JPS63238708A - リ−キ−saw共振子 - Google Patents
リ−キ−saw共振子Info
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- JPS63238708A JPS63238708A JP7264987A JP7264987A JPS63238708A JP S63238708 A JPS63238708 A JP S63238708A JP 7264987 A JP7264987 A JP 7264987A JP 7264987 A JP7264987 A JP 7264987A JP S63238708 A JPS63238708 A JP S63238708A
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- Japan
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- idt
- resonator
- substrate
- leaky
- saw resonator
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 28
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims abstract description 15
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 abstract description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 21
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 5
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
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- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は高周波領域で温度特性が優れたり一キー8AW
K関する。
K関する。
(従来技術)
従来、VHF〜UHF帯の高周波領域において基本波に
よる直接発振を得るには一般にSTカット水晶基板を用
いたSAW共振子が広く用いられている。SAW共振子
はIDTの電極周期によって周波数が決まるため微細加
工技術によシ高周波化が容易であシ、又、Qが高く小型
化が可能且つ、量産性にも優れている。しかしSTカッ
ト水晶基板を用いたSAW共振子は温度特性が2次曲線
となるのみならずその2次温度係数は−3,4X10
/’Cと大きく −20’〜+80℃の温度範囲では
85ppmも周波数が変化し。
よる直接発振を得るには一般にSTカット水晶基板を用
いたSAW共振子が広く用いられている。SAW共振子
はIDTの電極周期によって周波数が決まるため微細加
工技術によシ高周波化が容易であシ、又、Qが高く小型
化が可能且つ、量産性にも優れている。しかしSTカッ
ト水晶基板を用いたSAW共振子は温度特性が2次曲線
となるのみならずその2次温度係数は−3,4X10
/’Cと大きく −20’〜+80℃の温度範囲では
85ppmも周波数が変化し。
との温度特性は安定な発振器に使われている一般のAT
カット水晶振動子に比べても未だ劣っているため、ST
カット水晶によるSAW共振子の用途は限定されていた
。
カット水晶振動子に比べても未だ劣っているため、ST
カット水晶によるSAW共振子の用途は限定されていた
。
これに対して、SAWと同様にIDT 4Cよって励振
でき基板内部にエネルギーを放射しながら伝播するリー
キー波については、−74,3°回転Yカット付近の水
晶基板を用いるときわめて温度特性が優れていることが
清水ら(文献電子通信学会論文誌、 Vol、J68−
C、No、8.p、613(1985)、) によっ
て示された。このようなカットの水晶基板を用いたリー
キーSAW共振子は一20°〜+80℃の温度範囲で±
10ppm以下の周波数変化を有し、ATカット水晶振
動子並の特性が得られる。
でき基板内部にエネルギーを放射しながら伝播するリー
キー波については、−74,3°回転Yカット付近の水
晶基板を用いるときわめて温度特性が優れていることが
清水ら(文献電子通信学会論文誌、 Vol、J68−
C、No、8.p、613(1985)、) によっ
て示された。このようなカットの水晶基板を用いたリー
キーSAW共振子は一20°〜+80℃の温度範囲で±
10ppm以下の周波数変化を有し、ATカット水晶振
動子並の特性が得られる。
しかしながら、このリーキーSAW共振子は基板内部に
エネルギーを放射し外から伝播する波を利用しているた
め反射器間にエネルギーが閉じ込もシ難く、従来からQ
が高く々らないのが欠点であった。
エネルギーを放射し外から伝播する波を利用しているた
め反射器間にエネルギーが閉じ込もシ難く、従来からQ
が高く々らないのが欠点であった。
そこでQを高くするためにアルミニウム電極の膜厚Hと
Qの関係を実験によシ詳細に調べた結果’、IDTの周
期りで基準化した膜厚H/Lが H/L≦0.0045 とするとQが高くなることが判りた。
Qの関係を実験によシ詳細に調べた結果’、IDTの周
期りで基準化した膜厚H/Lが H/L≦0.0045 とするとQが高くなることが判りた。
との膜厚条件はSTカット水晶におけるSAW共振子で
用いられる膜厚に比べて極めて薄く。
用いられる膜厚に比べて極めて薄く。
特に高周波領域では数百A以下となる。
例えば共振周波数300MHzにおいてH/L=0.0
03とするにはL”’;13μmよりH=39OAとな
υ、このような極めて薄い膜厚に表るとアルミニウム薄
膜のシート抵抗は390Aの膜厚で単位正方形当υで2
Ω/口程度に達する。
03とするにはL”’;13μmよりH=39OAとな
υ、このような極めて薄い膜厚に表るとアルミニウム薄
膜のシート抵抗は390Aの膜厚で単位正方形当υで2
Ω/口程度に達する。
電極膜厚が極めて薄くなシシート抵抗が大きくなると、
IDTやバスバーのオーミックロスが増加して共振抵抗
CIが大きくなりQが低下する。
IDTやバスバーのオーミックロスが増加して共振抵抗
CIが大きくなりQが低下する。
従って、膜厚を薄くすることにより基板の中に漏洩する
波が減少してQが高くなるはずのところ薄い膜厚のシー
ト抵抗によシQが低下する分が大きくなシ、十分Qを高
くすることができなかった。
波が減少してQが高くなるはずのところ薄い膜厚のシー
ト抵抗によシQが低下する分が大きくなシ、十分Qを高
くすることができなかった。
又、膜厚が極めて薄いとバスバーにポンディング線を超
音波にてボンディングしても付着せず、バスバ一部分の
みを厚くするなどの手法を用いる必要があシ、製造工程
が複雑になるという欠点があった。
音波にてボンディングしても付着せず、バスバ一部分の
みを厚くするなどの手法を用いる必要があシ、製造工程
が複雑になるという欠点があった。
(発明の目的)
本発明は上述の如き従来のリーキーSAW共振子のQが
小さい欠点を解消するためになされたものであって、高
周波領域に於いて温度特性に優れしかもQの高いリーキ
ーSAW共振子を提供することを目的とする。
小さい欠点を解消するためになされたものであって、高
周波領域に於いて温度特性に優れしかもQの高いリーキ
ーSAW共振子を提供することを目的とする。
(発明の概要)
上述の目的を達成する為9本発明に於いては水晶基板に
設けたグループ中にAlを埋め込んだ構造によ、9 I
DTを構成し、基板表面上に突き出ているAlの高さh
Oをh o / L=0.0025±0.002(Lは
IDT周期)なる関係となるように形成する。
設けたグループ中にAlを埋め込んだ構造によ、9 I
DTを構成し、基板表面上に突き出ているAlの高さh
Oをh o / L=0.0025±0.002(Lは
IDT周期)なる関係となるように形成する。
(発明の実施例)
以下1本発明を図面に示した実施例に基づいて詳細に説
明する。
明する。
第2図は1ボートのリーキーSAW共振子のパターンを
示した構成図であって、−74°10′回転Yカット水
晶基板10表面にリーキー波を励振するためのIDT2
とリーキー波を閉じ込めて共振子を構成する為の反射器
3とを波の進行方向に沿って配置する。このリーキーS
AW共振子の中心線4,4′断面を第1図に示す。本図
に於いて斜線部5はアルミニウムであシ、その中で6は
水晶基板表面に例えばCF4ガスによるドライエツチン
グで堀ったグループの中にAJ?が埋まっている部分(
深さhg)、7はそのAlが基板表面から上に突き出た
部分(グループのないAJ膜膜厚色区別してhOで表わ
す)を示す。
示した構成図であって、−74°10′回転Yカット水
晶基板10表面にリーキー波を励振するためのIDT2
とリーキー波を閉じ込めて共振子を構成する為の反射器
3とを波の進行方向に沿って配置する。このリーキーS
AW共振子の中心線4,4′断面を第1図に示す。本図
に於いて斜線部5はアルミニウムであシ、その中で6は
水晶基板表面に例えばCF4ガスによるドライエツチン
グで堀ったグループの中にAJ?が埋まっている部分(
深さhg)、7はそのAlが基板表面から上に突き出た
部分(グループのないAJ膜膜厚色区別してhOで表わ
す)を示す。
第3図はこの基板表面から上に突き出た部分7のAlの
高さく膜厚)hoY変えたときのQの変化を詳細に調べ
、IDTの周期りで基準化したho/L、:Qとの関係
を示した図であって。
高さく膜厚)hoY変えたときのQの変化を詳細に調べ
、IDTの周期りで基準化したho/L、:Qとの関係
を示した図であって。
用いた1!極パターンはL=14μm、IDT対数が1
00対でCO8型の重みづけがしてあり2反射器は両側
に各500本、電極交叉幅は40Lで共振周波数は28
1 M、Hzである。Alが埋まっているグループの深
さhgは1500Aであり1反射器もIDTと同じグル
ープの深さとAl膜厚で形成する。同図において破線で
示した曲線は、IDTと反射器共に従来のA[K極のみ
で形成したときのAl膜厚に対するQの変化を比較のた
め示したものである。
00対でCO8型の重みづけがしてあり2反射器は両側
に各500本、電極交叉幅は40Lで共振周波数は28
1 M、Hzである。Alが埋まっているグループの深
さhgは1500Aであり1反射器もIDTと同じグル
ープの深さとAl膜厚で形成する。同図において破線で
示した曲線は、IDTと反射器共に従来のA[K極のみ
で形成したときのAl膜厚に対するQの変化を比較のた
め示したものである。
第3図よシ従来一般のAl電極のみで電極を形成した場
合にはh o /L=0.004付近でQが最大となり
、 h o /L=o、o O3以下になると電極膜厚
が非常に薄いためシート抵抗が大きくなりオーミックロ
スによってQが急激に低下することが判る。例えばh
o /L==o、o 02のときL=14μmならばA
/膜厚は280Aと薄く、このシート抵抗は3Q/口以
上にもなってしまう。これに対して、Adの埋まったグ
ループの深さが150OAあるときはとのAlのシート
抵抗だけで0.2Q/口以下に下るので、基板表面上に
突き出ているAlの膜厚が非常に薄くてもシート抵抗は
殆んど変化がない。従ってh o / L=0.Q 0
2 S付近でQが最大となりその値もグループなしの場
合に比べて大きく、A7のシート抵抗の影響を受けずに
Qの高い共振子が得られる。これは1)−キーSAWの
場合膜厚が厚くなる種基板内部へ放射するエネルギーが
多くなり、よ)リーキーとなる性質をもっているため膜
厚が薄い程表面でエネルギーがよく閉じ込まりQが高く
なるからであると考えられる。
合にはh o /L=0.004付近でQが最大となり
、 h o /L=o、o O3以下になると電極膜厚
が非常に薄いためシート抵抗が大きくなりオーミックロ
スによってQが急激に低下することが判る。例えばh
o /L==o、o 02のときL=14μmならばA
/膜厚は280Aと薄く、このシート抵抗は3Q/口以
上にもなってしまう。これに対して、Adの埋まったグ
ループの深さが150OAあるときはとのAlのシート
抵抗だけで0.2Q/口以下に下るので、基板表面上に
突き出ているAlの膜厚が非常に薄くてもシート抵抗は
殆んど変化がない。従ってh o / L=0.Q 0
2 S付近でQが最大となりその値もグループなしの場
合に比べて大きく、A7のシート抵抗の影響を受けずに
Qの高い共振子が得られる。これは1)−キーSAWの
場合膜厚が厚くなる種基板内部へ放射するエネルギーが
多くなり、よ)リーキーとなる性質をもっているため膜
厚が薄い程表面でエネルギーがよく閉じ込まりQが高く
なるからであると考えられる。
冑、基板表面上に突き出たAJの膜厚が零の場合、即ち
グループの中に埋まっているAlグループの深さとが同
一となった場合は、Qは非常に小さくなってしまった。
グループの中に埋まっているAlグループの深さとが同
一となった場合は、Qは非常に小さくなってしまった。
従って、実用上十分大きなQの得られる範囲は、は”r
ho/L=Q。
ho/L=Q。
0025±0.002であると考えられる。
以上、IDTと反射器が共にグループの中にAlを埋め
た構造の場合で説明したが1反射器はシート抵抗の影響
が殆んど無いので反射器はAl電極だけとするか、又は
グループのみで構成しても良い。この場合もAlの膜厚
およびグループの深さは前述の基板表面上に突き出たA
l膜厚hOと同じくすれば良い。又、1−ポートのリー
キーSAW共振子についてのみ説明したが9本発明は2
−ボートのリーキーSAW共振子にも適用可能である。
た構造の場合で説明したが1反射器はシート抵抗の影響
が殆んど無いので反射器はAl電極だけとするか、又は
グループのみで構成しても良い。この場合もAlの膜厚
およびグループの深さは前述の基板表面上に突き出たA
l膜厚hOと同じくすれば良い。又、1−ポートのリー
キーSAW共振子についてのみ説明したが9本発明は2
−ボートのリーキーSAW共振子にも適用可能である。
(発明の効果)
本発明は以上説明したように構成するので。
高周波領域で温度特性の良好なリーキーSAW共振子の
Qを高める上で著しい効果がある。
Qを高める上で著しい効果がある。
第1図は本発明に係るリーキーSAW共振子の*極構造
を示す断面図、第2図はリーキーSAW共振子の電極幅
酸を示す図、第3図は基板表面上に突き出ているAJの
膜厚を電極周期で基準化した膜厚に対する共振子のQの
変化を示す図である。 1・・・・・・・・・水晶基板、 2・−・・−・
・・・IDT 。 3・・・・・・・・・反射器、 5・・・・・・・
・・アルミニウム6・・・・・・・・・Alの埋まった
グループ。 7・・・・・・・・・Alが基板表面上に突き出た部分
。 特許出願人 東洋通信機株式会社 第 1 m 第 2 図 Q Q、00zO,QOll O,0040
,00gん/L 第 3 図
を示す断面図、第2図はリーキーSAW共振子の電極幅
酸を示す図、第3図は基板表面上に突き出ているAJの
膜厚を電極周期で基準化した膜厚に対する共振子のQの
変化を示す図である。 1・・・・・・・・・水晶基板、 2・−・・−・
・・・IDT 。 3・・・・・・・・・反射器、 5・・・・・・・
・・アルミニウム6・・・・・・・・・Alの埋まった
グループ。 7・・・・・・・・・Alが基板表面上に突き出た部分
。 特許出願人 東洋通信機株式会社 第 1 m 第 2 図 Q Q、00zO,QOll O,0040
,00gん/L 第 3 図
Claims (2)
- (1)−73°〜−76°回転Yカット水晶基板上に、
基板内部にエネルギーを放射しながら伝播するリーキー
(leaky)SAW波を励振するための少なくとも1
対のインタディジタルトランスジェーサ(IDT)電極
と、該リーキーSAW波を閉じ込めて共振子を構成する
ための反射器をもつリーキーSAW共振子において、I
DTを基板表面に設けたグループ中にAlを埋め込んだ
構造の電極とし、基板表面上に突出したAlの高さho
をIDTの周期Lに対して ho/L=0.0025±0.002 としたことを特徴とするリーキーSAW共振子。 - (2)前記共振子の反射器が基板表面に設けたグループ
中にAlを埋め込んだ構造であって、基板表面上に突出
するAlの高さhoが ho/L=0.0025±0.002 であることを特徴とする特許請求の範囲(1)記載のリ
ーキーSAW共振子。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7264987A JPH0817303B2 (ja) | 1987-03-26 | 1987-03-26 | リ−キ−saw共振子 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7264987A JPH0817303B2 (ja) | 1987-03-26 | 1987-03-26 | リ−キ−saw共振子 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63238708A true JPS63238708A (ja) | 1988-10-04 |
JPH0817303B2 JPH0817303B2 (ja) | 1996-02-21 |
Family
ID=13495437
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7264987A Expired - Lifetime JPH0817303B2 (ja) | 1987-03-26 | 1987-03-26 | リ−キ−saw共振子 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0817303B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02149114A (ja) * | 1988-11-30 | 1990-06-07 | Nippon Dempa Kogyo Co Ltd | 弾性表面波装置 |
WO2010070816A1 (ja) * | 2008-12-17 | 2010-06-24 | 株式会社村田製作所 | 弾性表面波装置 |
JP2012129735A (ja) * | 2010-12-14 | 2012-07-05 | Murata Mfg Co Ltd | 弾性表面波装置及び磁気センサ |
US9059676B2 (en) | 2011-10-18 | 2015-06-16 | Nihon Dempa Kogyo Co., Ltd. | Surface acoustic wave device and electronic component |
-
1987
- 1987-03-26 JP JP7264987A patent/JPH0817303B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02149114A (ja) * | 1988-11-30 | 1990-06-07 | Nippon Dempa Kogyo Co Ltd | 弾性表面波装置 |
WO2010070816A1 (ja) * | 2008-12-17 | 2010-06-24 | 株式会社村田製作所 | 弾性表面波装置 |
US8169121B2 (en) | 2008-12-17 | 2012-05-01 | Murata Manufactoring Co., Ltd. | Surface acoustic wave device including electrode fingers partially disposed in grooves in a piezoelectric substrate |
JP5152342B2 (ja) * | 2008-12-17 | 2013-02-27 | 株式会社村田製作所 | 弾性表面波装置 |
JP2012129735A (ja) * | 2010-12-14 | 2012-07-05 | Murata Mfg Co Ltd | 弾性表面波装置及び磁気センサ |
US9059676B2 (en) | 2011-10-18 | 2015-06-16 | Nihon Dempa Kogyo Co., Ltd. | Surface acoustic wave device and electronic component |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0817303B2 (ja) | 1996-02-21 |
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