JPS6323992B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6323992B2 JPS6323992B2 JP55086129A JP8612980A JPS6323992B2 JP S6323992 B2 JPS6323992 B2 JP S6323992B2 JP 55086129 A JP55086129 A JP 55086129A JP 8612980 A JP8612980 A JP 8612980A JP S6323992 B2 JPS6323992 B2 JP S6323992B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- aniline
- monomer
- residue
- acetone
- yield
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Quinoline Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、2,2,4―トリメチル―1,2―
ジヒドロキノリンの製造法に関する。
ジヒドロキノリンの製造法に関する。
2,2,4―トリメチル―1,2―ジヒドロキ
ノリンは高分子物質の老化防止剤として有用な化
合物であり、このものは通常、塩酸、ヨウ素など
の酸性触媒の存在下、アニリンにアセトンまたは
ジアセトンアルコールまたはメシチルオキシドを
加熱状態で作用させ、脱水縮合反応によつて製造
されることが知られているが、上記酸性触媒下の
反応時には2,2,4―トリメチル―1,2―ジ
ヒドロキノリン単量体(以下モノマーと呼ぶ)以
外に、その重合生成物(以下ポリマーと呼ぶ)お
よびその他の不純物が種々副生することが知られ
ている。
ノリンは高分子物質の老化防止剤として有用な化
合物であり、このものは通常、塩酸、ヨウ素など
の酸性触媒の存在下、アニリンにアセトンまたは
ジアセトンアルコールまたはメシチルオキシドを
加熱状態で作用させ、脱水縮合反応によつて製造
されることが知られているが、上記酸性触媒下の
反応時には2,2,4―トリメチル―1,2―ジ
ヒドロキノリン単量体(以下モノマーと呼ぶ)以
外に、その重合生成物(以下ポリマーと呼ぶ)お
よびその他の不純物が種々副生することが知られ
ている。
たとえばアニリンに対して0.03モル比の塩酸を
触媒として含むアニリンを100℃に保温しながら、
5.5時間にわたつてアセトンを作用させる方法、
あるいはアニリンに対して1/7.5モル比の塩酸
を触媒として含むアニリンを130〜140℃に保温
し、6時間にわたつてアセトンを作用させる方法
等が知られているが、前者の方法では僅か約28%
のモノマーと約13%の残渣が得られるにすぎず、
仕込んだアニリンの大半は未反応のままであり、
後者の方法ではポリマー等の残渣が約64%であつ
て、モノマーは収率約19%で得られるにすぎな
い。
触媒として含むアニリンを100℃に保温しながら、
5.5時間にわたつてアセトンを作用させる方法、
あるいはアニリンに対して1/7.5モル比の塩酸
を触媒として含むアニリンを130〜140℃に保温
し、6時間にわたつてアセトンを作用させる方法
等が知られているが、前者の方法では僅か約28%
のモノマーと約13%の残渣が得られるにすぎず、
仕込んだアニリンの大半は未反応のままであり、
後者の方法ではポリマー等の残渣が約64%であつ
て、モノマーは収率約19%で得られるにすぎな
い。
このようなことから本発明者らは2,2,4―
トリメチル―1,2―ジヒドロキノリンの製造法
について研究を行い、さきに触媒としてp―トル
エンスルホン酸を用いる方法を見出した(特願昭
53−115587号)が、この方法によつても残渣が19
%程度副生し、目的とするモノマー収率は約60%
であつた。
トリメチル―1,2―ジヒドロキノリンの製造法
について研究を行い、さきに触媒としてp―トル
エンスルホン酸を用いる方法を見出した(特願昭
53−115587号)が、この方法によつても残渣が19
%程度副生し、目的とするモノマー収率は約60%
であつた。
その後、本発明者らはよりすぐれたモノマーの
製造法を開発すべく更に検討した結果、触媒とし
て三弗化ホウ素―アニリンコンプレツクスを用い
ることにより、これらの方法による場合よりもモ
ノマーの収率が向上し、残渣量も減少することを
見い出し本発明に至つた。
製造法を開発すべく更に検討した結果、触媒とし
て三弗化ホウ素―アニリンコンプレツクスを用い
ることにより、これらの方法による場合よりもモ
ノマーの収率が向上し、残渣量も減少することを
見い出し本発明に至つた。
すなわち本発明は、アニリンとアセトン(また
はジアセトンアルコールまたはメシチルオキシ
ド)とを反応させて、2,2,4―トリメチル―
1,2―ジヒドロキノリン(モノマー)を製造す
る方法において、三弗化ホウ素―アニリンコンプ
レツクスを触媒として用いることにより、モノマ
ーの収率を向上させ、副生残渣量の低減を可能な
らしめたモノマーの改良製造法である。
はジアセトンアルコールまたはメシチルオキシ
ド)とを反応させて、2,2,4―トリメチル―
1,2―ジヒドロキノリン(モノマー)を製造す
る方法において、三弗化ホウ素―アニリンコンプ
レツクスを触媒として用いることにより、モノマ
ーの収率を向上させ、副生残渣量の低減を可能な
らしめたモノマーの改良製造法である。
本発明において触媒として用いる三弗化ホウ素
―アニリンコンプレツクスは、公知の方法により
調製され、その使用量は特に制限されないが、反
応速度、経済性などの点からアニリン1モルに対
して0.01〜0.2モル程度が好ましい。
―アニリンコンプレツクスは、公知の方法により
調製され、その使用量は特に制限されないが、反
応速度、経済性などの点からアニリン1モルに対
して0.01〜0.2モル程度が好ましい。
その他の反応条件については、従来公知の方法
が準用され、特に制限を受けるものではない。
が準用され、特に制限を受けるものではない。
次に本発明を実施例により説明する。
実施例 1
アセトン導入装置、温度計、撹拌機、コンデン
サーを備えた500ml4つ口フラスコにアニリン
139.7g(1.5モル)およびBF3アニリンコンプレ
ツクス16.6g〔1:1としてBF37.0g(0.103モ
ル)〕を仕込み、加熱する。内温を140〜145℃に
保ちながら、523gのアセトンを6時間で導入す
る。留出した未反応アセトンは脱水反応で生成し
た水を含んでいるので、精留して回収し、次回の
反応に用いる。反応物をそのまま140〜145℃に保
ちながら徐々に減圧にし、未反応のアニリンを回
収すると減圧度10mmHg以上で4.0gのアニリン
が回収された。その後内温を190℃まで上昇し、
減圧度を3mmHgまでにすると純度95%のモノマ
ー183.5gが得られ、47.0gの残渣(7.0gのBF3
を含む)が副生した。
サーを備えた500ml4つ口フラスコにアニリン
139.7g(1.5モル)およびBF3アニリンコンプレ
ツクス16.6g〔1:1としてBF37.0g(0.103モ
ル)〕を仕込み、加熱する。内温を140〜145℃に
保ちながら、523gのアセトンを6時間で導入す
る。留出した未反応アセトンは脱水反応で生成し
た水を含んでいるので、精留して回収し、次回の
反応に用いる。反応物をそのまま140〜145℃に保
ちながら徐々に減圧にし、未反応のアニリンを回
収すると減圧度10mmHg以上で4.0gのアニリン
が回収された。その後内温を190℃まで上昇し、
減圧度を3mmHgまでにすると純度95%のモノマ
ー183.5gが得られ、47.0gの残渣(7.0gのBF3
を含む)が副生した。
純度換算したときのモノマーの収量は174.3g
であり、収率は67.1%である。また、副生した残
渣からBF3を除去した残りは40.0gであり、仕込
アニリンに対して15.4%である。
であり、収率は67.1%である。また、副生した残
渣からBF3を除去した残りは40.0gであり、仕込
アニリンに対して15.4%である。
実施例 2
実施例1と同様にしてアニリン139.7g(1.5モ
ル)およびBF3アニリンコンプレツクス8.3gを
フラスコに仕込み、加熱する。内温を100〜105℃
に保ちながら871.2gのアセトンを8時間で導入
する。以下、実施例1と同様に後処理を行うと
191.1g(純度94.1%)のモノマーと40.4gの残渣
(BF33.5gを含む)が得られた。
ル)およびBF3アニリンコンプレツクス8.3gを
フラスコに仕込み、加熱する。内温を100〜105℃
に保ちながら871.2gのアセトンを8時間で導入
する。以下、実施例1と同様に後処理を行うと
191.1g(純度94.1%)のモノマーと40.4gの残渣
(BF33.5gを含む)が得られた。
アニリンに対するモノマーの収率は69.2%、残
渣は14.2%である。
渣は14.2%である。
比較例
実施例2の方法において、BF3アニリンコンプ
レツクス8.3gのかわりにパラトルエンスルホン
酸―水塩14.3gを使用する以外は同様に反応を行
い、同様に後処理を行うと165.7g(純度93.3%)
のモノマーと61.8gの残渣(12.9gのp―トルエ
ンスルホン酸を含む)が得られた。
レツクス8.3gのかわりにパラトルエンスルホン
酸―水塩14.3gを使用する以外は同様に反応を行
い、同様に後処理を行うと165.7g(純度93.3%)
のモノマーと61.8gの残渣(12.9gのp―トルエ
ンスルホン酸を含む)が得られた。
アニリンに対するモノマー収率は59.5%、残渣
は18.8%である。
は18.8%である。
実施例 3
実施例1と同様にして、アニリン139.7g(1.5
モル)およびBF3アニリンコンプレツクス16.6g
をフラスコに仕込み、加熱する。内温を100〜105
℃に保ちながら、ジアセトンアルコール697gを
10時間で導入する。この時、過剰のジアセトンア
ルコールはアセトンとなり、副生する水を同伴し
て系外へ留出する。以下、実施例1と同様の蒸留
操作を行つて、189.2g(純度93.8%)のモノマ
ーと42.3gの残渣(BF37.0gを含む)が得られ
た。
モル)およびBF3アニリンコンプレツクス16.6g
をフラスコに仕込み、加熱する。内温を100〜105
℃に保ちながら、ジアセトンアルコール697gを
10時間で導入する。この時、過剰のジアセトンア
ルコールはアセトンとなり、副生する水を同伴し
て系外へ留出する。以下、実施例1と同様の蒸留
操作を行つて、189.2g(純度93.8%)のモノマ
ーと42.3gの残渣(BF37.0gを含む)が得られ
た。
アニリンに対するモノマーの収率は68.3%、残
渣は13.6%である。
渣は13.6%である。
実施例 4
実施例1と同様にして、アニリン139.7g(1.5
モル)およびBF3アニリンコンプレツクス8.3g
をフラスコに仕込み、加熱する。内温を140〜145
℃に保ちながら、メシチルオキシド515.2gを6
時間で導入する。この時、過剰のメシチルオキシ
ドは大半がアセトンと分解し、副生する水を同伴
して系外へ留出する。以下、実施例1と同様の蒸
留操作を行つて、187.0g(純度93.0%)のモノ
マーと35.0gの残渣(BF33.5gを含む)が得られ
た。
モル)およびBF3アニリンコンプレツクス8.3g
をフラスコに仕込み、加熱する。内温を140〜145
℃に保ちながら、メシチルオキシド515.2gを6
時間で導入する。この時、過剰のメシチルオキシ
ドは大半がアセトンと分解し、副生する水を同伴
して系外へ留出する。以下、実施例1と同様の蒸
留操作を行つて、187.0g(純度93.0%)のモノ
マーと35.0gの残渣(BF33.5gを含む)が得られ
た。
アニリンに対るモノマー収率は66.9%、残渣は
12.1%である。
12.1%である。
Claims (1)
- 1 アニリンとアセトン(またはジアセトンアル
コールまたはメシチルオキシド)とを反応させる
にあたり、触媒として三弗化ホウ素―アニリンコ
ンプレツクスを用いることを特徴とする2,2,
4―トリメチル―1,2―ジヒドロキノリンの製
造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8612980A JPS5711967A (en) | 1980-06-24 | 1980-06-24 | Preparation of 2,2,4-trimethyl-1,2-dihydroquinoline |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8612980A JPS5711967A (en) | 1980-06-24 | 1980-06-24 | Preparation of 2,2,4-trimethyl-1,2-dihydroquinoline |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5711967A JPS5711967A (en) | 1982-01-21 |
| JPS6323992B2 true JPS6323992B2 (ja) | 1988-05-18 |
Family
ID=13878091
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8612980A Granted JPS5711967A (en) | 1980-06-24 | 1980-06-24 | Preparation of 2,2,4-trimethyl-1,2-dihydroquinoline |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5711967A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6115873A (ja) * | 1984-06-29 | 1986-01-23 | Sumitomo Chem Co Ltd | 2,2,4−トリメチル−1,2−ジヒドロキノリンの製造方法 |
-
1980
- 1980-06-24 JP JP8612980A patent/JPS5711967A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5711967A (en) | 1982-01-21 |
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