JPS63229888A - レーザの波長制御装置および方法 - Google Patents

レーザの波長制御装置および方法

Info

Publication number
JPS63229888A
JPS63229888A JP62064923A JP6492387A JPS63229888A JP S63229888 A JPS63229888 A JP S63229888A JP 62064923 A JP62064923 A JP 62064923A JP 6492387 A JP6492387 A JP 6492387A JP S63229888 A JPS63229888 A JP S63229888A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wavelength
laser
wave component
mirror
oscillating
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP62064923A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2657487B2 (ja
Inventor
Yoshio Amada
天田 芳穂
Osamu Wakabayashi
理 若林
Masahiko Kowaka
雅彦 小若
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Komatsu Ltd
Original Assignee
Komatsu Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Komatsu Ltd filed Critical Komatsu Ltd
Priority to JP62064923A priority Critical patent/JP2657487B2/ja
Priority to PCT/JP1988/000293 priority patent/WO1988007276A1/ja
Priority to DE19883890298 priority patent/DE3890298T1/de
Priority to US07/296,120 priority patent/US4975919A/en
Publication of JPS63229888A publication Critical patent/JPS63229888A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2657487B2 publication Critical patent/JP2657487B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/10Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
    • H01S3/13Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude
    • H01S3/136Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude by controlling devices placed within the cavity
    • H01S3/137Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude by controlling devices placed within the cavity for stabilising of frequency
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/14Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range characterised by the material used as the active medium
    • H01S3/22Gases
    • H01S3/223Gases the active gas being polyatomic, i.e. containing two or more atoms
    • H01S3/225Gases the active gas being polyatomic, i.e. containing two or more atoms comprising an excimer or exciplex

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Lasers (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はエキシマレーザ等のレーザ光の波長を制御する
波長制御@置に関するものである。
〔従来の技術〕
集積回路等の回路パターンを半導体ウェハ上に露光する
露光装置では、その露光用光源としてエキシマレーザ光
が多用されるが、露光光学系の色収差の補正を簡単に行
うために、エキシマレーザ光はその波長域を狭く変更し
て露光用光源として使用される。
そこで、エキシマレーザ光を発生するレーザ管の発振回
路中に少くとも2つの波長選択素子(エタロン)を設け
、このエタロンの角度を変えることによって波長を調整
できるように構成したうえ、発振波長の検出手段として
モニタ用のエタロンを21!l設け、これら2個のモニ
タ用エタロンによって中心波成分とその側帯波成分とを
分離し、その分離された成分をダイオードアレイ等に入
射してそれぞれの成分の波長を検出し、その検出結果に
基づいてレーザ管内のエタロンの角度をフィードバック
制御し、所定の波長域に狭められたレーザ光を得るよう
にした波長制tI11装置が用いられている。
〔発明が解決しようとする問題点〕
ところが、モニタ用のエタロンはそれ自体の波長選択特
性が安定していないため、レーザ光の発振波長を高分解
能で検出できないという問題があった。特に、発振波長
の中の側帯波成分は中心波成分に比べて強度が低いため
、この側帯波成分を高分解能で検出することができず、
結果的に発振波長を高精度で制御できないという問題が
あった。
本発明の目的は、レーザ光の発振波長を高Vi度で制御
することができるレーザの波長制御ll装置を提供する
ことにある。
〔問題点を解決するための手段] 本発明は、発生されたレーザ光を中心波成分と側帯波成
分に分離する分光器と、分離された中心波成分と側帯波
成分を受光し、その受光位置によって中心波成分と側帯
波成分の波長を検出する一次元受光素子と、この一次元
受光素子の検出信号によって前記波長選択素子の波長選
択特性を変えるコントローラとを備えることにより、上
記目的を達成するしのである。
[作用] レーザ光は分光器によって分光され、中心波成分と側帯
波成分に分離される。そして、一次元受光素子に入射さ
れる。一次元受光素子としては例えば0.6μmの位置
分解能を有するものが使用される。従って、中心波成分
と側帯波成分の波長に検体すると、5.5x 1O−5
nn+の高分解能で検出することができ、この結果、発
振波長を高精度に制御することができる。
〔実施例〕
第1図は本発明の一実施例を示すブロック図であり、レ
ーザ装置1の発振回路中にはりアミラー2とフロントミ
ラー3が配置されると共に、これらのミラーΩ間には波
長選択素子としての2個の第1のエタロン4(#1)と
第2のエタロン5(#2)が配置され、発振されたレー
ザ光はハーフミラ−6を介して外部に出力されるように
なっている。また、ハーフミラ−6で反射されたレーザ
光はレンズ7を介して光ファイバ8に入力され、その他
端のレンズ9を介して分光器10に入力されている。
分光器10は公知のツエルターナ型の構成となっており
、ハーフミラ−1002球而鏡1面1゜回折格子102
2球面鏡103.ハーフミラ−104の順で入射光を伝
達することにより、ハーフミラ−104の出力から中心
波成分と側帯波成分を分離して取出し、ハーフミラ−1
04の出力側に設けた波長検出部105に入射するよう
に構成されている。
この波長検出部105の出力信号はコントローラ11に
入力される。コントローラ11は波長検出部105で検
出した中心波成分と側帯波成分の波長に基づいて2個の
エタロン4.5の角度を制御する。
ここで、波長検出部105は第2図(a)に示すように
、1つの1次元受光素子12に対する中心波成分(図中
、一点t!i線で示す)と側帯波成分(図中、破線で示
す)の入射位置によってその波長を検出するように構成
されている。この場合の1次元受光素子12として、前
述のように0.6μmの位置分解能を有するものを使用
した場合には、波長に換痺して5.5x 1O−5nn
の分解能で検出することができる。これは、実用上の制
御目標である±0.001r+nに対して充分な分解能
である。
一方、波長検出部105は第2図(b)に示すように、
中心波成分のみを一次元受光素子12で検出し、側帯波
成分はダイオードアレイ13,14によって検出するよ
うに構成することもできる。
この場合、受光素子12とダイオードアレイ13゜14
との位置が近接している場合には、第2図(C)に示す
ように側帯波成分をビームスプリッタ(またはミラー)
15.16によって分岐してダイオードアレイ13.1
4によって検出するように構成してもよい。同様に、第
2図(d)に示すように1つのビームスプリッタ17に
よって中心波成分と側帯波成分を分岐させ、中心波成分
は第1の一次元受光素子12で検出し、側帯波成分は第
2の一次元受光素子12′で検出するようにしてもよい
以上の構成において、第1のエタロン4は広帯域の波長
選択特性を有し、第2のエタロン5は狭帯域の波長選択
特性を有し、第1のエタロン4の角度を変えることによ
って中心波成分の波長は第7図(a)〜(C)に破線で
示すように変化する。
これに対して第2のエタロン5についてはその角度を変
化させると、第7図(a)〜(C)に実線で示すように
側帯波成分のピーク値が変化側る。
ここで、エタロン4の角度と中心波長の関係を説明する
と、第3図および第4図に示すような関係がある。すな
わち、エタロン4を第3図の破線Aのように大きく傾斜
させると、中心波成分は第4図(a)のように低波長側
に移動し、Bで示すように傾斜させると第4図(b)の
ようにエタロン5の角度調整によって得られる中心波成
分とほぼ一致した波長となる。さらに、Cで示すように
傾斜させると第4図(C)のように高波長側に移動する
そこで、コントローラ11は、第5図(a)のフローチ
ャートで示すように波長検出部105で検出した中心波
成分の波長が許容範囲か否かを判定し、許容範囲からず
れている場合はエタロン5の角度を調整して許容範囲内
に入る用に制御する。
この後、第5図(b)のフローチャートで示すように側
帯波成分のピーク値を検出し、そのピーク値が許容範囲
からずれている場合はエタロン4の角度を調整して許容
範囲内に入るように制御する。
このように本実施例においては、分光器と一次元受光素
子とによって中心波成分と側帯波成分の波長を検出し、
その検出結果によってレーザ装置内のエタロンの角度を
調整し、レーザ光の波長を制御しているため、高精度の
波長制御が可能になる。また、レーザ光の波長を狭帯域
化する場合に限らず、逆に波長を変化させて所望の波長
のレーザ光を発生させることもできる。
なお、レーザ光の波長を制御する場合、第6図の他の実
施例に示すように、アルゴンイオンレーザ光やその倍波
光、あるいは水銀ランプ光等の基準波長となる光を発生
する基準光発生器23を設け、レーザ8置1から発生さ
れたレーザ光をハーフミラ−21および22を通じて分
光器24に入力すると共に、基準光発生器23からの基
準光をハーフミラ−22を解して分光器24に同時に入
力し、分光器24で分光した基準光の波長を基準として
コントローラ25によってエタロン20の角度を調整す
ることにより、レーザ光の波長を安定的に所望の絶対波
長に制御することができる。
この場合、基準光は定期的に分光器24に入力するよう
にしてもよい。
[発明の効果] 以上説明したように本発明においては分光器と一次元受
光素子によってレーザ光の波長を検出し、その検出結果
によって発振波長をフィードバック制御するようにした
ため、レーザ光の発振波長を高精度で制御することがで
きる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例を示すブロック図、第2図は
波長検出部の実施例を示す構成図、第3図および第4図
はレーザ管内の波長選択素子の角度と発振波長の関係を
説明するための説明図、第5図は発振波長制御手順を示
すフローチャート、第6図は本発明の他の実施例を示す
ブロック図、第7図はレーザ管内の波長選択素子の角度
変化に対応する発振波長の変化を示すスペクトル図であ
る。 1・・・レーザ装置、2・・・リアミラー、3・・・フ
ロントミラー、4,5・・・エタロン、10・・・分光
器、11・・・コントローラ、12・・・一次元受光素
子、23・・・基準光発生器。 (Q)               (b)第5図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 レーザ光の共振回路中に少なくとも2個の波長選択素子
    を配置してレーザ光の波長を制御するレーザ装置におい
    て、 発生されたレーザ光を中心波成分と側帯波成分に分離す
    る分光器と、 分離された中心波成分と側帯波成分を受光し、その受光
    位置によつて中心波成分と側帯波成分の波長を検出する
    一次元受光素子と、 この一次元受光素子の検出信号によって前記波長選択素
    子の波長選択特性を変えるコントローラと、 を備えて成るレーザ波長制御装置。
JP62064923A 1987-03-19 1987-03-19 レーザの波長制御装置および方法 Expired - Lifetime JP2657487B2 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP62064923A JP2657487B2 (ja) 1987-03-19 1987-03-19 レーザの波長制御装置および方法
PCT/JP1988/000293 WO1988007276A1 (en) 1987-03-19 1988-03-18 Device for controlling wavelength of laser beam
DE19883890298 DE3890298T1 (de) 1987-03-19 1988-03-18 Vorrichtung zur steuerung von laserwellenlaengen
US07/296,120 US4975919A (en) 1987-03-19 1988-03-18 Laser wavelength control apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP62064923A JP2657487B2 (ja) 1987-03-19 1987-03-19 レーザの波長制御装置および方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS63229888A true JPS63229888A (ja) 1988-09-26
JP2657487B2 JP2657487B2 (ja) 1997-09-24

Family

ID=13272049

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP62064923A Expired - Lifetime JP2657487B2 (ja) 1987-03-19 1987-03-19 レーザの波長制御装置および方法

Country Status (3)

Country Link
US (1) US4975919A (ja)
JP (1) JP2657487B2 (ja)
WO (1) WO1988007276A1 (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1989007353A1 (en) * 1988-01-27 1989-08-10 Kabushiki Kaisha Komatsu Seisakusho Method and apparatus for controlling narrow-band oscillation excimer laser
DE3891284T1 (de) * 1987-07-17 1990-04-26 Komatsu Mfg Co Ltd Laserwellenlaengen-regelvorrichtung
JPH02306679A (ja) * 1989-05-22 1990-12-20 Komatsu Ltd レーザの波長制御装置
JP2003166881A (ja) * 2001-11-30 2003-06-13 Gigaphoton Inc 波長検出装置及びそれを用いたレーザ装置

Families Citing this family (65)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CA1313688C (en) * 1987-10-28 1993-02-16 Hitsoshi Wakata Method of stabilizing a wavelength of a laser beam and wavelength stabilizing laser device
GB2224389B (en) * 1988-10-20 1993-04-21 Mitsubishi Electric Corp Laser device with wavelength stabilization control and method of operating the same
CA2028803A1 (en) * 1989-10-30 1991-05-01 Mitsugu Terada Laser device
US5130998A (en) * 1990-02-21 1992-07-14 Mitsubiski Denki Kaubshiki Kaisha Laser device with oscillation wavelength control
US5172383A (en) * 1990-09-19 1992-12-15 At&T Bell Laboratories Mode partition noise screening apparatus
US5056101A (en) * 1990-09-19 1991-10-08 At&T Bell Laboratories Mode partition screening apparatus
US5164948A (en) * 1991-01-03 1992-11-17 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army Stabilized local oscillator frequency for heterodyne laser sensors
US5274494A (en) * 1991-04-25 1993-12-28 Hughes Aircraft Company Speckle suppression illuminator
US5450436A (en) * 1992-11-20 1995-09-12 Kabushiki Kaisha Komatsu Seisakusho Laser gas replenishing apparatus and method in excimer laser system
DE4429452A1 (de) * 1994-08-19 1996-02-22 Urenco Deutschland Gmbh Optisch stabiler Laserresonator
DE19603637C1 (de) 1996-02-01 1997-07-31 Lambda Physik Gmbh Laser zur Erzeugung schmalbandiger Strahlung
US6580517B2 (en) 2000-03-01 2003-06-17 Lambda Physik Ag Absolute wavelength calibration of lithography laser using multiple element or tandem see through hollow cathode lamp
US7006541B2 (en) * 1998-06-01 2006-02-28 Lambda Physik Ag Absolute wavelength calibration of lithography laser using multiple element or tandem see through hollow cathode lamp
US6160832A (en) 1998-06-01 2000-12-12 Lambda Physik Gmbh Method and apparatus for wavelength calibration
US6476987B1 (en) 1999-08-04 2002-11-05 Lambda Physik Ag Excimer laser with line narrowing
US6345065B1 (en) 1998-06-04 2002-02-05 Lambda Physik Ag F2-laser with line selection
US6381256B1 (en) 1999-02-10 2002-04-30 Lambda Physik Ag Molecular fluorine laser with spectral linewidth of less than 1 pm
US6424666B1 (en) 1999-06-23 2002-07-23 Lambda Physik Ag Line-narrowing module for high power laser
US6795473B1 (en) 1999-06-23 2004-09-21 Lambda Physik Ag Narrow band excimer laser with a prism-grating as line-narrowing optical element
US6490307B1 (en) 1999-03-17 2002-12-03 Lambda Physik Ag Method and procedure to automatically stabilize excimer laser output parameters
US6426966B1 (en) 1999-02-10 2002-07-30 Lambda Physik Ag Molecular fluorine (F2) laser with narrow spectral linewidth
US6546037B2 (en) 1999-02-10 2003-04-08 Lambda Physik Ag Molecular fluorine laser with spectral linewidth of less than 1 pm
US6421365B1 (en) 1999-11-18 2002-07-16 Lambda Physik Ag Narrow band excimer or molecular fluorine laser having an output coupling interferometer
US6717973B2 (en) 1999-02-10 2004-04-06 Lambda Physik Ag Wavelength and bandwidth monitor for excimer or molecular fluorine laser
US6965624B2 (en) 1999-03-17 2005-11-15 Lambda Physik Ag Laser gas replenishment method
US6389052B2 (en) 1999-03-17 2002-05-14 Lambda Physik Ag Laser gas replenishment method
US6678291B2 (en) 1999-12-15 2004-01-13 Lambda Physik Ag Molecular fluorine laser
US6154470A (en) * 1999-02-10 2000-11-28 Lamba Physik Gmbh Molecular fluorine (F2) laser with narrow spectral linewidth
US6463086B1 (en) 1999-02-10 2002-10-08 Lambda Physik Ag Molecular fluorine laser with spectral linewidth of less than 1 pm
US6393040B1 (en) 1999-02-24 2002-05-21 Lambda Physik Ag Molecular fluorine (F2) excimer laser with reduced coherence length
US6727731B1 (en) 1999-03-12 2004-04-27 Lambda Physik Ag Energy control for an excimer or molecular fluorine laser
US6298080B1 (en) 1999-03-12 2001-10-02 Lambda Physik Ag Narrow band excimer or molecular fluorine laser with adjustable bandwidth
US6700915B2 (en) 1999-03-12 2004-03-02 Lambda Physik Ag Narrow band excimer laser with a resonator containing an optical element for making wavefront corrections
US6714577B1 (en) 1999-03-17 2004-03-30 Lambda Physik Ag Energy stabilized gas discharge laser
DE29907349U1 (de) 1999-04-26 2000-07-06 Lambda Physik Gmbh Laser zur Erzeugung schmalbandiger Strahlung
US6785316B1 (en) 1999-08-17 2004-08-31 Lambda Physik Ag Excimer or molecular laser with optimized spectral purity
US6667804B1 (en) 1999-10-12 2003-12-23 Lambda Physik Ag Temperature compensation method for wavemeters
JP3487242B2 (ja) * 1999-11-05 2004-01-13 株式会社島津製作所 マイクロチップ電気泳動装置
US6553050B1 (en) 1999-11-18 2003-04-22 Lambda Physik Ag Narrow band excimer or molecular fluorine laser having an output coupling interferometer
US6603788B1 (en) 1999-11-23 2003-08-05 Lambda Physik Ag Resonator for single line selection
DE10190427T1 (de) 2000-01-25 2002-06-06 Lambda Physik Ag Energieüberwachungsvorrichtung für einen Fluormolekül-Laser
US6542243B2 (en) 2000-01-27 2003-04-01 Lambda Physik Ag Resonator optics monitoring method
US7075963B2 (en) 2000-01-27 2006-07-11 Lambda Physik Ag Tunable laser with stabilized grating
US6735232B2 (en) 2000-01-27 2004-05-11 Lambda Physik Ag Laser with versatile output energy
US6941259B2 (en) * 2000-03-01 2005-09-06 Lamda Physik Ag Laser software control system
US6597462B2 (en) 2000-03-01 2003-07-22 Lambda Physik Ag Laser wavelength and bandwidth monitor
US6618403B2 (en) 2000-03-16 2003-09-09 Lambda Physik Ag Method and apparatus for compensation of beam property drifts detected by measurement systems outside of an excimer laser
US20010049618A1 (en) * 2000-03-23 2001-12-06 Rainer Patzel Method for allocating predictable costs for consumable items
WO2001084678A2 (en) 2000-04-18 2001-11-08 Lambda Physik Ag Stabilization technique for high repetition rate gas discharge lasers
US6862307B2 (en) 2000-05-15 2005-03-01 Lambda Physik Ag Electrical excitation circuit for a pulsed gas laser
US6577663B2 (en) 2000-06-19 2003-06-10 Lambda Physik Ag Narrow bandwidth oscillator-amplifier system
US6603789B1 (en) 2000-07-05 2003-08-05 Lambda Physik Ag Narrow band excimer or molecular fluorine laser with improved beam parameters
US6807205B1 (en) 2000-07-14 2004-10-19 Lambda Physik Ag Precise monitor etalon calibration technique
US6721345B2 (en) 2000-07-14 2004-04-13 Lambda Physik Ag Electrostatic precipitator corona discharge ignition voltage probe for gas status detection and control system for gas discharge lasers
US6801561B2 (en) 2000-09-25 2004-10-05 Lambda Physik Ag Laser system and method for spectral narrowing through wavefront correction
US6747741B1 (en) 2000-10-12 2004-06-08 Lambda Physik Ag Multiple-pass interferometric device
US6795459B2 (en) * 2000-10-18 2004-09-21 Fibera, Inc. Light frequency locker
US6998620B2 (en) 2001-08-13 2006-02-14 Lambda Physik Ag Stable energy detector for extreme ultraviolet radiation detection
US20030161374A1 (en) * 2001-11-21 2003-08-28 Lambda Physik Ag High-resolution confocal Fabry-Perot interferometer for absolute spectral parameter detection of excimer laser used in lithography applications
US7964925B2 (en) * 2006-10-13 2011-06-21 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Photodiode module and apparatus including multiple photodiode modules
US7923802B2 (en) * 2006-10-13 2011-04-12 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Method and apparatus for forming a photodiode
US7965901B2 (en) * 2003-10-31 2011-06-21 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Hard imaging methods and devices and optical scanning systems
US7031355B2 (en) * 2004-02-11 2006-04-18 Optovia Corporation High efficiency single and multiple wavelength stabilized systems
US7733494B2 (en) * 2006-03-31 2010-06-08 Cymer, Inc. Bandwidth measuring device for high pulse repetition rate pulsed laser
TWI672484B (zh) * 2018-05-25 2019-09-21 國立交通大學 光脈衝量測裝置以及光脈衝量測方法

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6261203A (ja) * 1985-09-10 1987-03-17 日東電工株式会社 透明導電膜

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5654596Y2 (ja) * 1975-03-25 1981-12-19
DE2722832A1 (de) * 1977-05-20 1978-11-30 Bosch Gmbh Robert Anordnung zur verbesserung des stoerabstands bei der uebertragung bzw. aufzeichnung und/oder wiedergabe von signalen mittels laserstrahlen
US4150342A (en) * 1977-07-05 1979-04-17 Coherent, Inc. Method and apparatus for automatically reacquiring a predetermined output radiation frequency in a tunable laser system despite momentary perturbations of laser oscillation
US4272734A (en) * 1979-05-29 1981-06-09 Spectra-Physics, Inc. Dual reference interferometer for dye laser stabilization
JPS6022630Y2 (ja) * 1980-03-25 1985-07-05 株式会社東芝 連続励起強制モ−ド同期レ−ザ装置
JPS6022631Y2 (ja) * 1980-09-09 1985-07-05 日本電気株式会社 モ−ド同期レ−ザ
JPS6016479A (ja) * 1983-07-08 1985-01-28 Mitsubishi Electric Corp 単一周波数発振レ−ザ装置
EP0273058A4 (en) * 1986-06-09 1989-12-12 Komatsu Mfg Co Ltd NARROW BAND MULTI-MODE EXCIMER.

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6261203A (ja) * 1985-09-10 1987-03-17 日東電工株式会社 透明導電膜

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3891284T1 (de) * 1987-07-17 1990-04-26 Komatsu Mfg Co Ltd Laserwellenlaengen-regelvorrichtung
WO1989007353A1 (en) * 1988-01-27 1989-08-10 Kabushiki Kaisha Komatsu Seisakusho Method and apparatus for controlling narrow-band oscillation excimer laser
JPH02306679A (ja) * 1989-05-22 1990-12-20 Komatsu Ltd レーザの波長制御装置
JP2003166881A (ja) * 2001-11-30 2003-06-13 Gigaphoton Inc 波長検出装置及びそれを用いたレーザ装置

Also Published As

Publication number Publication date
US4975919A (en) 1990-12-04
WO1988007276A1 (en) 1988-09-22
JP2657487B2 (ja) 1997-09-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS63229888A (ja) レーザの波長制御装置および方法
US5226050A (en) Small line width tunable laser
JP3979703B2 (ja) 波長分割多重光伝送システム用の波長監視制御装置
US4295741A (en) Two-wavelength phase control system
JP2006253671A (ja) ビームドリフト補償装置及び方法
JPS61502507A (ja) ディ−プ紫外線リソグラフィ−
US5084884A (en) Method of stabilizing the laser beam and apparatus utilizing the same
JP2002009391A (ja) 波長安定化モニタおよび前記モニタの動作波長を調整する方法
JP6865658B2 (ja) 光モジュールの製造方法および製造装置
US6816535B2 (en) Co-alignment of time-multiplexed pulsed laser beams to a single reference point
JP4079531B2 (ja) 光伝送装置およびその調整方法
US4595810A (en) Device for focusing a laser on a recording medium by wavelength modulation
US20020054734A1 (en) Wavelength monitor apparatus and wavelength stabilizing light source
JP2737181B2 (ja) エキシマレーザ発生装置
JP2002374033A (ja) 可変波長光源装置
JP2617320B2 (ja) レーザの波長制御装置
JPH0797672B2 (ja) レーザー光軸調整装置
JPH0239582A (ja) 狭帯域化レーザ装置
JP2760181B2 (ja) 狭帯域レーザ装置
JP2000501887A (ja) 同調可能かつ調整が安定な半導体レーザ光源及び半導体レーザの光学的に安定なほぼ連続的な同調のための方法
JPH02306679A (ja) レーザの波長制御装置
JPH02153583A (ja) 波長安定化制御装置
JP2898720B2 (ja) 光非線形性発生装置
JP2646225B2 (ja) レーザの波長制御装置
JPS6328091A (ja) レ−ザ発振器の発振波長安定化装置

Legal Events

Date Code Title Description
EXPY Cancellation because of completion of term