
   に、該汚液槽の底部に沿つた底面部と、該底面部
   より上方へ傾斜して延びる傾斜面部とからなるセ
   ツトラープレートを配設し、該セツトラープレー
   トの前記洗浄液回収室と対向する箇所に第１の磁
   石板を装着し、更に前記汚液槽内に、前記セツト
   ラープレート上の異物を排出するコンベアを配設
   し、該セツトラープレートの傾斜面部であつて前
   記汚液槽内の汚液面と対応する箇所に第２の磁石
   板を装着したことを特徴とする洗浄装置。