JPH0817303B2 - リ−キ−saw共振子 - Google Patents

リ−キ−saw共振子

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JPH0817303B2
JPH0817303B2 JP7264987A JP7264987A JPH0817303B2 JP H0817303 B2 JPH0817303 B2 JP H0817303B2 JP 7264987 A JP7264987 A JP 7264987A JP 7264987 A JP7264987 A JP 7264987A JP H0817303 B2 JPH0817303 B2 JP H0817303B2
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JP
Japan
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substrate
leaky
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saw resonator
leaky saw
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JP7264987A
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JPS63238708A (ja
Inventor
孝夫 森田
Original Assignee
東洋通信機株式会社
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Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は高周波領域で温度特性が優れたリーキーSAW
に関する。
(従来技術) 従来,VHF〜UHF帯の高周波領域において基本波による
直接発振を得るには一般にSTカット水晶基板を用いたSA
W共振子が広く用いられている。SAW共振子はIDTの電極
周期によって周波数が決まるため微細加工技術により高
周波化が容易であり,又,Qが高く小型化が可能且つ,量
産性にも優れている。しかしSTカット水晶基板を用いた
SAW共振子は温度特性が2次曲線となるのみならずその
2次温度係数は−3.4×10-8/℃2と大きく−20°〜+80
℃の温度範囲では85ppmも周波数が変化し,この温度特
性は安定な発振器に使われている一般のATカット水晶振
動子に比べても未だ劣っているため,STカット水晶によ
るSAW共振子の用途は限定されていた。
これに対して,SAWと同様にIDTによって励振でき基板
内部にエネルギーを放射しながら伝播するリーキー波に
ついては,−74.3°回転Yカット付近の水晶基板を用い
るときわめて温度特性が優れていることが清水ら(文献
電子通信学会論文誌,Vol.J68−C,No.8,p.613(198
5).)によって示された。このようなカットの水晶基
板を用いたリーキーSAW共振子は−20°〜+80℃の温度
範囲で±10ppm以下の周波数変化を有し,ATカット水晶振
動子並の特性が得られる。
しかしながら、このリーキーSAW共振子は基板内部に
エネルギーを放射しながら伝播する波を利用しているた
め反射器間にエネルギーが閉じ込もり難く,従来からQ
が高くならないのが欠点であった。
そこでQを高くするためにアルミニウム電極の膜厚H
とQの関係を実験により詳細に調べた結果,IDTの周期L
で基準化した膜厚H/Lが H/L≦0.0045 とするとQが高くなることが判った。
この膜厚条件はSTカット水晶におけるSAW共振子で用
いられる膜厚に比べて極めて薄く,特に高周波領域では
数百Å以下となる。
例えば共振周波数300MHzにおいてH/L=0.003とするに
はL≒13μmよりH=390Åとなり,このような極めて
薄い膜厚になるとアルミニウム薄膜のシート抵抗は390
Åの膜厚で単位正方形当りで2Ω/□程度に達する。
電極膜厚が極めて薄くなりシート抵抗が大きくなる
と,IDTやバスバーのオーミックロスが増加して共振抵抗
CIが大きくなりQが低下する。
従って,膜厚を薄くすることにより基板の中に漏洩す
る波が減少してQが高くなるはずのところ薄い膜厚のシ
ート抵抗によりQが低下する分が大きくなり,十分Qを
高くすることができなかった。
又,膜厚が極めて薄いとバスバーにボンディング線を
超音波にてボンディングしても付着せず,バスバー部分
のみを厚くするなどの手法を用いる必要があり,製造工
程が複雑になるという欠点があった。
(発明の目的) 本発明は上述の如き従来のリーキーSAW共振子のQが
小さい欠点を解消するためになされたものであって,高
周波領域に於いて温度特性に優れしかもQの高いリーキ
ーSAW共振子を提供することを目的とする。
(発明の概要) 上述の目的を達成する為、本発明に於いては水晶基板
に設けたグルーブ中にAlを埋め込んだ構造によりIDTを
構成し、基板表面上にAlを突出するように形成する。
(発明の実施例) 以下,本発明を図面に示した実施例に基づいて詳細に
説明する。
第2図は1ポートのリーキーSAW共振子のパターンを
示した構成図であって,−74°10′回転Yカット水晶基
板1の表面にリーキー波を励振するためのIDT2とリーキ
ー液を閉じ込めて共振子を構成する為の反射器3とを波
の進行方向に沿って配置する。このリーキーSAW共振子
の中心線4,4′断面を第1図に示す。本図に於いて斜線
部5はアルミニウムであり,その中で6は水晶基板表面
に例えばCF4ガスによるドライエッチングで堀ったグル
ーブの中にAlが埋まっている部分(深さhg),7はそのAl
が基板表面から上に突き出た部分(グルーブのないAl膜
厚Hと区別してhoで表わす)を示す。
第3図はこの基板表面から上に突き出た部分7のAlの
高さ(膜厚)hoを変えたときのQの変化を詳細に調べ,I
DTの周期Lで基準化したho/LとQとの関係を示した図で
あって,用いた電極パターンはL=14μm,IDT対数が100
対でCOS型の重みづけがしてあり,反射器は両側に各500
本,電極交叉幅は40Lで共振周波数は281MHzである。Al
が埋まっているグルーブの深さhgは1500Åであり,反射
器もIDTと同じグルーブの深さとAl膜厚で形成する。同
図において破線で示した曲線は,IDTと反射器共に従来の
Al電極のみで形成したときのAl膜厚に対するQの変化を
比較のため示したものである。
第3図より従来一般のAl電極のみで電極を形成した場
合にはho/L=0.004付近でQが最大となり,ho/L=0.003
以下になると電極膜厚が非常に薄いためシート抵抗が大
きくなりオーミックロスによってQが急激に低下するこ
とが判る。例えばho/L=0.002のときL=14μmならばA
l膜厚は280Åと薄く,このシート抵抗は3Ω/□以上に
もなってしまう。これに対して,Alの埋まったグルーブ
の深さが1500ÅあるときはこのAlのシート抵抗だけで0.
2Ω/□以下に下るので,基板表面上に突き出ているAl
の膜厚が非常に薄くてもシート抵抗は殆んど変化がな
い。従ってho/L=0.0025付近でQが最大となりその値も
グルーブなしの場合に比べて大きく,Alのシート抵抗の
影響を受けずにQの高い共振子が得られる。これはリー
キーSAWの場合膜厚が厚くなる程基板内部へ放射するエ
ネルギーが多くなり,よりリーキーとなる性質をもって
いるため膜厚が薄い程表面でエネルギーがよく閉じ込ま
りQが高くなるからであると考えられる。
尚,基板表面上に突き出たAlの膜厚が零の場合,即ち
グルーブの中に埋まっているAlグルーブの深さとが同一
となった場合は,Qは非常に小さくなってしまった。従っ
て,実用上十分大きなQの得られる範囲は,ほゞho/L=
0.0025±0.002であると考えられる。
以上,IDTと反射器が共にグルーブの中にAlを埋めた構
造の場合で説明したが、反射器はシート抵抗の影響が殆
んど無いので反射器はAl電極だけとするか,又はグルー
ブのみで構成しても良い。この場合もAlの膜厚およびグ
ルーブの深さは前述の基板表面上に突き出たAl膜厚hoと
同じくすれば良い。又,1−ポートのリーキーSAW共振子
についてのみ説明したが,本発明は2−ポートのリーキ
ーSAW共振子にも適用可能である。
(発明の効果) 本発明は以上説明したように構成するので,高周波領
域で温度特性の良好なリーキーSAW共振子のQを高める
上で著しい効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係るリーキーSAW共振子の電極構造を
示す断面図,第2図はリーキーSAW共振子の電極構成を
示す図,第3図は基板表面上に突き出ているAlの膜厚を
電極周期で基準化した膜厚に対する共振子のQの変化を
示す図である。 1……水晶基板,2……IDT,3……反射器,5……アルミニ
ウム,6……Alの埋まったグルーブ,7……Alが基板表面上
に突き出た部分。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】−73°〜−76°回転Yカット水晶基板上
    に、基板内部にエネルギーを放射しながら伝播するリー
    キー(leaky)SAW波を励振するための少なくとも1対の
    インタディジタルトランスジューサ(IDT)電極と、該
    リーキーSAW波を閉じ込めて共振子を構成するための反
    射器をもつリーキーSAW共振子において、 IDTは基板表面に設けたグルーブ中にAlを埋め込んだ構
    造の電極とし、基板表面上にAlを突出したことを特徴と
    するリーキーSAW共振子。
  2. 【請求項2】前記共振子の反射器が基板表面に設けたグ
    ルーブ中にAlを埋め込んだ構造であって、基板表面上に
    Alを突出したことを特徴とする特許請求の範囲(1)記
    載のリーキーSAW共振子。
JP7264987A 1987-03-26 1987-03-26 リ−キ−saw共振子 Expired - Lifetime JPH0817303B2 (ja)

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JPS63238708A JPS63238708A (ja) 1988-10-04
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CN102257729B (zh) 2008-12-17 2014-03-12 株式会社村田制作所 弹性表面波装置
JP5924861B2 (ja) * 2010-12-14 2016-05-25 株式会社村田製作所 弾性表面波装置及び磁気センサ
JP2013102418A (ja) 2011-10-18 2013-05-23 Nippon Dempa Kogyo Co Ltd 弾性表面波素子及び電子部品

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