JPS63237216A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
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- JPS63237216A JPS63237216A JP7222887A JP7222887A JPS63237216A JP S63237216 A JPS63237216 A JP S63237216A JP 7222887 A JP7222887 A JP 7222887A JP 7222887 A JP7222887 A JP 7222887A JP S63237216 A JPS63237216 A JP S63237216A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は磁気ディスク装置に用いられる磁気記録媒体の
製造方法に関する。さらに詳しくは、保護膜上に2層の
潤滑膜を形成することを特徴とする磁気記録媒体の製造
方法に関する。
製造方法に関する。さらに詳しくは、保護膜上に2層の
潤滑膜を形成することを特徴とする磁気記録媒体の製造
方法に関する。
[従来の技術]
近年、磁気ディスク装置は記録の高密度化の傾向にある
ことから、不動作時には磁気ヘッドと磁気記録媒体が接
触し、動作時には磁気記録媒体の回転による空気流の作
用で磁気ヘッドが浮上するコンタクト・スタート・スト
ップ方式(以下、C8S方式という)の磁気ディスク装
置が用いられている。このためこの方式においては、磁
気ヘッドと磁気記録媒体とを保護する目的から、磁気記
録媒体表面にill滑剤を塗布する必要がある。
ことから、不動作時には磁気ヘッドと磁気記録媒体が接
触し、動作時には磁気記録媒体の回転による空気流の作
用で磁気ヘッドが浮上するコンタクト・スタート・スト
ップ方式(以下、C8S方式という)の磁気ディスク装
置が用いられている。このためこの方式においては、磁
気ヘッドと磁気記録媒体とを保護する目的から、磁気記
録媒体表面にill滑剤を塗布する必要がある。
第2図は従来の方法、たとえば特開昭59−10742
8号公報に開示された方法によって潤滑膜が形成された
磁気記録媒体の部分断面図であり、図中、(111は磁
気記録媒体、aりは潤滑膜、(3)は親木基を有する有
機フッ化化合物、(4)はパーフルオロアルキルポリエ
ーテル、(5)は保護膜、(6)は磁性膜、(刀は下地
基板である。
8号公報に開示された方法によって潤滑膜が形成された
磁気記録媒体の部分断面図であり、図中、(111は磁
気記録媒体、aりは潤滑膜、(3)は親木基を有する有
機フッ化化合物、(4)はパーフルオロアルキルポリエ
ーテル、(5)は保護膜、(6)は磁性膜、(刀は下地
基板である。
前記磁気記録媒体の潤滑膜は、たとえば潤滑剤として優
れた性質を有するバーフルオロアルキルポリエーテルの
フレオン(デュポン社製、フッ化炭化水素の商品名)溶
液に、塗布液の濡れ性改善などの目的で親水基を有する
有機フッ化化合物を添加したものが用いられ、薄く均一
に形成されている。
れた性質を有するバーフルオロアルキルポリエーテルの
フレオン(デュポン社製、フッ化炭化水素の商品名)溶
液に、塗布液の濡れ性改善などの目的で親水基を有する
有機フッ化化合物を添加したものが用いられ、薄く均一
に形成されている。
[発明が解決しようとする問題点]
しかしながら、前記の方法では膜厚は均一にはなるが、
塗布後のパーフルオロアルキルポリエーテル(4)層中
に、親水基を有する有機フッ化化合物(3)が分散して
いるため、潤滑ma2Jと保護膜(Sとの結合力が弱い
ものとなっている。そのため、始動時の磁気ヘッドが浮
上するまで、または停止時までの回転接触を繰返すこと
により、潤滑膜0りが飛散し、ついには磁気ヘッドまた
は磁気記録媒体表面を損傷してしまうという問題点があ
る。
塗布後のパーフルオロアルキルポリエーテル(4)層中
に、親水基を有する有機フッ化化合物(3)が分散して
いるため、潤滑ma2Jと保護膜(Sとの結合力が弱い
ものとなっている。そのため、始動時の磁気ヘッドが浮
上するまで、または停止時までの回転接触を繰返すこと
により、潤滑膜0りが飛散し、ついには磁気ヘッドまた
は磁気記録媒体表面を損傷してしまうという問題点があ
る。
本発明は上、記のような問題点を解消するためになされ
たもので、均一な厚さの潤滑膜を形成するとともにa滑
膜と保護膜との間の結合力を強くし、回転接触の繰返し
によっても潤滑膜の飛散を少なくすることにより、磁気
ヘッドと磁気記録媒体の損傷を抑制することができる磁
気記録媒体の製造方法を提供することを目的とする。
たもので、均一な厚さの潤滑膜を形成するとともにa滑
膜と保護膜との間の結合力を強くし、回転接触の繰返し
によっても潤滑膜の飛散を少なくすることにより、磁気
ヘッドと磁気記録媒体の損傷を抑制することができる磁
気記録媒体の製造方法を提供することを目的とする。
[問題点を解決するための手段]
本発明は下地基板上に磁性膜、保護膜を順次形成したの
ち、保護膜上に親水基を有する有機フッ化化合物を塗布
して膜を形成し、さらに該膜上にパーフルオロアルキル
ポリエーテルを塗布して2層の潤滑膜を形成することを
特徴とする磁気記録媒体の製造方法に関する。
ち、保護膜上に親水基を有する有機フッ化化合物を塗布
して膜を形成し、さらに該膜上にパーフルオロアルキル
ポリエーテルを塗布して2層の潤滑膜を形成することを
特徴とする磁気記録媒体の製造方法に関する。
[作用および実施例]
本発明の製造方法においては、下地基板上に磁性膜、保
護膜、親水基を有する有機フッ化化合物の膜、パーフル
オロアルキルポリエーテルの膜を順次形成することによ
り磁気記録媒体かえられる。
護膜、親水基を有する有機フッ化化合物の膜、パーフル
オロアルキルポリエーテルの膜を順次形成することによ
り磁気記録媒体かえられる。
本発明の製造方法の一実施例によってえられた磁気記録
媒体を第1図に示す。図中、(1)は磁気記録媒体、(
2は潤滑膜、(3)親水基を有する有機フッ化化合物、
(4)はパーフルオロアルキルポリエーテル、(Sは保
護膜、(6)は磁性膜、(7)は下地基板である。
媒体を第1図に示す。図中、(1)は磁気記録媒体、(
2は潤滑膜、(3)親水基を有する有機フッ化化合物、
(4)はパーフルオロアルキルポリエーテル、(Sは保
護膜、(6)は磁性膜、(7)は下地基板である。
前記下地基板としてはとくに限定されず、従来より磁気
記録媒体に用いられているものがあげられ、その具体例
としては、たとえばN合金、N−1合金、M −Zn合
金、#−sn合金などからなるもの、またこれらにN1
−Pめっき、N1−Wめっき、旧−Bめっき、Ni−C
oめっきなどが施こされたものがあげられる。
記録媒体に用いられているものがあげられ、その具体例
としては、たとえばN合金、N−1合金、M −Zn合
金、#−sn合金などからなるもの、またこれらにN1
−Pめっき、N1−Wめっき、旧−Bめっき、Ni−C
oめっきなどが施こされたものがあげられる。
前記磁性膜としてはとくに限定されず、従来より磁気記
録媒体に用いられているものがあげられ、その具体例と
しては、たとえばCo−N1−P 。
録媒体に用いられているものがあげられ、その具体例と
しては、たとえばCo−N1−P 。
Co−Ni−Cu1Co−Ni−Pb、 Co−1−B
、 Co−Ni−めっき膜などで、通常、無電解めっ
き法などによって下地基板上に形成されたものがあげら
れる。
、 Co−Ni−めっき膜などで、通常、無電解めっ
き法などによって下地基板上に形成されたものがあげら
れる。
前記保護膜としてはとくに限定されず、従来より磁気記
録媒体に用いられているものがあげられ、その具体例と
しては、たとえばS、03、M2O3、Nx 、 r;
cなどで、通常、真空蒸着、スパッタ法などによって磁
性膜上に形成された厚さ 100〜1000人のものが
あげられる。
録媒体に用いられているものがあげられ、その具体例と
しては、たとえばS、03、M2O3、Nx 、 r;
cなどで、通常、真空蒸着、スパッタ法などによって磁
性膜上に形成された厚さ 100〜1000人のものが
あげられる。
前記親水基を有する有機フッ化化合物は、単独で保護膜
上に塗布されるので、従来のようにパーフルオロアルキ
ルポリエーテルに該有機フッ化化合物を添加して塗布し
たばあいよりも保護膜と結合しゃすい親水基が保護膜と
接しやすくなり、該有機フッ化化合物と保護膜との結合
数が多くなり、保護膜と強く結合する。なお、該有機フ
ッ化化合物は、パーフルオロアルキルポリエーテルとも
親和性の高い物質である。
上に塗布されるので、従来のようにパーフルオロアルキ
ルポリエーテルに該有機フッ化化合物を添加して塗布し
たばあいよりも保護膜と結合しゃすい親水基が保護膜と
接しやすくなり、該有機フッ化化合物と保護膜との結合
数が多くなり、保護膜と強く結合する。なお、該有機フ
ッ化化合物は、パーフルオロアルキルポリエーテルとも
親和性の高い物質である。
かかる親水基を有する有機フッ化化合物としては、カル
ボニル基、水酸基、アミノ基、スルホン酸基などを有す
るパーフルオロアルキルポリエーテル、パーフルオロポ
リエチレンアルコール、パーフルオロポリプロピレンな
どがあげられ、これらのなかでもカルボニル基を有する
パーフルオロアルキルポリエーテルやパーフルオロポリ
エチレンアルコールは、保護膜とのなじみがよく、結合
力が強くなるので好ましい。さらに炭素原子数が8〜1
00のものが好ましい。
ボニル基、水酸基、アミノ基、スルホン酸基などを有す
るパーフルオロアルキルポリエーテル、パーフルオロポ
リエチレンアルコール、パーフルオロポリプロピレンな
どがあげられ、これらのなかでもカルボニル基を有する
パーフルオロアルキルポリエーテルやパーフルオロポリ
エチレンアルコールは、保護膜とのなじみがよく、結合
力が強くなるので好ましい。さらに炭素原子数が8〜1
00のものが好ましい。
その具体例としては、たとえばタライトツクス157(
デュポン社製のカルボキシル基を有するバ−フルオロア
ルキルポリエーテル)などがあげられる。
デュポン社製のカルボキシル基を有するバ−フルオロア
ルキルポリエーテル)などがあげられる。
該有機フッ化化合物の膜の形成方法は、とくに限定され
ないが、該有機フッ化化合物をたとえばトリクロロトリ
フルオロエタン(ダイフロンS3、ダイキン工業■製な
ど)、70リナート(ダイキン工業■製)、クロロホル
ムなどの溶剤で希釈してo、ooi〜0.1%(重量%
、以下同様)の溶液とし、スピンコード法、ディップ法
、スプレー法などの方法により乾燥後の厚さが10〜1
00人となるように塗布し、風乾後50〜150℃で1
0〜120分間加熱する方法があげられる。 前記パー
フルオロアルキルポリエーテルは、摩擦係数が小さいこ
と、化学的不活性、低い揮発性などの潤滑膜としての優
れた特性を有する物質であるが、保護膜との親和性が小
さいので保護膜上に直接塗布したばあいは、膜厚が不均
一となってしまう。しかしながら、本発明の製造方法で
はこれと親和性のある前記有機フッ化化合物上に塗布す
ることにより、保護膜上に均一で薄い膜を形成すること
ができるのである。
ないが、該有機フッ化化合物をたとえばトリクロロトリ
フルオロエタン(ダイフロンS3、ダイキン工業■製な
ど)、70リナート(ダイキン工業■製)、クロロホル
ムなどの溶剤で希釈してo、ooi〜0.1%(重量%
、以下同様)の溶液とし、スピンコード法、ディップ法
、スプレー法などの方法により乾燥後の厚さが10〜1
00人となるように塗布し、風乾後50〜150℃で1
0〜120分間加熱する方法があげられる。 前記パー
フルオロアルキルポリエーテルは、摩擦係数が小さいこ
と、化学的不活性、低い揮発性などの潤滑膜としての優
れた特性を有する物質であるが、保護膜との親和性が小
さいので保護膜上に直接塗布したばあいは、膜厚が不均
一となってしまう。しかしながら、本発明の製造方法で
はこれと親和性のある前記有機フッ化化合物上に塗布す
ることにより、保護膜上に均一で薄い膜を形成すること
ができるのである。
前記パーフルオロアルキルポリエーテルとしては、式ニ
ー+CF−CF2− Otn 「 CF3 (式中、nは10〜60を示す)で表わされるもの、式
:+CF2−CF2−CF2−0Th (式中、mは1
0〜60を示す)で表わされるものなどがあげられる。
ー+CF−CF2− Otn 「 CF3 (式中、nは10〜60を示す)で表わされるもの、式
:+CF2−CF2−CF2−0Th (式中、mは1
0〜60を示す)で表わされるものなどがあげられる。
その具体例としては、たとえばデムナムS −200(
ダイキンエ業■製)、クライトツクス143^C(デュ
ポン社製)などがあげられる。
ダイキンエ業■製)、クライトツクス143^C(デュ
ポン社製)などがあげられる。
該パーフルオロアルキルポリエーテルの膜の形成方法は
とくに限定されないが、たとえば前記有機フッ化化合物
の膜の形成に用いた溶剤で希釈して0.001〜0.1
%の溶液とし、スピンコード法、ディップ法、スプレー
法などの方法により乾燥後の厚さが10〜100人とな
るように塗布し、風乾後50〜150℃で10〜120
分間加熱する方法があげられる。
とくに限定されないが、たとえば前記有機フッ化化合物
の膜の形成に用いた溶剤で希釈して0.001〜0.1
%の溶液とし、スピンコード法、ディップ法、スプレー
法などの方法により乾燥後の厚さが10〜100人とな
るように塗布し、風乾後50〜150℃で10〜120
分間加熱する方法があげられる。
なお、潤滑膜として親水基を有するパーフルオロアルキ
ルポリエーテルの膜(1層)を形成した磁気記録媒体を
製造したばあい、えられる磁気記録媒体の潤滑膜は保護
膜との結合力は強いが潤滑機能が劣り、摩擦係数が大き
くなるので好ましくない。
ルポリエーテルの膜(1層)を形成した磁気記録媒体を
製造したばあい、えられる磁気記録媒体の潤滑膜は保護
膜との結合力は強いが潤滑機能が劣り、摩擦係数が大き
くなるので好ましくない。
このように、本発明の製造方法によれば、保護膜と強く
結合した均一な厚さの潤滑膜を形成することができるの
で、えられる磁気記録媒体は、磁気ヘッドとの回転接触
の繰返しによっても潤滑膜の飛散を少なくできる。しか
も2層の潤滑膜を形成するための塗布方法は通常のスピ
ンコード法などを用いることができるので新たな設備を
必要としない。
結合した均一な厚さの潤滑膜を形成することができるの
で、えられる磁気記録媒体は、磁気ヘッドとの回転接触
の繰返しによっても潤滑膜の飛散を少なくできる。しか
も2層の潤滑膜を形成するための塗布方法は通常のスピ
ンコード法などを用いることができるので新たな設備を
必要としない。
つぎに、さらに具体的に実施例をあげて本発明の製造方
法を説明するが、本発明はかかる実施例のみに限定され
るものではない。
法を説明するが、本発明はかかる実施例のみに限定され
るものではない。
実施例1
アルミニウム板上にXl−Pめつきを施して下基基板と
し、その上にCo−N1−Pめつき磁性膜、SL 02
保Imを順次形成したディスク上に、カルボキシル基を
有するパーフルオロアルキルポリエーテル(タライトツ
クス157、デュポン社製)の0、005%トリクロロ
トリフルオロエタン(ダイフロンS3、ダイキン工業■
製)溶液をスピンコード塗布して風乾後、150℃で3
0分間加熱し、フッ化化合物層(厚さ30人)を形成し
た。この層の上にさらに、式ニー+CF2−CF2−C
F2−Ok (式中、mは10〜60を示す)で表わさ
れるパーフルオロアルキルポリエーテル(デムナム3−
200、ダイキン工業■製)の0.1%トリクロロトリ
フルオロエタン溶液を乾燥後の厚さが50人となるよう
にスピンコード塗布し、風乾後、100℃で30分間加
熱し、磁気記録媒体を作製した。
し、その上にCo−N1−Pめつき磁性膜、SL 02
保Imを順次形成したディスク上に、カルボキシル基を
有するパーフルオロアルキルポリエーテル(タライトツ
クス157、デュポン社製)の0、005%トリクロロ
トリフルオロエタン(ダイフロンS3、ダイキン工業■
製)溶液をスピンコード塗布して風乾後、150℃で3
0分間加熱し、フッ化化合物層(厚さ30人)を形成し
た。この層の上にさらに、式ニー+CF2−CF2−C
F2−Ok (式中、mは10〜60を示す)で表わさ
れるパーフルオロアルキルポリエーテル(デムナム3−
200、ダイキン工業■製)の0.1%トリクロロトリ
フルオロエタン溶液を乾燥後の厚さが50人となるよう
にスピンコード塗布し、風乾後、100℃で30分間加
熱し、磁気記録媒体を作製した。
えられた磁気記録媒体のC8S試験(コンタクト、スタ
ート、ストップを行ない、磁気ヘッドまたは磁気記録媒
体が損傷を受けるまでの回数で評価する試験方法)を行
なったところ、2万回以上と良好な結果かえられた。
ート、ストップを行ない、磁気ヘッドまたは磁気記録媒
体が損傷を受けるまでの回数で評価する試験方法)を行
なったところ、2万回以上と良好な結果かえられた。
実施例2
実施例1と同様にして下地基板上に磁性膜、保護膜を順
次形成し、ついでバーフルオ口ポリエチレンアルコール
(ダイキン工業■製)の0.01%トリクロロトリフル
オロエタン溶液を乾燥後の厚さが50人となるようにス
ピンコード塗布して風乾後、150℃で30分間加熱し
た。つぎに、パーフルオロアルキルポリエーテル(クラ
イトツクス143AC、デュポン社製)の0.1%トリ
クロロトリフルオロエタン溶液を乾燥後の厚さが50人
となるようにスピンコード塗布して風乾後、100℃で
30分間加熱し、磁気記録媒体を作製した。
次形成し、ついでバーフルオ口ポリエチレンアルコール
(ダイキン工業■製)の0.01%トリクロロトリフル
オロエタン溶液を乾燥後の厚さが50人となるようにス
ピンコード塗布して風乾後、150℃で30分間加熱し
た。つぎに、パーフルオロアルキルポリエーテル(クラ
イトツクス143AC、デュポン社製)の0.1%トリ
クロロトリフルオロエタン溶液を乾燥後の厚さが50人
となるようにスピンコード塗布して風乾後、100℃で
30分間加熱し、磁気記録媒体を作製した。
えられた磁気記録媒体のC8S試験を行なったところ、
2万回以上と良好な結果がえられた。
2万回以上と良好な結果がえられた。
比較例1
実施例1と同様にして下地基板、磁性膜、保護膜を順次
形成し、ついでタライトツクス157が0、005%、
デムナムS−200が0.1%となるようにトリクロロ
トリフルオロエタンに溶解させた混合溶液を、乾燥後の
厚さが30人となるようにスピンコード塗布して風乾後
、150℃で30分間加熱し、磁気記録媒体を作製した
。
形成し、ついでタライトツクス157が0、005%、
デムナムS−200が0.1%となるようにトリクロロ
トリフルオロエタンに溶解させた混合溶液を、乾燥後の
厚さが30人となるようにスピンコード塗布して風乾後
、150℃で30分間加熱し、磁気記録媒体を作製した
。
えられた磁気記録媒体のC8S試験を行なったところ、
5000回で磁気記録媒体にキズがついた。
5000回で磁気記録媒体にキズがついた。
[発明の効果]
本発明の製造方法によれば、磁気ヘッドと磁気記録媒体
との回転接触を繰返しても、潤滑膜の飛散を少なくする
ことができるので磁気ヘッドと磁気記録媒体の損傷を抑
制することができるという効果を奏する。しかも2層の
潤滑膜を形成するための塗布方法は、従来のスピンコー
ド法などを用いることができるので、新たな設備を必要
としない。
との回転接触を繰返しても、潤滑膜の飛散を少なくする
ことができるので磁気ヘッドと磁気記録媒体の損傷を抑
制することができるという効果を奏する。しかも2層の
潤滑膜を形成するための塗布方法は、従来のスピンコー
ド法などを用いることができるので、新たな設備を必要
としない。
第1図は本発明の製造方法の一実施例によってえられた
磁気記録媒体の部分断面図であり、第2図は従来の製造
方法によってえられた磁気記録媒体の部分断面図である
。 (図面の主要符号) (1);磁気記録媒体 (21:潤滑膜 !3) : WA水基を有する有機フッ化化合物(4)
:パーフルオロアルキルポリエーテル(S:保護膜 (6):磁性膜 (7):下地基板
磁気記録媒体の部分断面図であり、第2図は従来の製造
方法によってえられた磁気記録媒体の部分断面図である
。 (図面の主要符号) (1);磁気記録媒体 (21:潤滑膜 !3) : WA水基を有する有機フッ化化合物(4)
:パーフルオロアルキルポリエーテル(S:保護膜 (6):磁性膜 (7):下地基板
Claims (2)
- (1)下地基板上に磁性膜、保護膜を順次形成したのち
、保護膜上に親水基を有する有機フッ化化合物を塗布し
て膜を形成し、さらに該膜上にパーフルオロアルキルポ
リエーテルを塗布して2層の潤滑膜を形成することを特
徴とする磁気記録媒体の製造方法。 - (2)親水基を有する有機フッ化化合物が、カルボニル
基を有するパーフルオロアルキルポリエーテルまたはパ
ーフルオロポリエチレンアルコールである特許請求の範
囲第(1)項記載の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7222887A JPS63237216A (ja) | 1987-03-25 | 1987-03-25 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7222887A JPS63237216A (ja) | 1987-03-25 | 1987-03-25 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63237216A true JPS63237216A (ja) | 1988-10-03 |
Family
ID=13483197
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7222887A Pending JPS63237216A (ja) | 1987-03-25 | 1987-03-25 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63237216A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5776577A (en) * | 1993-07-29 | 1998-07-07 | Nec Corporation | Magnetic recording disk having a lubicant reservoir on the inner circumferential surface |
US6673429B1 (en) | 2000-07-25 | 2004-01-06 | Seagate Technology Llc | Magnetic recording media with a multiple-layer lubricant |
US7060377B2 (en) | 2003-10-20 | 2006-06-13 | Seagate Technology | Lubricant film containing additives for advanced tribological performance of magnetic storage medium |
-
1987
- 1987-03-25 JP JP7222887A patent/JPS63237216A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5776577A (en) * | 1993-07-29 | 1998-07-07 | Nec Corporation | Magnetic recording disk having a lubicant reservoir on the inner circumferential surface |
US6673429B1 (en) | 2000-07-25 | 2004-01-06 | Seagate Technology Llc | Magnetic recording media with a multiple-layer lubricant |
US7060377B2 (en) | 2003-10-20 | 2006-06-13 | Seagate Technology | Lubricant film containing additives for advanced tribological performance of magnetic storage medium |
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