JP6865658B2 - 光モジュールの製造方法および製造装置 - Google Patents

Description

この発明は、光モジュールの製造方法および製造装置に関する。より具体的に言うと、互いに波長の異なるレーザ光を放射することが可能な複数のレーザ装置と、複数のレーザ装置から出射したレーザ光をそれぞれ平行化するための複数のコリメータと、複数のコリメータから出射したレーザ光を合波して波長多重レーザ光を出力するための合波器と、を備えた光モジュールの製造方法および製造装置に関する。

近年、光ネットワークの通信量（またはトラフィック）が増大している。したがって、通信速度が大きく、小型で、かつ消費電力の低い光通信モジュール（以下、単に光モジュールということがある）が求められている。小型で消費電力の低い光モジュールを得るために、その集積化が進められている。

例えば、互いに波長の異なるレーザ光を放射することが可能な複数のレーザ装置を１つの光モジュール内に集積し、この複数のレーザ装置から出射したレーザ光を合波して波長多重レーザ光を出力するように構成された光モジュールが開発されている。この光モジュールは、高い通信速度を有することが知られている。この光モジュールには、一般的に、複数のレーザ装置から出射したレーザ光をそれぞれ平行化するための複数のコリメータと、複数のコリメータから出射したレーザ光を合波して波長多重レーザ光を出力するための合波器とが設けられている。レーザ装置間での光損失ばらつきを小さくするためには、各レーザ装置から出射したレーザ光の光軸調整を正確に行うことが求められる。

特許文献１には、青色ＬＤ（レーザダイオード）素子、緑色ＬＤ素子および青色ＬＤ素子から出射したレーザ光を合波して出力する光モジュールの製造方法が開示されている。この光モジュールには、各ＬＤから出射したレーザ光を平行化するための３つのコリメートレンズと、それぞれ特定波長のレーザ光のみを透過させ、それ以外の波長のレーザ光を反射する２つのフィルタとが設けられている。この光モジュールでは、２つのフィルタが合波器として機能するように配置されている。

この光モジュールの製造方法は、光軸調整プロセスとして、３つのＬＤ素子の位置を調整して固定するステップと、３つのコリメートレンズの位置を調整して固定するステップと、第１のＬＤから出射したレーザ光の光軸に第２のＬＤから出射したレーザ光の光軸が近づくように第１のフィルタの位置を調整して固定するステップと、第１のＬＤから出射したレーザ光の光軸に第３のＬＤから出射したレーザ光の光軸が近づくように第２のフィルタの位置を調整して固定するステップとを含んでいる。

特開２０１５−２９１３９号公報

特許文献１に記載の光モジュールでは、レーザ装置（ＬＤ素子）の数に応じてコリメートレンズとフィルタの数が増加する。特許文献１に記載の方法では、コリメートレンズの位置とフィルタの位置とを個別に調整しているので、レーザ装置の数に応じてコリメートレンズとフィルタの位置調整回数が増加し、これにより光軸調整プロセスに要する時間が長くなるという問題がある。また、コリメートレンズについて最適な位置調整および固定を行った後にフィルタを移動させるので、各レーザ装置から出射したレーザ光の光軸調整を高精度に行うことができないという問題がある。

この発明は、互いに波長の異なるレーザ光を放射することが可能な複数のレーザ装置と、複数のレーザ装置から出射したレーザ光をそれぞれ平行化するための複数のコリメータと、複数のコリメータから出射したレーザ光を合波して波長多重レーザ光を出力するための合波器とを備えた光モジュールの製造方法であって、複数のレーザ装置から出射したレーザ光の光軸調整を短時間でかつ高精度に行うことが可能な方法を提供することである。

本発明の一態様に係る光モジュールの製造方法は、
互いに波長の異なるレーザ光を放射することが可能な第１、第２、・・・第ｎレーザ装置と、前記第１、第２、・・・第ｎレーザ装置から出射したレーザ光をそれぞれ平行化するための第１、第２・・・第ｎコリメータと、前記第１、第２、・・・第ｎコリメータから出射したレーザ光を合波して波長多重レーザ光を出力するための合波器とを備えた光モジュールの製造方法であって、ｎは２以上の整数であり、前記第１、第２、・・・第ｎレーザ装置からのレーザ光の出射方向は、第１方向に平行であり、
（ａ）前記第１レーザ装置を作動させた状態で測定した、前記合波器から出射したレーザ光の角度を基に、前記第１方向に対して垂直な第２、第３方向における前記第１コリメータの移動量を決定するステップと、
（ｂ）前記ステップ（ａ）で決定した移動量だけ前記第１コリメータを前記第２、第３方向にそれぞれ移動させたときの、前記第２、第３方向におけるレーザ光の位置の予測変化量を決定するステップと、
（ｃ）前記第２、・・・第ｎレーザ装置について前記ステップ（ａ），（ｂ）を繰り返すステップと、
（ｄ）前記ステップ（ｂ）で決定した前記第２、第３方向におけるレーザ光の位置の予測変化量を補償することが可能な、前記第３、第２方向に延びる軸周りの前記合波器の回転角度を決定するステップと、
（ｅ）前記ステップ（ａ）で決定した移動量だけ前記第１コリメータを前記第２、第３方向にそれぞれ移動させ、かつ、前記ステップ（ｄ）で決定した回転角度だけ前記第３、第２方向に延びる軸周りにそれぞれ前記合波器を回転させるステップと、を含む、
光モジュールの製造方法に関する。

本発明の他の態様に係る光モジュールの製造装置は、
互いに波長の異なるレーザ光を放射することが可能な第１、第２、・・・第ｎレーザ装置と、前記第１、第２、・・・第ｎレーザ装置から出射したレーザ光をそれぞれ平行化するための第１、第２・・・第ｎコリメータと、前記第１、第２、・・・第ｎコリメータから出射したレーザ光を合波して波長多重レーザ光を出力するための合波器とを備えた光モジュールの製造装置であって、ｎは２以上の整数であり、前記第１、第２、・・・第ｎレーザ装置からのレーザ光の出射方向は、第１方向に平行であり、
前記第１、第２、・・・第ｎコリメータを、前記第１方向に対して垂直な第２、第３方向にそれぞれ移動させることが可能なコリメータ調整機構と、
前記合波器を、前記第１、第２軸周りにそれぞれ回転させることが可能な合波器調整機構と、
前記コリメータ調整機構および前記合波器調整機構を制御するためのコントローラと、
前記合波器から出射したレーザ光の角度を測定可能なレーザ光測定部とを備え、
前記コントローラは、
（ａ）前記第１レーザ装置を作動させた状態で前記レーザ光測定部により測定した、前記合波器から出射したレーザ光の角度を基に、前記第２、第３方向における前記第１コリメータの移動量を決定する動作と、
（ｂ）前記動作（ａ）で決定した移動量だけ前記第１コリメータを前記第２、第３方向にそれぞれ移動させたときの、前記第２、第３方向におけるレーザ光の位置の予測変化量を決定する動作と、
（ｃ）前記第２、・・・第ｎレーザ装置について前記動作（ａ），（ｂ）を繰り返す動作と、
（ｄ）前記動作（ｂ）で決定した前記第２、第３方向におけるレーザ光の位置の予測変化量を補償することが可能な、前記第３、第２方向に延びる軸周りの前記合波器の回転角度を決定する動作と、
（ｅ）前記動作（ａ）で決定した移動量だけ前記第１コリメータが前記第２、第３方向にそれぞれ移動し、かつ、前記動作（ｄ）で決定した回転角度だけ前記第３、第２方向に延びる軸周りにそれぞれ前記合波器が回転するように前記コリメータ調整機構および前記合波器調整機構を制御する動作と、を実行するように構成されている、
光モジュールの製造装置に関する。

本発明の一態様に係る光モジュールの製造方法によれば、コリメータを移動させたときに生じるレーザ光の位置の変化量が合波器の回転により補償されるので、光軸調整を高精度に行うことができる。また、各レーザ装置を作動させた状態で合波器から出射したレーザ光の角度の情報に基づいて、すべてのレーザ装置についてコリメータの移動量と合波器の回転角度が決定されるので、従来よりも光軸調整を短時間で行うことができる。

本発明の実施形態に従って製造される光モジュールを示す斜視図である。 本発明の実施形態に従って製造される光モジュールを示す平面図である。 本発明の実施形態に従って製造される光モジュールに備えられる合波器を示す斜視図である。 本発明の実施形態に従って製造される光モジュールに備えられる合波器を示す平面図である。 実施形態１に係る光モジュールの製造装置の概略を示すブロック図である。 実施形態１に係る光モジュールの製造装置の概略を示す斜視図である。 実施形態１に係る光モジュールの製造方法を示すフローチャートである。 実施形態１に係る光モジュールの製造方法のうち光軸調整プロセスを示すフローチャートである。 第１レーザ装置について、Ｚ方向における第１コリメータの位置調整方法を示すグラフである。 第２〜第４レーザ装置について、Ｚ方向における第１コリメータの位置調整方法を示すグラフである。 Ｘ方向における第１コリメータの位置（横軸）と、第１レーザ装置について合波器から出射したレーザ光のビーム角度θＸ（縦軸）との関係を示すグラフである。 Ｘ方向における第２〜第４コリメータの位置（横軸）と、第２〜第４レーザ装置について合波器から出射したレーザ光のビーム角度θＸ（縦軸）との関係を示すグラフである。 Ｙ方向における第１コリメータの位置（横軸）と、第１レーザ装置について合波器から出射したレーザ光のビーム角度θＹ（縦軸）との関係を示すグラフである。 Ｙ方向における第２〜第４コリメータの位置（横軸）と、第２〜第４レーザ装置について合波器から出射したレーザ光のビーム角度θＹ（縦軸）との関係を示すグラフである。 Ｘ方向におけるコリメータの位置（横軸）と、第１レーザ装置について合波器から出射したレーザ光の位置Ｘ（縦軸）との関係を示すグラフである。 Ｘ方向におけるコリメータの位置（横軸）と、第２〜第４レーザ装置について合波器から出射したレーザ光の位置Ｘ（縦軸）との関係を示すグラフである。 Ｙ方向におけるコリメータの位置（横軸）と、第１レーザ装置について合波器から出射したレーザ光の位置Ｙ（縦軸）との関係を示すグラフである。 Ｙ方向におけるコリメータの位置（横軸）と、第２〜第４レーザ装置について合波器から出射したレーザ光の位置Ｙ（縦軸）との関係を示すグラフである。 Ｙ方向に延びる軸周りの合波器の回転角度θＹと、第１レーザ装置について合波器から出射したレーザ光の位置Ｘ（縦軸）との関係を示すグラフである。 Ｙ方向に延びる軸周りの合波器の回転角度θＹと、第２〜第４レーザ装置について合波器から出射したレーザ光の位置Ｘ（縦軸）との関係を示すグラフである。 Ｘ方向に延びる軸周りの合波器の回転角度θＸ（横軸）と、第１レーザ装置について合波器から出射したレーザ光の位置Ｙ（縦軸）との関係を示すグラフである。 Ｘ方向に延びる軸周りの合波器の回転角度θＸ（横軸）と、第２〜第４レーザ装置について合波器から出射したレーザ光の位置Ｙ（縦軸）との関係を示すグラフである。 実施形態２に係る光モジュールの製造装置の概略を示すブロック図を示す。 実施形態２に係る光モジュールの製造装置の概略を示す斜視図を示す。

以下、本発明の実施の形態について、図面を参照しつつ説明する。各図において、同一または同様の構成要素には同一の符号を付している。また、説明が不必要に冗長になるのを避け、当業者の理解を容易にするため、既に知られた事項の詳細な説明を省略することがある。

実施の形態１．
［１．光モジュール１０］
図１、図２は、本発明の実施形態に従って製造される光モジュール１０を示す斜視図、平面図である。光モジュール１０は、複数のレーザ装置１１、複数のコリメータ１２、１つの合波器１３および筐体１４を備えている。複数のレーザ装置１１、複数のコリメータ１２および合波器１３は、これらを実装するためのベースとして機能する筐体１４内に固定されている。筐体１４には開口部１４１が設けられている。開口部１４１には、導波路を有するレセプタクル（図示せず）が設けられてもよい。

複数のレーザ装置１１は、一直線上に並べて配置されている。複数のレーザ装置１１は、各レーザ装置１１から出射するレーザ光の光軸が互いに平行であるように配置されている。

複数のレーザ装置１１は、互いに異なる波長のレーザ光を放射することができるように構成されている。図示していないが、レーザ装置１１は、レーザ素子とペルチェ素子を有している。レーザ素子は半導体レーザ素子（レーザダイオード）であってよいし、固体レーザ素子であってもよいし、ガスレーザ素子であってもよい。レーザ装置１１は、面発光レーザであってもよいし、端面発光レーザであってもよい。

レーザ装置１１の数をｎ（ｎは２以上の整数）とする。つまり、複数のレーザ装置１１は、第１、第２、・・・第ｎレーザ装置である。この実施形態では、４つのレーザ装置１１ａ，１１ｂ，１１ｃ，１１ｄが設けられている（ｎ＝４）である。以下の説明では、レーザ装置１１ａ，１１ｂ，１１ｃ，１１ｄをそれぞれ第１、第２、第３、第４レーザ装置と称することがあるが、これに限定されることなく、例えばレーザ装置１１ａは第２、第３または第４レーザ装置であってもよい。一例では、第１、第２、第３、第４レーザ装置１１ａ，１１ｂ，１１ｃ，１１ｄから出射するレーザ光１００ａ，１００ｂ，１００ｃ，１００ｄの波長帯域中心はそれぞれλａ：１２９５．５ｎｍ、λｂ：１３００．０ｎｍ、λｃ：１３０４．５ｎｍ、λｄ：１３０９．０ｎｍであってよい。

ここで、筐体１４の実装面１４ａ（レーザ装置１１、コリメータ１２および合波器１３が固定された面）の面内方向を水平方向と称す。各レーザ装置１１から出射するレーザ光の光軸（互いに平行である）は、水平方向のうちＺ方向に平行な方向であるとする。このＺ方向を、レーザ光の出射方向または第１方向と称す。水平方向のうち、レーザ光の出射方向（Ｚ方向）に対して垂直な方向、つまり複数のレーザ装置１１が並べられている方向を、レーザ装置１１の配列方向、Ｘ方向と称す。水平方向に対して垂直な方向、つまり実装面１４ａの面直方向を鉛直方向またはＹ方向と称す。これらの方向は単に説明を簡単にするために記載しているのであって、これらの方向により本発明が限定されると理解するべきではない。

複数のコリメータ１２は、複数のレーザ装置１１から出射したレーザ光をそれぞれ平行化（コリメート）する機能を有する。レーザ装置１１の数がｎである場合、コリメータ１２の数もｎである。第１、第２、・・・第ｎレーザ装置に対応するコリメータを、第１、第２、・・・第ｎコリメータとする。第１、第２、・・・第ｎコリメータは、第１、第２、・・・第ｎレーザ装置からレーザ光の出射方向（Ｚ方向）にそれぞれ所定の距離を隔てて配置されている。第１、第２、・・・第ｎレーザ装置が一直線上（Ｘ方向）に並べて配置されていることに対応して、第１、第２、・・・第ｎコリメータも一直線上（Ｘ方向に対して平行な方向）に並べて配置されている。

この実施形態では、第１、第２、第３、第４レーザ装置１１ａ，１１ｂ，１１ｃ，１１ｄが設けられていることに対応して、第１、第２、第３、第４コリメータ１２ａ，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄが設けられている。図面では、各コリメータ１２は別個の光学素子（またはレンズ）であるように示しているが、本発明はこれに限定されることなく、各コリメータ１２はコリメートレンズアレイであってもよい。また、図面では、各コリメータ１２は１つのレンズであるように示しているが、本発明はこれに限定されることなく、複数のレンズで構成されていてもよい。

コリメータ１２について要求される例示的な位置決め精度は、レーザ装置１１の配列方向（Ｘ方向）と鉛直方向（Ｙ方向）では０．１μｍ、レーザ光の出射方向（Ｚ方向）では１．０μｍである。

図３、図４は、本発明の実施形態に従って製造される光モジュール１０に備えられる合波器１３を示す斜視図、平面図である。合波器１３は、複数のコリメータ１２から出射したレーザ光を合波する機能を有する。複数のレーザ装置１１からそれぞれ波長の異なるレーザ光が出射することにより、合波器１３から（つまり光モジュール１０から）は波長多重レーザ光１０１が出力される。

合波器１３は、フィルタブロック１３１、バンドパスフィルタ１３２およびミラー１３３を有している。フィルタブロック１３１は、平行六面体形状（または直方体形状）を有している。フィルタブロック１３１はガラス材料で作られていてよい。バンドパスフィルタ１３２とミラー１３３は、フィルタブロック１３１の対向する面に接着剤で貼り付けられ、これにより対向配置されている。バンドパスフィルタ１３２は誘電体多層膜であってよい。バンドパスフィルタ１３２の数は、レーザ装置１１の数より１つ少なくてよい。この実施形態では、４つのレーザ装置１１が設けられていることに対応して、３つのバンドパスフィルタ１３２ａ，１３２ｂ，１３２ｃが設けられている。

バンドパスフィルタ１３２ａ，１３２ｂ，１３２ｃはそれぞれ、レーザ装置１１ａ，１１ｂ，１１ｃから出射する波長帯域のレーザ光を透過させ、それ以外の波長帯域のレーザ光を反射するように構成されている。例えば、レーザ装置１１ａ，１１ｂ，１１ｃ，１１ｄから出射するレーザ光１００ａ，１００ｂ，１００ｃ，１００ｄの波長がそれぞれλａ：１２９５．５ｎｍ、λｂ：１３００．０ｎｍ、λｃ：１３０４．５ｎｍ、λｄ：１３０９．０ｎｍである場合、バンドパスフィルタ１３２ａ，１３２ｂ，１３２ｃの透過波長帯域はそれぞれ１２９３．５ｎｍ以上１２９７．５ｎｍ以下、１２９８．０ｎｍ以上１３０２．０ｎｍ以下、１３０２．５ｎｍ以上１３０６．５ｎｍ以下であってもよい。

ミラー１３３は、レーザ装置１１ａ，１１ｂ，１１ｃ，１１ｄから出射する波長帯域のレーザ光をすべて反射させるように構成されている。ミラー１３３は、表面に多層膜コート、金コートなどが設けられていてもよい。

［２．光モジュール１０の動作］
レーザ装置１１ａ，１１ｂ，１１ｃ，１１ｄから出射したレーザ光１００ａ，１００ｂ，１００ｃ，１００ｄは、コリメータ１２ａ，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄによりそれぞれ平行化され、合波器１３に入射する。レーザ装置１１ａ，１１ｂ，１１ｃはバンドパスフィルタ１３２ａ，１３２ｂ，１３２ｃを透過してフィルタブロック１３１に入射し、レーザ装置１１ｄは直接にフィルタブロック１３１に入射する。フィルタブロック１３１に入射した各レーザ光は、ミラー１３３とバンドパスフィルタ１３２ａ，１３２ｂ，１３２ｃ（ここでは、図４に示すように反射ミラーとして機能する）により順次反射される。例えば、レーザ光１００ｃは、レーザ装置１１ｃを透過してフィルタブロック１３１に入射した後、ミラー１３３、バンドパスフィルタ１３２ｂ、ミラー１３３およびバンドパスフィルタ１３２ａの順で順次反射される。そして、レーザ光１００ａ，１００ｂ，１００ｃ，１００ｄは合波されて波長多重レーザ光１０１として筐体１４の開口部１４１から出射する。

［３．光モジュール１０の製造装置２０］
図５、図６は、実施形態１に係る光モジュール１０の製造装置２０の概略を示すブロック図、斜視図を示す。製造装置２０は、ステージ２１、給電装置２２、撮像装置２３、コリメータ調整機構２４、合波器調整機構２５、レーザ光測定部２６およびコントローラ２７を備えている。

ステージ２１の上には、光モジュール１０の半製品の筐体１４が載置される。この半製品は、筐体１４内に実装されたレーザ装置１１を有している。給電装置２２は、リード２２１を介して複数のレーザ装置１１に接続されており、レーザ装置１１のレーザ素子とペルチェ素子にそれぞれ独立した電流を供給できるようにされている。撮像装置２３は、レーザ装置１１を撮影するように構成されている。撮像装置２３はＣＣＤカメラであってもよいし、ＣＭＯＳカメラであってもよい。

コリメータ調整機構２４は、コリメータ１２を把持するためのコリメータ把持部２４１と、コリメータ把持部２４１に加わる鉛直方向（Ｙ方向）の力（重力）を測定する荷重検知部２４２とを有する。コリメータ調整機構２４は、レーザ装置１１の配列方向（Ｘ方向）、鉛直方向（Ｙ方向）およびレーザ光の出射方向（Ｚ方向）にそれぞれ独立して移動可能なモータステージ（図示せず）を有しており、これにより、コリメータ調整機構２４は各コリメータ１２をＸ，Ｙ，Ｚ方向に移動させることができる。当該モータステージは、コリメータ調整機構２４内に収容されていてよい。

合波器調整機構２５は、合波器１３を把持するための合波器把持部２５１と、合波器把持部２５１に加わる鉛直方向（Ｙ方向）の力（重力）を測定する荷重検知部２５２とを有する。合波器調整機構２５は、レーザ装置１１の配列方向（Ｘ方向）、鉛直方向（Ｙ方向）およびレーザ光の出射方向（Ｚ方向）にそれぞれ独立して移動可能なモータステージ（図示せず）を有している。また、このモータステージは、レーザ光の出射方向（Ｚ方向）に対して垂直な２つの方向、つまりレーザ装置１１の配列方向（Ｘ方向）と鉛直方向（Ｙ方向）に延びる軸周りにそれぞれ独立して回転可能である。これらの回転方向を、それぞれθＸ方向とθＹ方向と称し、ある方向を基準としたθＸ方向とθＹ方向の角度をθＸ，θＹと称す。これにより、合波器調整機構２５は合波器１３をθＸ方向とθＹ方向に回転させることができる。当該モータステージは、合波器調整機構２５内に収容されていてよい。

レーザ光測定部２６は、合波器１３から出射したレーザ光１０２の光量を測定するための光量測定装置２６１と、当該レーザ光１０２の位置を測定する位置測定装置２６２と、当該レーザ光１０２の角度を測定する角度測定装置２６３とを有する。レーザ光１０２は、レーザ装置１１ａ，１１ｂ，１１ｃ，１１ｄから出射したレーザ光１００ａ，１００ｂ，１００ｃ，１００ｄのいずれかに由来するレーザ光である。レーザ光１０２の位置は、位置測定装置２６２が有する検出面においてレーザ光１０２が入射する座標（重心座標）により求められる。レーザ光１０２の角度は、角度測定装置２６３が有する、レーザ光１０２の進行方向に並べて配置された複数のマイクロレンズアレイにおいてレーザ光１０２が入射する座標同士を比較することにより求められる。

光量測定装置２６１は、パワーメータであってもよいし、画像処理によりレーザ光の面積演算を行うためのプロセッサがメモリに記憶された任意のコンピュータであってもよい。位置測定装置２６２は、画像処理によりレーザ光の重心演算を行うためのプロセッサがメモリに記憶された任意のコンピュータであってもよい。角度測定装置２６３は波面センサ、例えばシャックハルトマン（Ｓｈａｃｋ−Ｈａｒｔｍａｎｎ）型波面センサであってもよい。

この実施形態では、レーザ光測定部２６はビームスプリッタ２６４，２６５を有している。ビームスプリッタ２６４，２６５は、合波器１３から出射したレーザ光１０２を分割して光量測定装置２６１、位置測定装置２６２および角度測定装置２６３に入射させる機能を有している。ビームスプリッタ２６４，２６５はハーフミラーであってよい。

コントローラ２７は、ＣＰＵ（中央処理装置）およびメモリを有しており、メモリに記憶されたプログラムをＣＰＵが実施することにより、本明細書に記載された演算、比較などの処理を実行することが可能である。図５に示すように、コントローラ２７は、給電装置２２、撮像装置２３、コリメータ調整機構２４、合波器調整機構２５、光量測定装置２６１、位置測定装置２６２および角度測定装置２６３に接続されている。

［４．光モジュール１０の製造方法］
図７は、実施形態１に係る光モジュール１０の製造方法を示すフローチャートである。この方法は、ステップ３０１〜３０７を有している。光モジュール１０の製造装置２０に備えられたコントローラ２７は、ステップ３０１〜３０７を実施するように動作可能である。ステップ３０１〜３０７はこの順に実施する。

ステップ３０１では、筐体１４の実装面１４ａにレーザ装置１１が実装された光モジュール１０の半製品を準備し、オペレータが、この半製品の筐体１４をステージ２１の上に載置する。レーザ装置１１は、任意の方法で筐体１４内に実装してよいが、例えば特開第２００４−７７３８１号公報に開示された方法を用いて筐体１４内に実装してもよい。具体的には、レーザ装置１１と筐体１４の実装面１４ａに計測用の光を照射して、それぞれの反射光の干渉具合からレーザ装置１１の検出高さを検出する。レーザ装置１１の位置計測結果を用いて筐体１４の実装面１４ａに精度良く実装することで、レーザ光軸の位置調整を行うことができる。

ステップ３０２では、筐体１４内での、レーザ装置１１の配列方向（Ｘ方向）およびレーザ光の出射方向（Ｚ方向）におけるコリメータ１２の位置を仮調整するためのＸ，Ｚ方向の移動量を決定する。

具体的には、まず、複数のレーザ装置１１を撮像装置２３で撮影する。撮像装置２３で撮影したレーザ装置１１の画像は、コントローラ２７に送信される。コントローラ２７は、メモリに記憶された画像処理プログラムを用いて、レーザ装置１１の位置を検出する。レーザ装置１１の位置は、レーザ装置１１の出射面の位置であってもよい。画像処理プログラムは、パターンマッチングおよびエッジ認識を含んでいてもよい。そして、コントローラ２７は、検出した位置と、メモリに記憶されたレーザ装置１１のリファレンス位置との差分を計算し、この差分をレーザ装置１１の配列方向（Ｘ方向）およびレーザ光の出射方向（Ｚ方向）におけるコリメータ１２の移動量とする。そして、コントローラ２７が、コリメータ調整機構２４のコリメータ把持部２４１を制御し、決定した移動量だけコリメータ１２を移動させる。

なお、コリメータ１２の位置が所望の範囲内にあることが予めわかっている場合、ステップ３０２を省略してもよい。

ステップ３０３では、コリメータ１２の鉛直方向（Ｙ方向）の位置を調整する。まず、コリメータ調整機構２４の荷重検知部２４２により、コリメータ１２の鉛直方向の現在の位置を検出する。検出された鉛直方向の現在の位置はコントローラ２７にフィードバックされる。コントローラ２７は、コリメータ調整機構２４のコリメータ把持部２４１を制御し、コリメータ１２を所定の位置まで鉛直方向（Ｙ方向）に移動させる。この所定の位置は、荷重検知部２５２により検知されたコリメータ１２の荷重がゼロより大きくなる位置であってもよいし、コリメータ１２の荷重が（ゼロより大きい）所定値より大きくなる位置であってもよい。

ステップ３０２，３０３では、第１レーザ装置１１ａを作動させた状態で第１コリメータ１２ａについてステップ３０２，３０３を連続的に実施した後、作動させるレーザ装置を残りの第２、第３、第４レーザ装置１１ｂ，１１ｃ，１１ｄに切り替えつつ、第２、第３、第４コリメータ１２ｂ，１２ｃ，１２ｄについてステップ３０２，３０３を連続的に実施してよい。

ステップ３０４では、筐体１４内での、レーザ装置１１の配列方向（Ｘ方向）およびレーザ光の出射方向（Ｚ方向）における合波器１３の位置、および、配列方向（Ｘ方向）と鉛直方向（Ｙ方向）に延びる軸周りの向きを仮調整する。具体的には、まず、ステップ３０３で仮調整がされたコリメータ１２の位置がコントローラ２７にフィードバックされ、コントローラ２７はその位置を基に、合波器１３の移動量を決定する。そして、コントローラ２７が、合波器調整機構２５の合波器把持部２５１を制御し、決定した移動量だけ合波器１３をＸ方向、Ｚ方向に移動させるとともに、決定した回転角度だけ合波器１３を回転させる。

なお、合波器１３の位置および向きが所望の範囲内にあることが予めわかっている場合、ステップ３０４を省略してもよい。

ステップ３０５では、合波器１３の鉛直方向（Ｙ方向）の位置を調整する。まず、合波器調整機構２５の荷重検知部２５２により、合波器１３の鉛直方向の現在の位置を検出する。検出した鉛直方向の現在の位置はコントローラ２７にフィードバックされる。コントローラ２７が、合波器調整機構２５の合波器把持部２５１を制御し、合波器１３を所定の位置まで鉛直方向（Ｙ方向）に移動させる。この所定の位置は、荷重検知部２５２により検知された合波器１３の荷重がゼロより大きくなる位置であってもよいし、合波器１３の荷重が（ゼロより大きい）所定値より大きくなる位置であってもよい。

ステップ３０６では、コリメータ１２の位置と合波器１３の位置および向きを調整し、複数のレーザ装置１１から放射されるレーザ光について光軸調整プロセスを実施する。この光軸調整プロセスについて、詳しくは後述する。

ステップ３０７では、ステップ３０６で調整された位置および向きの状態で、光モジュール１０の筐体１４の実装面１４ａに対してコリメータ１２と合波器１３を固定する。具体的には、まず、ステップ３０６で調整されたコリメータ１２の位置と合波器１３の位置および向きをコントローラ２７のメモリに記憶させる。ここで、コントローラ２７のメモリが記憶する位置および向きは、コントローラ２７からコリメータ調整機構２４と合波器調整機構２５へ送信した制御信号の履歴に基づいて計算してもよいし、ステップ３０６が終了した時点でコリメータ調整機構２４と合波器調整機構２５からコントローラ２７に送信してもよい。

次に、コントローラ２７がコリメータ調整機構２４と合波器調整機構２５を制御して、コリメータ１２と合波器１３を、ステップ３０６で調整された位置から一時的に他の位置へ移動させる。その状態で、コリメータ１２と合波器１３の所定箇所（例えば一面）に紫外線硬化性樹脂を塗布する。そして、コリメータ１２と合波器１３を、コントローラ２７のメモリに記憶された元の位置に移動させ、紫外線を照射することにより、コリメータ１２と合波器１３を紫外線硬化性樹脂ごと筐体１４の実装面１４ａに接着固定する。コリメータ１２と合波器１３は、熱硬化性樹脂により筐体１４の実装面１４ａに接着固定してもよいし、他の方法で固定してもよい。

［５．光モジュール１０の光軸調整プロセス］
図８は、実施形態１に係る光モジュール１０の製造方法のうち光軸調整プロセスを示すフローチャートである。光モジュール１０の光軸調整を行うステップ３０６は、以下のステップ３１１〜３２４を含んでいる。ステップ３１１〜３２４はこの順で実施する。

ステップ３１１では、給電装置２２を用いて、複数のレーザ装置１１のうち１つのレーザ装置のレーザ素子とペルチェ素子に給電する。レーザ素子に供給される電流の大きさに応じて、レーザ装置１１から出射するレーザ光の強度が変化する。レーザ素子１１の温度に応じて、つまり、ペルチェ素子に供給される電流の大きさに応じて、放射されるレーザ光の波長帯域が変化する。したがって、コントローラ２７が給電装置２２からレーザ装置１１のレーザ素子とペルチェ素子に供給される電流の大きさを制御することにより、所望の強度と波長を有するレーザ光をレーザ装置１１から放射させることができる。

ステップ３１２では、レーザ光測定部２６の光量測定装置２６１、位置測定装置２６２および角度測定装置２６３から、それぞれ、合波器１３から出射したレーザ光１０２の光量、位置および角度をコントローラ２７で取得する。なお、合波器１３から出射したレーザ光１０２とは、光モジュール１０の半製品において筐体１４の開口部を透過したレーザ光である。この後のステップにおいて、合波器１３から出射したレーザ光１０２の光量、位置および角度は、コントローラ２７に連続的に出力される。

ステップ３１３では、ステップ３１２で取得したレーザ光の光量、位置および角度が規定の範囲内であるか否かを決定する。既定の範囲内であると決定した場合は、ステップ３２３，３２４を実施する。既定の範囲内でないと決定した場合は、ステップ３１４〜３２２を実施する。

以下の説明では、第１レーザ装置１１ａ、第２レーザ装置１１ｂ、・・・第ｎレーザ装置の順に光軸調整プロセスを実施しているが、本発明はこれに限定されることなく、複数のレーザ装置１１について任意の順序で光軸調整プロセスを実施してよい。

図９Ａは、第１レーザ装置１１ａについて、レーザ光の出射方向（Ｚ方向）における第１コリメータ１２ａの位置調整方法を示すグラフである。グラフの横軸は、Ｚ方向での第１コリメータ１２ａの変位量を示す。グラフの縦軸は、光量測定装置２６１により測定された、合波器１３から出射したレーザ光の光量に対応するビームフォーカスを示す。グラフに示された実線は相関関係を示す。この相関関係は、光モジュール１０においてコリメータ１２と合波器１３を最適な位置に調整した後に、コリメータ１２の位置をＺ方向に所定距離ずつ移動させて取得した、合波器１３から出射したレーザ光のビームフォーカスの実測値である。グラフの原点の縦軸の値（ゼロ：０）は、ビームフォーカスの目標値である。

ステップ３１４では、合波器１３から出射したレーザ光のビームフォーカスの、目標値に対するずれがなくなるように、レーザ光の出射方向（Ｚ方向）における第１コリメータ１２ａの移動量ΔＺａを決定する。

次に、給電装置２２をコントローラ２７で制御することにより、作動させるレーザ装置１１を第２、第３、第４レーザ装置１１ｂ，１１ｃ，１１ｄに切り替えて、ステップ３１４を繰り返して行う。レーザ光の出射方向（Ｚ方向）における第２、第３、第４コリメータ１２ｂ，１２ｃ，１２ｄの移動量ΔＺｂ，ΔＺｃ，ΔＺｄは、図９Ｂに示すとおりである。

ステップ３１５では、コントローラ２７が、コリメータ調整機構２４のコリメータ把持部２４１を制御し、ステップ３１４で決定した移動量ΔＺａ，ΔＺｂ，ΔＺｃ，ΔＺｄだけコリメータ１２ａ，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄをレーザ光の出射方向（Ｚ方向）へ移動させる。Ｚ方向においてレーザ装置１１側にコリメータ１２を移動させた場合、レーザ装置１１から出射したレーザ光はより小さい拡がり角でコリメータ１２に入射し、これによりコリメータ１２から出射するレーザ光のビーム径が小さくなる。

ステップ３１４，３１５は、レーザ装置１１から出射したレーザ光が光量測定装置２６１、位置測定装置２６２および角度測定装置２６３の検出面内に入るようにコリメータ１２の位置を調節するために行われる。したがって、ステップ３１４，３１５を実施しなくてもレーザ装置１１から出射したレーザ光が前記検出面内に入っていることが予め判っている場合、ステップ３１４，３１５を省略してもよい。

図１０Ａは、レーザ装置１１の配列方向（Ｘ方向）における第１コリメータ１２ａの位置（横軸）と、第１レーザ装置１１ａについて合波器１３から出射するレーザ光１０２のビーム角度θＸ（縦軸）との関係を示すグラフである。ビーム角度θＸは、角度測定装置２６３により測定された値である。グラフに示された実線は相関関係を示す。この相関関係は、光モジュール１０においてコリメータ１２と合波器１３を最適な位置に調整した後に、コリメータ１２の位置をＸ方向に所定距離ずつ移動させて取得した、合波器１３から出射したレーザ光のビーム角度θＸの実測値である。グラフの原点の縦軸の値（ゼロ：０）は、ビーム角度θＸの目標値である。

ステップ３１６では、（ステップ３１５でコリメータ１２を移動させた後に測定された）合波器１３から出射したレーザ光１０２のビーム角度θＸの、目標値に対するずれがなくなるように、レーザ装置１１の配列方向（Ｘ方向）における第１コリメータ１２ａの移動量ΔＸａを決定する。

次に、給電装置２２をコントローラ２７で制御することにより、作動させるレーザ装置１１を第２、第３、第４レーザ装置１１ｂ，１１ｃ，１１ｄに切り替えて、ステップ３１６を繰り返して行う。レーザ装置１１の配列方向（Ｘ方向）における第２、第３、第４コリメータ１２ｂ，１２ｃ，１２ｄの移動量ΔＸｂ，ΔＸｃ，ΔＸｄは、図１０Ｂに示すとおりである。

図１１Ａは、鉛直方向（Ｙ方向）における第１コリメータ１２ａの位置（横軸）と、第１レーザ装置１１ａについて合波器１３から出射するレーザ光１０２のビーム角度θＹ（縦軸）との関係を示すグラフである。ビーム角度θＹは、角度測定装置２６３により測定された値である。グラフに示された実線は相関関係を示す。この相関関係は、光モジュール１０においてコリメータ１２と合波器１３を最適な位置に調整した後に、コリメータ１２の位置をＹ方向に所定距離ずつ移動させて取得した、合波器１３から出射したレーザ光のビーム角度θＹの実測値である。グラフの原点の縦軸の値（ゼロ：０）は、ビーム角度θＹの目標値である。

ステップ３１７では、合波器１３から出射したレーザ光１０２のビーム角度θＹの、目標値に対するずれがなくなるように、鉛直方向における第１コリメータ１２ａの移動量ΔＹａを決定する。

次に、給電装置２２をコントローラ２７で制御することにより、作動させるレーザ装置１１を第２、第３、第４レーザ装置１１ｂ，１１ｃ，１１ｄに切り替えて、ステップ３１７を繰り返して行う。鉛直方向（Ｙ方向）における第２、第３、第４コリメータ１２ｂ，１２ｃ，１２ｄの移動量ΔＹｂ，ΔＹｃ，ΔＹｄは、図１１Ｂに示すとおりである。

図１２Ａは、レーザ装置１１の配列方向（Ｘ方向）におけるコリメータ１２の位置（横軸）と、第１レーザ装置１１ａについて合波器１３から出射するレーザ光１０２の位置Ｘ（縦軸）との関係を示すグラフである。レーザ光の位置Ｘは、位置測定装置２６２により測定された値である。グラフに示された実線は相関関係を示す。この相関関係は、光モジュール１０においてコリメータ１２と合波器１３を最適な位置に調整した後に、コリメータ１２の位置をＸ方向に所定距離ずつ移動させて取得したレーザ光の位置Ｘの実測値である。グラフの原点の縦軸の値（ゼロ：０）は、レーザ光の位置Ｘの目標値である。

ステップ３１８では、ステップ３１６で決定した移動量ΔＸａだけ第１コリメータ１２ａをレーザ装置１１の配列方向（Ｘ方向）に移動させたときのレーザ光の位置Ｘの予測変化量∂Ｘａを決定する。

図１２Ｂは、第２、第３、第３レーザ装置１１ｂ，１１ｃ，１１ｄについて、図１１Ａに対応するグラフである。第２、第３、第３レーザ装置１１ｂ，１１ｃ，１１ｄについてステップ３１７を繰り返し、ステップ３１６で決定した移動量ΔＸｂ，ΔＸｃ，ΔＸｄだけ第２、第３、第３コリメータ１２ｂ，１２ｃ，１２ｄをそれぞれレーザ装置１１の配列方向（Ｘ方向）に移動させたときのレーザ光の位置Ｘの予測変化量∂Ｘｂ，∂Ｘｃ，∂Ｘｄを決定する。

図１３Ａは、鉛直方向（Ｙ方向）におけるコリメータ１２の位置（横軸）と、第１レーザ装置１１ａについて合波器１３から出射するレーザ光１０２の位置Ｙ（縦軸）との関係を示すグラフである。レーザ光の位置Ｘは、位置測定装置２６２により測定された値である。グラフに示された実線は相関関係を示す。この相関関係は、光モジュール１０においてコリメータ１２と合波器１３を最適な位置に調整した後に、コリメータ１２の位置をＹ方向に所定距離ずつ移動させて取得したレーザ光の位置Ｙの実測値である。グラフの原点の縦軸の値（ゼロ：０）は、レーザ光の位置Ｙの目標値である。

ステップ３１９では、ステップ３１８で決定した移動量ΔＹａだけ第１コリメータ１２ａを鉛直方向（Ｘ方向）に移動させたときのレーザ光の位置Ｙの予測変化量∂Ｙａを決定する。

図１３Ｂは、第２、第３、第３レーザ装置１１ｂ，１１ｃ，１１ｄについて、図１３Ａに対応するグラフである。第２、第３、第３レーザ装置１１ｂ，１１ｃ，１１ｄについてステップ３１９を繰り返し、ステップ３１８で決定した移動量ΔＹｂ，ΔＹｃ，ΔＹｄだけ第２、第３、第３コリメータ１２ｂ，１２ｃ，１２ｄをそれぞれ鉛直（Ｙ方向）に移動させたときのレーザ光の位置Ｙの予測変化量∂Ｙｂ，∂Ｙｃ，∂Ｙｄを決定する。

図１４Ａは、鉛直方向（Ｙ方向）に延びる軸周りの合波器１３の回転角度θＹ（横軸）と、第１レーザ装置１１ａについて合波器１３から出射するレーザ光１０２の位置Ｘ（縦軸）との関係を示すグラフである。レーザ光の位置Ｘは、位置測定装置２６２により測定された値である。グラフに示された実線は相関関係を示す。この相関関係は、光モジュール１０においてコリメータ１２と合波器１３を最適な位置に調整した後に、合波器１３をθＹ方向に所定角度ずつ回転させて取得したレーザ光の位置Ｘの実測値である。グラフの原点の縦軸の値（ゼロ：０）は、レーザ光の位置Ｘの目標値である。

ステップ３２０では、ステップ３１７で決定したレーザ光の位置Ｘの予測変化量∂Ｘａを補償することが可能な、合波器１３の回転角度ΔθＹａを決定する。

図１４Ｂは、第２、第３、第３レーザ装置１１ｂ，１１ｃ，１１ｄについて、図１４Ａに対応するグラフである。第２、第３、第３レーザ装置１１ｂ，１１ｃ，１１ｄについてステップ３２０を繰り返し、ステップ３１７で決定したレーザ光の位置Ｘの予測変化量∂Ｘｂ，∂Ｘｃ，∂Ｘｄを補償することが可能な、合波器１３の回転角度ΔθＹｂ，ΔθＹｃ，ΔθＹｄを決定する。

図１５Ａは、レーザ装置１１の配列方向（Ｘ方向）に延びる軸周りの合波器１３の回転角度θＸ（横軸）と、第１レーザ装置１１ａについて合波器１３から出射するレーザ光１０２の位置Ｙ（縦軸）との関係を示すグラフである。レーザ光の位置Ｙは、位置測定装置２６２により測定された値である。グラフに示された実線は相関関係を示す。この相関関係は、光モジュール１０においてコリメータ１２と合波器１３を最適な位置に調整した後に、合波器１３をθＸ方向に所定角度ずつ回転させて取得したレーザ光の位置Ｙの実測値である。グラフの原点の縦軸の値（ゼロ：０）は、レーザ光の位置Ｙの目標値である。

ステップ３２１では、ステップ３１９で決定したレーザ光の位置Ｙの予測変化量∂Ｙａを補償することが可能な、合波器１３の回転角度ΔθＸａを決定する。

図１５Ｂは、第２、第３、第３レーザ装置１１ｂ，１１ｃ，１１ｄについて、図１５Ａに対応するグラフである。第２、第３、第３レーザ装置１１ｂ，１１ｃ，１１ｄについてステップ３２１を繰り返し、ステップ３１９で決定したレーザ光の位置Ｙの予測変化量∂Ｙｂ，∂Ｙｃ，∂Ｙｄを補償することが可能な、合波器１３の回転角度ΔθＸｂ，ΔθＸｃ，ΔθＸｄを決定する。

ステップ３２２では、まず、コントローラ２７が、ステップ３１６で決定した移動量ΔＸａ，ΔＸｂ，ΔＸｃ，ΔＸｄの平均移動量ΔＸｍ、および、ステップ３１７で決定した移動量ΔＹａ，ΔＹｂ，ΔＹｃ，ΔＹｄの平均移動量ΔＹｍを計算する。平均移動量は、移動量の単純平均であってもよいし、加重平均であってもよい。

ステップ３２２では、次に、コントローラ２７が、コリメータ調整機構２４のコリメータ把持部２４１を制御し、計算した平均移動量ΔＸｍ、ΔＹｍだけ第１、第２、第３、第４コリメータ１２ａ，１２ａ，１２ｃ，１２ｄをレーザ装置１１の配列方向（Ｘ方向）および鉛直方向（Ｙ方向）にそれぞれ移動させる。また、コントローラ２７が、合波器調整機構２５の合波器把持部２５１を制御し、ステップ３２１で決定した回転角度ΔθＹａ，ΔθＹｂ，ΔθＹｃ，ΔθＹｄだけ、鉛直方向（Ｙ方向）に延びる軸周りに合波器１３を回転させ、ステップ３２１で決定した回転角度ΔθＸａ，ΔθＸｂ，ΔθＸｃ，ΔθＸｄだけ、レーザ装置１１の配列方向（Ｘ方向）に延びる軸周りに合波器１３を回転させる。

このように、コリメータ１２を移動させたときに生じる、レーザ装置１１の配列方向（Ｘ方向）におけるレーザ光の位置の変化量（δＸａ，δＸｂ，δＸｃ，δＸｄ）、および鉛直方向（Ｙ方向）におけるレーザ光の位置の変化量（δＹａ，δＹｂ，δＹｃ，δＹｄ）は、合波器１３のＹ方向の回転、およびＸ方向の回転により補償され、ステップ３２２の後には生じない。これにより、レーザ装置１１から出射するレーザ光の光軸調整を高精度に行うことが可能である。

図８には示していないが、ステップ３１４〜３２２は、レーザ光測定部２６の光量測定装置２６１、位置測定装置２６２および角度測定装置２６３により取得された、合波器１３から出射したレーザ光の光量、位置および角度が規定の範囲内の値となるまで繰り返し実施される。合波器１３から出射したレーザ光の光量、位置および角度が規定の範囲内の値となる（ステップ３１３：ＹＥＳ）と、任意のステップ３２３，３２４が実施される。

任意のステップ３２３では、（ステップ３２３でコリメータ１２の位置と合波器１３の位置、向きを調整した後に測定された）合波器１３から出射したレーザ光１０２の位置の、目標値に対するずれがなくなるように、鉛直方向（Ｙ方向）に延びる軸周りの合波器１３の回転角度θＹ、および、レーザ装置１１の配列方向（Ｘ方向）に延びる軸周りの合波器１３の回転角度θＸを決定する。

次に、給電装置２２をコントローラ２７で制御することにより、作動させるレーザ装置１１を第２、第３、第４レーザ装置１１ｂ，１１ｃ，１１ｄに切り替えて、ステップ３２３を繰り返して行う。

次のステップ３２４では、コントローラ２７が、合波器調整機構２５の合波器把持部２５１を制御し、ステップ３２１で決定した回転角度だけ鉛直方向（Ｙ方向）に延びる軸周り、およびレーザ装置１１の配列方向（Ｘ方向）に延びる軸周りに合波器１３を回転させる。

実施の形態２．
図１６、図１７は、実施形態２に係る光モジュール１０の製造装置２２０の概略を示すブロック図、斜視図を示す。製造装置２２０は、レーザ光測定部２６の構成において、実施形態１に係る製造装置２０と異なる。他の構成において、製造装置２２０は製造装置２０と同一であり、これらの共通する構成には製造装置２０で用いた符号と同じ符号を付して説明を省略する。

製造装置２２０は、レーザ光測定部２６に対応するレーザ光測定装置２２６を備えている。レーザ光測定装置２２６は、合波器１３から出射したレーザ光の光量を測定する機能、当該レーザ光の位置を測定する機能、当該レーザ光の角度を測定する機能を実施可能である。このレーザ光測定装置２２６は、例えば特開２０１７−３２４３０に記載されたセンサであってもよい。

実施形態２に係る製造装置２２０によれば、より簡易な構成により、実施形態１と同様の作用効果を得ることができる。

以上、複数の実施形態を挙げて本発明について説明したが、各実施形態に記載された特徴は、自由に組み合わせられてよい。また、上述の実施形態には、種々の改良、設計上の変更および削除が加えられてよく、本発明にはさまざまな変形例が存在する。

１０ 光モジュール、 １１、１１ａ〜１１ｄ レーザ装置、 １２、１２ａ〜１２ｄ コリメータ、 １３ 合波器、 １４ 筐体、 ２０，２２０ 光モジュールの製造装置、 ２１ ステージ、 ２２ 給電装置、 ２３ 撮像装置、 ２４ コリメータ調整機構、 ２５ 合波器調整機構、 ２６ レーザ光測定部、 ２７ コントローラ、 １００ａ〜１００ｄ レーザ光、 １０１ 波長多重レーザ光、 １０２ レーザ光、 １３１ フィルタブロック、 １３２、１３２ａ〜１３２ｃ バンドパスフィルタ、 １３３ ミラー、 １４１ 開口部、 ２２１ リード、 ２２６ レーザ光測定装置、 ２４１ コリメータ把持部、 ２４２ 荷重検知部、 ２５１ 合波器把持部、 ２５２ 荷重検知部、 ２６１ 光量測定装置、 ２６２ 位置測定装置、 ２６３ 角度測定装置、 ２６４，２６５ ビームスプリッタ

Claims (9)

1. 互いに波長の異なるレーザ光を放射することが可能な第１、第２、・・・第ｎレーザ装置と、前記第１、第２、・・・第ｎレーザ装置から出射したレーザ光をそれぞれ平行化するための第１、第２・・・第ｎコリメータと、前記第１、第２、・・・第ｎコリメータから出射したレーザ光を合波して波長多重レーザ光を出力するための合波器とを備えた光モジュールの製造方法であって、ｎは２以上の整数であり、前記第１、第２、・・・第ｎレーザ装置からのレーザ光の出射方向は、第１方向に平行であり、
   （ａ）前記第１レーザ装置を作動させた状態で測定した、前記合波器から出射したレーザ光の角度を基に、前記第１方向に対して垂直な第２、第３方向における前記第１コリメータの移動量を決定するステップと、
   （ｂ）前記ステップ（ａ）で決定した移動量だけ前記第１コリメータを前記第２、第３方向にそれぞれ移動させたときの、前記第２、第３方向におけるレーザ光の位置の予測変化量を決定するステップと、
   （ｃ）前記第２、・・・第ｎレーザ装置について前記ステップ（ａ），（ｂ）を繰り返すステップと、
   （ｄ）前記ステップ（ｂ）で決定した前記第２、第３方向におけるレーザ光の位置の予測変化量を補償することが可能な、前記第３、第２方向に延びる軸周りの前記合波器の回転角度を決定するステップと、
   （ｅ）前記ステップ（ａ）で決定した移動量だけ前記第１コリメータを前記第２、第３方向にそれぞれ移動させ、かつ、前記ステップ（ｄ）で決定した回転角度だけ前記第３、第２方向に延びる軸周りにそれぞれ前記合波器を回転させるステップと、を含む、
   光モジュールの製造方法。
2. （ｆ）前記ステップ（ａ）の前に、前記第１レーザ装置を作動させた状態で測定した、前記合波器から出射したレーザ光の強度を基に、前記出射方向における第１コリメータの移動量を決定するステップと、
   （ｇ）前記ステップ（ｆ）で決定した移動量だけ前記第１コリメータを前記出射方向に移動させるステップと、
   （ｈ）前記第２、・・・第ｎレーザ装置について前記ステップ（ｆ），（ｇ）を繰り返すステップと、をさらに含む、
   請求項１に記載の光モジュールの製造方法。
3. （ｉ）前記ステップ（ｅ）の後、前記第１レーザ装置を作動させた状態で測定した、前記合波器から出射したレーザ光の位置を基に、前記合波器の前記第１、第２方向に延びる軸周りの回転角度を決定するステップと、
   （ｊ）前記ステップ（ｉ）で決定した回転角度だけ、前記合波器を前記第１、第２方向に延びる軸周りにそれぞれ回転させるステップと、
   （ｋ）前記第２、・・・第ｎレーザ装置について前記ステップ（ｉ）、（ｊ）を繰り返すステップと、をさらに含む、
   請求項１または２に記載の光モジュールの製造方法。
4. （ｌ）前記ステップ（ａ）の前に、前記第１、第２、・・・第ｎレーザ装置の位置を取得するステップと、
   （ｍ）前記ステップ（ｌ）で取得した前記第１、第２、・・・第ｎレーザ装置の位置と、予め取得した前記第１、第２、・・・第ｎレーザ装置のリファレンス位置との差分だけ、前記第１、第２、・・・第ｎコリメータを移動させるステップと、をさらに含む、
   請求項１から３のいずれか１項に記載の光モジュールの製造方法。
5. 互いに波長の異なるレーザ光を放射することが可能な第１、第２、・・・第ｎレーザ装置と、前記第１、第２、・・・第ｎレーザ装置から出射したレーザ光をそれぞれ平行化するための第１、第２・・・第ｎコリメータと、前記第１、第２、・・・第ｎコリメータから出射したレーザ光を合波して波長多重レーザ光を出力するための合波器とを備えた光モジュールの製造装置であって、ｎは２以上の整数であり、前記第１、第２、・・・第ｎレーザ装置からのレーザ光の出射方向は、第１方向に平行であり、
   前記第１、第２、・・・第ｎコリメータを、前記第１方向に対して垂直な第２、第３方向にそれぞれ移動させることが可能なコリメータ調整機構と、
   前記合波器を、前記第１、第２方向に延びる軸周りにそれぞれ回転させることが可能な合波器調整機構と、
   前記コリメータ調整機構および前記合波器調整機構を制御するためのコントローラと、
   前記合波器から出射したレーザ光の角度を測定可能なレーザ光測定部とを備え、
   前記コントローラは、
   （ａ）前記第１レーザ装置を作動させた状態で前記レーザ光測定部により測定した、前記合波器から出射したレーザ光の角度を基に、前記第２、第３方向における前記第１コリメータの移動量を決定する動作と、
   （ｂ）前記動作（ａ）で決定した移動量だけ前記第１コリメータを前記第２、第３方向にそれぞれ移動させたときの、前記第２、第３方向におけるレーザ光の位置の予測変化量を決定する動作と、
   （ｃ）前記第２、・・・第ｎレーザ装置について前記動作（ａ），（ｂ）を繰り返す動作と、
   （ｄ）前記動作（ｂ）で決定した前記第２、第３方向におけるレーザ光の位置の予測変化量を補償することが可能な、前記第３、第２方向に延びる軸周りの前記合波器の回転角度を決定する動作と、
   （ｅ）前記動作（ａ）で決定した移動量だけ前記第１コリメータが前記第２、第３方向にそれぞれ移動し、かつ、前記動作（ｄ）で決定した回転角度だけ前記第３、第２方向に延びる軸周りにそれぞれ前記合波器が回転するように前記コリメータ調整機構および前記合波器調整機構を制御する動作と、を実行するように構成されている、
   光モジュールの製造装置。
6. 前記コリメータ調整機構は、さらに、前記第１、第２、・・・第ｎコリメータを前記出射方向に移動させることが可能であり、
   前記レーザ光測定部は、さらに、前記合波器から出射したレーザ光の強度を測定可能であり、
   前記コントローラは、さらに、
   （ｆ）前記動作（ａ）の前に、前記第１レーザ装置を作動させた状態で前記レーザ光測定部により測定した、前記合波器から出射したレーザ光の強度を基に、前記出射方向における第１コリメータの移動量を決定する動作と、
   （ｇ）前記動作（ｆ）で決定した移動量だけ前記第１コリメータが前記出射方向に移動するように前記コリメータ調整機構を制御する動作と、
   （ｈ）前記第２、・・・第ｎレーザ装置について前記動作（ｆ），（ｇ）を繰り返す動作と、を実行するように構成されている、
   請求項５に記載の光モジュールの製造装置。
7. 前記レーザ光測定部は、さらに、前記合波器から出射したレーザ光の位置を測定可能であり、
   前記コントローラは、さらに、
   （ｉ）前記動作（ｅ）の後、前記第１レーザ装置を作動させた状態で前記レーザ光測定部により測定した、前記合波器から出射したレーザ光の位置を基に、前記合波器の前記第１、第２方向に延びる軸周りの回転角度を決定する動作と、
   （ｊ）前記動作（ｉ）で決定した回転角度だけ、前記合波器が前記第１、第２方向に延びる軸周りにそれぞれ回転するように前記合波器調整機構を制御する動作と、
   （ｋ）前記第２、・・・第ｎレーザ装置について前記動作（ｉ）、（ｊ）を繰り返す動作と、を実行するように構成されている、
   請求項５または６に記載の光モジュールの製造装置。
8. 前記コリメータ調整機構は、さらに、前記第１、第２、・・・第ｎコリメータを前記出射方向に移動させることが可能であり、
   前記コントローラは、さらに、
   （ｌ）前記動作（ａ）の前に、前記第１、第２、・・・第ｎレーザ装置の位置を取得する動作と、
   （ｍ）前記動作（ｌ）で取得した前記第１、第２、・・・第ｎレーザ装置の位置と、予め取得した前記第１、第２、・・・第ｎレーザ装置のリファレンス位置との差分だけ、前記第１、第２、・・・第ｎコリメータが移動するように前記コリメータ調整機構を制御する動作と、を実行する、
   請求項５から７のいずれか１項に記載の光モジュールの製造装置。
9. 前記レーザ光測定部は、前記合波器から出射したレーザ光の強度、位置および角度を測定可能なセンサである、
   請求項５から８のいずれか１項に記載の光モジュールの製造装置。

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