JPS63228647A - マイクロ波集積回路装置 - Google Patents
マイクロ波集積回路装置Info
- Publication number
- JPS63228647A JPS63228647A JP62061091A JP6109187A JPS63228647A JP S63228647 A JPS63228647 A JP S63228647A JP 62061091 A JP62061091 A JP 62061091A JP 6109187 A JP6109187 A JP 6109187A JP S63228647 A JPS63228647 A JP S63228647A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- package
- step parts
- input
- carriers
- output terminals
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000969 carrier Substances 0.000 claims abstract description 16
- 239000002184 metal Substances 0.000 abstract description 7
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 abstract description 7
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 abstract description 6
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 abstract 1
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 abstract 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 18
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 16
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 6
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 4
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 4
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000005669 field effect Effects 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/4805—Shape
- H01L2224/4809—Loop shape
- H01L2224/48091—Arched
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/161—Cap
- H01L2924/1615—Shape
- H01L2924/16195—Flat cap [not enclosing an internal cavity]
Landscapes
- Surface Acoustic Wave Elements And Circuit Networks Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概要〕
マイクロ波集積回路を気密封止したパッケージの筺体取
付面の一部に切欠部を形成すると共に、キャリアに突出
部を形成し、パッケージとキャリアとの接合面の間隙に
よって生じるインダクタンス成分を小さくして、高周波
特性の劣化を防止したものである。
付面の一部に切欠部を形成すると共に、キャリアに突出
部を形成し、パッケージとキャリアとの接合面の間隙に
よって生じるインダクタンス成分を小さくして、高周波
特性の劣化を防止したものである。
本発明は、パッケージ内にマイクロ波集積回路を気密封
止し、このパフケージを用いて構成したマイクロ波集積
回路装置に関するものである。
止し、このパフケージを用いて構成したマイクロ波集積
回路装置に関するものである。
マイクロ波用トランジスタ等と整合回路やフィルタ等と
を集積回路化し、それを気密封止したパッケージを用い
てマイクロ波通信装置を構成している。このようなマイ
クロ波通信装置に於いて、パッケージとの接続による高
周波特性の改善が要望されている。
を集積回路化し、それを気密封止したパッケージを用い
てマイクロ波通信装置を構成している。このようなマイ
クロ波通信装置に於いて、パッケージとの接続による高
周波特性の改善が要望されている。
第3図は従来例の説明図であり、銅等からなるキャリア
31上に、GaAs電界効果トランジスタ等のマイクロ
波用トランジスタ32とセラミック基板33とが搭載さ
れ、セラミック基板33上にマイクロストリップ線路3
4が形成され、マイクロ波用トランジスタ32の入出力
端子と接続され、且つ隣接するキャリア31間のマイク
ロストリップ線路34は、金リボン35により接続され
る。この場合、マイクロ波用トランジスタ32は、通常
のトランジスタ等と同様にパッケージ内に封入されてい
るものである。
31上に、GaAs電界効果トランジスタ等のマイクロ
波用トランジスタ32とセラミック基板33とが搭載さ
れ、セラミック基板33上にマイクロストリップ線路3
4が形成され、マイクロ波用トランジスタ32の入出力
端子と接続され、且つ隣接するキャリア31間のマイク
ロストリップ線路34は、金リボン35により接続され
る。この場合、マイクロ波用トランジスタ32は、通常
のトランジスタ等と同様にパッケージ内に封入されてい
るものである。
このような構成に於いては、マイクロ波用トランジスタ
・チップのみがパッケージ内に封止されるものであるか
ら、整合回路等が外付けとなり、接続線路の長さが高周
波特性に影響を及ぼすことになる。
・チップのみがパッケージ内に封止されるものであるか
ら、整合回路等が外付けとなり、接続線路の長さが高周
波特性に影響を及ぼすことになる。
そこで、第4図に示すように、整合回路等を含めてパフ
ケージ42内に封止する構成が採用されている。なお、
同図は上蓋を取り除いた状態を示し、41は筐体へ取付
ける為のフランジ、42はパッケージ、43はマイクロ
波用トランジスタ・チップ、44はセラミック基板、4
5はマイクロストリップ線路、46は入出力端子である
。
ケージ42内に封止する構成が採用されている。なお、
同図は上蓋を取り除いた状態を示し、41は筐体へ取付
ける為のフランジ、42はパッケージ、43はマイクロ
波用トランジスタ・チップ、44はセラミック基板、4
5はマイクロストリップ線路、46は入出力端子である
。
セラミック基板44上にマイクロストリップ線路45に
より例えば整合回路が構成され、マイクロ波用トランジ
スタ・チップ43と金等のワイヤにより接続され、入出
力端子46は水平方向に導出されている。従って、マイ
クロ波用トランジスタ・チップ43に近接して整合回路
等を接続することができるので、高周波特性を改善する
ことができる。
より例えば整合回路が構成され、マイクロ波用トランジ
スタ・チップ43と金等のワイヤにより接続され、入出
力端子46は水平方向に導出されている。従って、マイ
クロ波用トランジスタ・チップ43に近接して整合回路
等を接続することができるので、高周波特性を改善する
ことができる。
このようなパッケージを用いてマイクロ波通信装置を構
成すると、例えば、第5図に示す構成となる。同図に於
いて、51はパッケージ、52はマイクロ波用トランジ
スタ・チップ、53はマイクロストリップ線路が形成さ
れたセラミック基板、54は入出力端子、55は端子導
出用の端子絶縁部、56は上蓋、57はキャリア、58
はマイクロストリップ線路が形成されたセラミック基板
、59は筐体、60はパッケージとキャリアとの間の間
隙である。
成すると、例えば、第5図に示す構成となる。同図に於
いて、51はパッケージ、52はマイクロ波用トランジ
スタ・チップ、53はマイクロストリップ線路が形成さ
れたセラミック基板、54は入出力端子、55は端子導
出用の端子絶縁部、56は上蓋、57はキャリア、58
はマイクロストリップ線路が形成されたセラミック基板
、59は筐体、60はパッケージとキャリアとの間の間
隙である。
マイクロ波用トランジスタ・チップ52とセラミック基
板53上に形成された整合回路等と金等のワイヤで接続
されて、パッケージ51内に気密封止される。又セラミ
ック基板53上の整合回路等の金等のワイヤで接続され
た入出力端子54は、端子絶縁部55により金属のパッ
ケージ本体と絶縁されて、筺体取付面に対して水平方向
に導出される。この入出力端子54と、キャリア57上
のセラミック基板58に形成されたマイクロストリップ
線路と半田等により接続される。
板53上に形成された整合回路等と金等のワイヤで接続
されて、パッケージ51内に気密封止される。又セラミ
ック基板53上の整合回路等の金等のワイヤで接続され
た入出力端子54は、端子絶縁部55により金属のパッ
ケージ本体と絶縁されて、筺体取付面に対して水平方向
に導出される。この入出力端子54と、キャリア57上
のセラミック基板58に形成されたマイクロストリップ
線路と半田等により接続される。
マイクロ波用トランジスタ・チップのみをパッケージ内
に気密封止した構成により、マイクロ波通信装置を構成
した第3図に示す従来例に於いては、マイクロ波用トラ
ンジスタ・チップに近接して整合回路等を接続すること
ができないので、高周波特性が劣化することになる。又
キャリア31を含めて気密封止するには大型過ぎるので
、気密構造を採用することが困難であった。
に気密封止した構成により、マイクロ波通信装置を構成
した第3図に示す従来例に於いては、マイクロ波用トラ
ンジスタ・チップに近接して整合回路等を接続すること
ができないので、高周波特性が劣化することになる。又
キャリア31を含めて気密封止するには大型過ぎるので
、気密構造を採用することが困難であった。
又第4図及び第5図に示す従来例に於いては、マイクロ
波用トランジスタ・チップ43.52と整合回路等とを
、パッケージ42.51により気密封止するもので、マ
イクロ波用トランジスタ・チップ43.52に近接して
整合回路等を接続することができるから、高周波特性を
改善することができる。又マイクロ波用トランジスタ・
チップ43.52等の能動素子を含むマイクロ波集積回
路のみでなく、受動素子のみのマイクロ波集積回路につ
いても、回路ブロック毎にパッケージにより気密封止す
ることができる。そして、パッケージ間の接続等により
マイクロ波通信装置を構成することができる。
波用トランジスタ・チップ43.52と整合回路等とを
、パッケージ42.51により気密封止するもので、マ
イクロ波用トランジスタ・チップ43.52に近接して
整合回路等を接続することができるから、高周波特性を
改善することができる。又マイクロ波用トランジスタ・
チップ43.52等の能動素子を含むマイクロ波集積回
路のみでなく、受動素子のみのマイクロ波集積回路につ
いても、回路ブロック毎にパッケージにより気密封止す
ることができる。そして、パッケージ間の接続等により
マイクロ波通信装置を構成することができる。
第3図に示すようなキャリア31を用いた場合は、金属
の高精度加工によりキャリア31間の間隙を無視できる
程度に小さくできるが、パッケージ42.51に於いて
は、端子絶縁部55等のセラミックを含むから、金属の
みの場合のように寸法精度を高くすることが容易でない
ものである。
の高精度加工によりキャリア31間の間隙を無視できる
程度に小さくできるが、パッケージ42.51に於いて
は、端子絶縁部55等のセラミックを含むから、金属の
みの場合のように寸法精度を高くすることが容易でない
ものである。
従って、パッケージ51とキャリア57との間に間隙6
0が形成される。この間隙60により、入出力端子54
とセラミック基板58上のマイクロストリップ線路との
間に、パッケージ51の厚さに相当する長さの等価イン
ダクタンスが接続されたことになり、高周波特性が劣化
する欠点があった。
0が形成される。この間隙60により、入出力端子54
とセラミック基板58上のマイクロストリップ線路との
間に、パッケージ51の厚さに相当する長さの等価イン
ダクタンスが接続されたことになり、高周波特性が劣化
する欠点があった。
本発明は、前述の等価インダクタンスを小さくして、高
周波特性の劣化を防止することを目的とするものである
。
周波特性の劣化を防止することを目的とするものである
。
本発明のマイクロ波集積回路装置は、第1図を参照して
説明すると、マイクロ波集積回路1を気密封止し、且つ
入出力端子2a、2bを筺体取付面に対して水平方向に
導出したパフケージ3の少なくとも入出力端子’la、
2b直下の筺体取付面を切欠或いは突出させた凹凸
部6a、6bを形成し、この凹凸部6a、6bに嵌合す
る形状の凹凸部7a、7bをキャリア4a、4bに形成
したものである。
説明すると、マイクロ波集積回路1を気密封止し、且つ
入出力端子2a、2bを筺体取付面に対して水平方向に
導出したパフケージ3の少なくとも入出力端子’la、
2b直下の筺体取付面を切欠或いは突出させた凹凸
部6a、6bを形成し、この凹凸部6a、6bに嵌合す
る形状の凹凸部7a、7bをキャリア4a、4bに形成
したものである。
パフケージ3の凹凸部6a、6bと、キャリア4a、4
bの凹凸部7a、7bとの嵌合により、それらの水平面
で接合するから、両者間で間隙が生じたとしても、間隙
8a、8bの長さは、入出力端子2a、2bと接合して
いる水平面までの長さとなり、パッケージ3の厚さに比
較して短くなるから、等価インダクタンスも小さくなる
。従って、パフケージ3とキャリア4a、4bとの間の
間隙3a、3bによる高周波特性の劣化を防止すること
ができる。
bの凹凸部7a、7bとの嵌合により、それらの水平面
で接合するから、両者間で間隙が生じたとしても、間隙
8a、8bの長さは、入出力端子2a、2bと接合して
いる水平面までの長さとなり、パッケージ3の厚さに比
較して短くなるから、等価インダクタンスも小さくなる
。従って、パフケージ3とキャリア4a、4bとの間の
間隙3a、3bによる高周波特性の劣化を防止すること
ができる。
以下図面を参照して本発明の実施例について詳細に説明
する。
する。
第1図は本発明の実施例の断面図であり、マイクロ波集
積回路1は、マイクロ波用トランジスタ11と、整合回
路等が形成されたセラミック基板12.13とにより構
成され、マイクロ波用トランジスタ11とセラミック基
板12.13上のマイクロストリップ線路とは、例えば
、金等のワイヤにより接続され、パッケージ3内に気密
封止される。
積回路1は、マイクロ波用トランジスタ11と、整合回
路等が形成されたセラミック基板12.13とにより構
成され、マイクロ波用トランジスタ11とセラミック基
板12.13上のマイクロストリップ線路とは、例えば
、金等のワイヤにより接続され、パッケージ3内に気密
封止される。
このパッケージ3は、金属の本体15と、入出力端子2
a、 2bを導出する為のセラミックの端子絶縁部1
6.18と、側壁19と、気密封止する為の上蓋20と
から構成され、端子絶縁部16上にメタライズ部17が
形成され、このメタライズ部17に入出力端子2a、2
bが鑞付けされ、入出力端子2a、 2bは本体15
の下面の筺体取付面に対して水平方向に導出される。又
メタライズ部17とセラミック基板12.13上のマイ
クロストリップ線路とは金等のワイヤにより接続される
。
a、 2bを導出する為のセラミックの端子絶縁部1
6.18と、側壁19と、気密封止する為の上蓋20と
から構成され、端子絶縁部16上にメタライズ部17が
形成され、このメタライズ部17に入出力端子2a、2
bが鑞付けされ、入出力端子2a、 2bは本体15
の下面の筺体取付面に対して水平方向に導出される。又
メタライズ部17とセラミック基板12.13上のマイ
クロストリップ線路とは金等のワイヤにより接続される
。
又金属のキャリア4a、4b上に、マイクロストリップ
線路が形成されたセラミック基板21a、21bが設け
られ、入出力端子2a、2bとセラミック基板21a、
21b上のマイクロストリップ線路とが半田等により接
続される。
線路が形成されたセラミック基板21a、21bが設け
られ、入出力端子2a、2bとセラミック基板21a、
21b上のマイクロストリップ線路とが半田等により接
続される。
パッケージ3の入出力端子2a、2b直下の筺体取付面
に凹凸部5a、5bを形成するものであり、第1図に於
いては、筺体取付面を切欠して凹部を形成した場合を示
している。この凹凸部6a、6bに対応してキャリア4
a、4bにも凹凸部7a、7bを形成するものであり、
第1図に於いては、突出部を形成した場合を示している
。反対に、パッケージ3に突出部を形成し、キャリア4
a、4bに凹部を形成することも可能である。このよう
な凹凸部6a、6b、7a、7bは、金属加工で形成す
ることができるから、凹凸部6a。
に凹凸部5a、5bを形成するものであり、第1図に於
いては、筺体取付面を切欠して凹部を形成した場合を示
している。この凹凸部6a、6bに対応してキャリア4
a、4bにも凹凸部7a、7bを形成するものであり、
第1図に於いては、突出部を形成した場合を示している
。反対に、パッケージ3に突出部を形成し、キャリア4
a、4bに凹部を形成することも可能である。このよう
な凹凸部6a、6b、7a、7bは、金属加工で形成す
ることができるから、凹凸部6a。
6b、7a、7bが接合する水平面を容易に正確に形成
することができる。
することができる。
筐体に、パッケージ3とキャリア4a、4bとを取付け
ると、パッケージ3の凹凸部6a、6bと、キャリア4
a、4bの凹凸部7a、7bとが嵌合されて、水平面で
接合されるから、間隙8a、8bの長さは、入出力端子
2a、2bから接合水平面までの長さとなり、パッケー
ジ3の厚さより小さくなる。即ち、等価インダクタンス
を小さくすることができる。なお、筺体取付面側の間隙
は、入出力端子2a、2bに対する回路要素とはならな
い。
ると、パッケージ3の凹凸部6a、6bと、キャリア4
a、4bの凹凸部7a、7bとが嵌合されて、水平面で
接合されるから、間隙8a、8bの長さは、入出力端子
2a、2bから接合水平面までの長さとなり、パッケー
ジ3の厚さより小さくなる。即ち、等価インダクタンス
を小さくすることができる。なお、筺体取付面側の間隙
は、入出力端子2a、2bに対する回路要素とはならな
い。
第2図は損失特性曲線図であり、点線曲線、aは本発明
の実施例による挿入損失、実線曲線すは従来例(第5図
参照)の挿入損失、点線曲線Cは本発明の実施例による
リターン損失、実線曲線dは従来例のリターン損失を、
2〜20GHzの周波数について示すものである。同図
からも判るように、本発明によれば、挿入損失を小さく
することができる。
の実施例による挿入損失、実線曲線すは従来例(第5図
参照)の挿入損失、点線曲線Cは本発明の実施例による
リターン損失、実線曲線dは従来例のリターン損失を、
2〜20GHzの周波数について示すものである。同図
からも判るように、本発明によれば、挿入損失を小さく
することができる。
以上説明したように、本発明は、マイクロ波用トランジ
スタ・チップ11等の能動素子を含むマイクロ波集積回
路1或いはフィルタ等の受動素子のみからなるマイクロ
波集積回路1をパッケージ3に気密封止し、入出力端子
’la、 2b直下の筺体取付面を切欠或いは突出さ
せた凹凸部6a、6bを形成し、この凹凸部5a、5b
に嵌合する形状の凹凸部7a、7bをキャリア4a、4
bに形成したもので、パフケージ3とキャリア4a、4
bとの間に、寸法精度の関係で間隙8a、8bが形成さ
れたとしても、その間隙8a、8bの長さは、入出力端
子’la、2bと、凹凸部5a、5b、7a、7bの接
合水平面との間の長さとなり、パッケージ3の厚さに比
較して短くなるから、等価インダクタンスを従来例に比
較して小さくすることができる。従って、高周波特性の
劣化を防止することができる利点がある。
スタ・チップ11等の能動素子を含むマイクロ波集積回
路1或いはフィルタ等の受動素子のみからなるマイクロ
波集積回路1をパッケージ3に気密封止し、入出力端子
’la、 2b直下の筺体取付面を切欠或いは突出さ
せた凹凸部6a、6bを形成し、この凹凸部5a、5b
に嵌合する形状の凹凸部7a、7bをキャリア4a、4
bに形成したもので、パフケージ3とキャリア4a、4
bとの間に、寸法精度の関係で間隙8a、8bが形成さ
れたとしても、その間隙8a、8bの長さは、入出力端
子’la、2bと、凹凸部5a、5b、7a、7bの接
合水平面との間の長さとなり、パッケージ3の厚さに比
較して短くなるから、等価インダクタンスを従来例に比
較して小さくすることができる。従って、高周波特性の
劣化を防止することができる利点がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の実施例の断面図、第2図は損失特性曲
線図、第3図、第4図は従来例の説明図、第5図は従来
例の断面図である。 ■はマイクロ波集積回路、2a、2bは入出力端子、3
はパッケージ、4a、4bはキャリア、6a、6b、7
a、7bは凹凸部、8a、3bは間隙、11はマイクロ
波用トランジスタ・チップ、12.13はセラミック基
板、15はパッケージの本体、16.18は端子絶縁部
、17はメタライズ部、19は側壁、20は上蓋である
。
線図、第3図、第4図は従来例の説明図、第5図は従来
例の断面図である。 ■はマイクロ波集積回路、2a、2bは入出力端子、3
はパッケージ、4a、4bはキャリア、6a、6b、7
a、7bは凹凸部、8a、3bは間隙、11はマイクロ
波用トランジスタ・チップ、12.13はセラミック基
板、15はパッケージの本体、16.18は端子絶縁部
、17はメタライズ部、19は側壁、20は上蓋である
。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 マイクロ波集積回路(1)を気密封止し、該マイクロ波
集積回路(1)の入出力端子(2a、2b)を筺体取付
面に対して水平方向に導出したパッケージ(3)を有し
、前記入出力端子(2a、2b)とキャリア(4a、4
b)上のマイクロ波回路(5a、5b)とを接続したマ
イクロ波集積回路に於いて、 前記パッケージ(3)の少なくとも前記入出力端子(2
a、2b)の直下の前記筺体取付面を切欠或いは突出さ
せた凹凸部(6a、6b)を形成し、 前記キャリア(4a、4b)に、前記パッケージ(3)
の凹凸部(6a、6b)と嵌合する形状の凹凸部(7a
、7b)を形成した ことを特徴とするマイクロ波集積回路装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62061091A JPS63228647A (ja) | 1987-03-18 | 1987-03-18 | マイクロ波集積回路装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62061091A JPS63228647A (ja) | 1987-03-18 | 1987-03-18 | マイクロ波集積回路装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63228647A true JPS63228647A (ja) | 1988-09-22 |
Family
ID=13161063
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62061091A Pending JPS63228647A (ja) | 1987-03-18 | 1987-03-18 | マイクロ波集積回路装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63228647A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1997044991A1 (en) * | 1996-05-23 | 1997-11-27 | Motorola Inc. | Apparatus and method for mounting an electronic component to a substrate |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5929043B2 (ja) * | 1976-05-04 | 1984-07-18 | 株式会社トクヤマ | ポリハロゲン化アルカンとオレフイン類との付加反応方法 |
-
1987
- 1987-03-18 JP JP62061091A patent/JPS63228647A/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5929043B2 (ja) * | 1976-05-04 | 1984-07-18 | 株式会社トクヤマ | ポリハロゲン化アルカンとオレフイン類との付加反応方法 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1997044991A1 (en) * | 1996-05-23 | 1997-11-27 | Motorola Inc. | Apparatus and method for mounting an electronic component to a substrate |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US3996603A (en) | RF power semiconductor package and method of manufacture | |
JPS6325710B2 (ja) | ||
US5225709A (en) | Package having a structure for stabilizing and/or impedance-matching a semiconductor IC device accommodated therein | |
US4246697A (en) | Method of manufacturing RF power semiconductor package | |
JPS6114668B2 (ja) | ||
JP6243510B2 (ja) | 電子部品収納用パッケージおよび電子装置 | |
US11121099B2 (en) | Semiconductor device | |
US6046501A (en) | RF-driven semiconductor device | |
US5200640A (en) | Hermetic package having covers and a base providing for direct electrical connection | |
JPH0210756A (ja) | マイクロウェーブ・チップの相互接続及び保護のためのデバイス | |
KR900001246B1 (ko) | 반도체장치 | |
JP2511136Y2 (ja) | 電子部品用メタルパッケ―ジ | |
JPS63228647A (ja) | マイクロ波集積回路装置 | |
JP7131933B2 (ja) | 半導体装置用パッケージおよび半導体装置 | |
US4297722A (en) | Ceramic package for semiconductor devices having metalized lead patterns formed like a floating island | |
JPH083011Y2 (ja) | 半導体装置用パツケ−ジ | |
JPH1093012A (ja) | 高周波集積回路装置 | |
JP2020120076A (ja) | 電子部品用パッケージおよび電子装置 | |
JPH0812888B2 (ja) | 半導体装置用パツケ−ジ | |
JP2509904B2 (ja) | 半導体装置用パツケ−ジ | |
JPS58182250A (ja) | 半導体装置 | |
JPS5999745A (ja) | マイクロ波ロ−ノイズ電界効果トランジスタ用容器 | |
JP2701643B2 (ja) | 半導体容器 | |
JPS6365649A (ja) | 半導体用パツケ−ジ | |
JPS582060Y2 (ja) | 超高周波トランジスタ装置 |