JPS63225938A - 光記録方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は光カードに関し、詳しくは光学的に情報の記録
再生を行なうカード状の情報記録担体に関する。

［従来の技術］ 従来、クレジットカード、バンクカード、クリニックカ
ード等のカード類に埋設される記録材料としては、磁気
材料が主として用いられてきた。

この様な磁気材料は情報の書き込みおよび読み出しが容
易に行なえるという利点はあるが、反面、情報の内容を
容易に変えたり、また高密度記録がてきないという問題
点があった。かかる問題点を解決する為に、多種多様の
情報を効率良く取り扱う手段として、情報を光学的に記
録再生する方法か提案されており、通常はレーザー光を
用いて情報記録担体上の光学記録層の一部を揮散させる
か、反射率、透過率の変化を生じさせる。或は変形を生
じさせ、光学的な反射率や透過率の差に依って情報を記
録し、或は再生を行なっている。この様な光学記録再生
方式に於いて使用する情報記録担体は、磁気記録再生方
式に於いて使用する情報記録担体に比べ、記録密度が１
桁以上高く、記録部を狭い幅で形成しても記録密度を保
持する事が可能である。

光学的に情報の記録・再生をする情報記録担体として、
例えば、銀粒子をゼラチンマトリックス中に分散してな
る記録層を有するカード類が提案されている。この記録
層への情報の書込みは、レーザビームを記録層に照射し
て記録ビットを形成して行なわれている。この記録層は
コーティング法により連続的に製造でき、しかも銀を用
いることによって広い波長域にわたって均一な反射率が
得られ、種々の波長のレーザビームを用いた記録再生装
置への適用が可能であるという利点を有している。しか
しながらこの記録層に、写真的手法で記録を行なう場合
には、光反射性と解像性とを同時に向上させることは困
難であり、たとえば現像時間を長くすると光反射性は向
上するが、記録部（露光部）が太る傾向が認められ解像
性が低下してしまう、逆に現像時間を短かくすると解像
性は向上するが光反射性が不充分になってしまうという
問題点があった。

一′方また、記録材料の記録層にレーザビームなどのエ
ネルギービームなスポット状に照射して。

記録層の一部を状態変化させて記録する、いわゆるヒー
トモート記録材料が提案されている。このヒートモート
記録材料に用いる記録層としては、テルル、ビスマスな
どの金属薄膜、ポリスチレン、ニトロセルロースなどの
有機薄膜、あるいは相転位を利用したテルル低酸化物膜
などが用いられている。これらの記録材料は、情報の書
込みの後現像処理などの必要がなく、「書いた後直読す
る」ことのできる、いわゆるＤＲＡＩＮ　（ｄｉｒｅｃ
ｔ　ｒｅａｄａｆｔｅｒ　ｗｒｉｔｅ　）媒体であり、
高密度記録が可能であり追加書込みも可能であることか
ら、ディスク用あるいはカード用の記録材料としての用
途の拡大が期待されている。

これらのヒートモート記録材料のうち最も広く用いられ
ている、テルルあるいはビスマスなどの金属薄膜を基板
上に蒸着してなる記録材料においては、情報の書込みは
、レーザビームなどのエネルギービームな金属薄膜上に
スポット照射することにより、この部分の金属を蒸発除
去あるいは融解移動除去してピットを形成して行なわれ
ている。また情報の読出しは、読出し光を記録層上に照
射し、記録部であるビット部と未記録部である金属薄膜
とにおける反射率の違いを読取ることによって行なわれ
ている。ところで、情報の書込みに際しては、読出すべ
き情報そのものに相当する記録ピットを形成することに
加えて、光の案内溝に相当するトラッキングならびに読
出すべきピットを特定するためのブレフォーマツティン
グをも記録層に書込む必要かあみだ。

ところが記録層を構成するテルル、ビスマスなどの金属
は、ある程度毒性を有するため取扱いに充分な配慮を要
するとともに、レーザビームなどのエネルギービームの
照射によりピットを形成することは、高度の制御技術が
必要とされ、しかもそのビット形成工程が複雑であるた
めコスト面からみても必ずしも安いものではなかった。

したがって、光の案内溝に相当するトラッキングならび
に読出すべきピットを特定するためのブレフォーマツテ
ィングがレーザビーム照射以外の簡便な方法により大量
にしかも安価に形成しうるような記録材料が出現するな
らば、極めて有用性の高いものが得られると期待される
。

また、光記録層としては、上述した様に光学的特性、例
えば反射率や透過率などによって、情報が記録されるが
、この場合光記録層の感度特性は光カードの性能を左右
し重要であるが、その特性は膜厚に強く依存し、微妙な
厚みの違いが光カードの均一性に影響を与える。

光記録層として色素の如き有機性光記録材料を使用する
場合、色素の溶剤溶液を塗布し、乾燥して光記録層を形
成している為、基板の種類、溶剤の種類や濃度、塗布方
法によってその反射率や透過率は大きく異なる。

さらに、従来、光ディスクのようなエアギャップの存在
する媒体の場合、一般に、これらの用途に用いることの
できる接着剤としては、紫外線硬化型、熱硬化型、化学
反応型、熱可塑性型等がある。

しかし、光記録層と接着層が密着する媒体の場合１例え
ばシアニン系等の有機材料を光記録材料に用いる場合に
は、上記の接着剤として、例えばシリコン系等の紫外線
硬化型を用いると、照射する紫外光により光記録材料が
脱色し、機能を失うという問題があり、またエポキシ系
などの化学反応型では記録材料と化学反応して機能を失
う、さらに、熱硬化型、熱可塑型の接着剤では接着時の
加熱により記録材料が機能を失うという問題があった。

また硬化型接着剤では記録時に記録材料が変形しにくく
、感度が悪いという問題点もある。

［発明が解決しようとする問題点］ 本発明は、これら従来技術に伴なう問題点□を解決しよ
うとするものであって、以下のような目的を有する。

（１）高密度記録が可能で、しかも書込まれた情報の数
量が困難である光記録材料を有する光カードを提供する
こと。

（２）記録層に書き込まれるべき情報の一部をレーザビ
ームの照射に依らずスタンバ−等による型押しなどの量
産可能な方法により行なう事が出来、従って製造工程の
筒素化が可能で、しかも大量生産ならびにコストダウン
が可能な光記録材料を有する光カードを提供すること。

（３）有機性光記録材料として特定のポリメチン系有機
色素を含有する光記Ｒ層の膜厚を制御することにより、
記録特性の良い光カードを提供すること。

（４）基板上に形成された光記録層、特に有機記録層に
光ビームの選択的な照射によって情報が記録される光カ
ード媒体において、有機記録層が熱劣化する温度以下の
温度で融解する熱可塑性接着剤を用いて接着層を形成す
ることによ〜す、記録感度のよい、安定な光カードを提
供すること。

［問題点を解決するための手段］および［作用］即ち１
本発明は表面にトラ・ツク溝を有する透明基材と、該ト
ラック溝面上に設けられた光記録層と、該光記録層と接
する様に設けられたカード基材とからなることを特徴と
する光カードである。

本発明においては、透明基村上に光記録層を設け、該光
記録層とカード基材とを接着層を介して貼り合わせてな
る光カードにおいて、光記録層が一般式（Ｉ）で表わさ
れるポリメチン系有機色素を含有し、かつ膜厚が３００
〜１５００人であることが好ましい。

一般式（Ｉ） （式中Ｒ□、　Ｒ，、Ｒ３およびＲ４は、各々水素原子
、アルキル基、置換アルキル基、環式アルキル基、アル
ケニル基、アラルキル基、置換アラルキル基、アリール
基、置換アリール基、スチリル基、置換スチリル基、複
素環基又は置換複素環基を示し、ｎは０．ｌ又は２、ｘ
ｏはアニオン基を示す、）また、本発明においては、透
明基村上に光記録層として有機記録層を形成し、該有機
記録層とカード基材を接着剤を介して貼り合わせてなる
光ビームの選択的な照射によって情報が記録される光カ
ードに３いて、前記接着剤として有機記録層か熱劣化す
る温度以下の温度で融解する熱可塑性接着剤を用いるこ
とが好ましい。

以下、本発明の詳細な説明する。

まず、本発明に係る第一の実施態様を示す光カードにつ
いて説明する０本発明に係る第一の光カードは、カード
基村上に光記録材料が設けられている光カードであって
、前記光記録材料は、（ａ）トラック溝を有する透明基
材と、（ｂ）該トラック溝面上に設けられた光記録層と
からなり、この光記録材料はカード基材に光記録層が接
する様に設けられている事を特徴としている。

この光カードに設けられた光記録材料に情報を書き込む
には、エネルギービームなスポット照射すればよい、こ
れらの記録層に書き込まれた情報の読み出しは、光カー
ドの透明基材側から記録再生光を照射し１反射光の１度
と位相変化とを関連づけて検出する事によって行なわれ
る。

次に、本発明に係る第一の光カードを図面に示す具体例
により説明する。第１図は本発明に係る第一の光カード
の一例を示す断面図である。

同第１図において１本発明に係る第一の光カードは、ト
ラック溝６を有する透明基材ｌのトラック溝面上に光記
録層２を設けた光記録材料７とカード基材４を接着層３
を介して接する用に設けてなるものである。

必要に依っては、光カードに磁気記録層、ＩＣメモリー
、彫刻画像、写真、文字、マーク、インプリントと称す
る浮き出し文字などを光カードの表面または裏面に併設
してもよい、この様にする事によって、１枚のカードで
種々の再生方式に対応でき、また偽造がより効果的に防
止できる。

トラック溝６を有する透明基材１としては、光学的な記
録・再生に於いて不都合の少ないものが好ましく、また
トラック溝の形成に成型性の良い熱可塑性のものが好ま
しい０例えば、アクリル系樹脂、ポリエステル樹脂、ポ
リカーボネート樹脂、ビニル系樹脂、ポリイミド系樹脂
、ポリアセタール樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリアミ
ド樹脂、セルロース誘導体などを用いる事が出来る。

カード基材４としては、通常のカード基材として用いる
事が出来る透明または不透明のあらゆる材料が使用可能
であり、具体的にはポリ塩、化ビニル、塩化ビニル／酢
酸ビニル共重合体、ポリ塩化ビニリデン、ポリメタクリ
ル酸メチル等アクリル系重合体、ポリスチレン、ポリビ
ニルブチラール、アセチルセルロース、スチレン／ブタ
ジェン共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ
カーボネートなどが用いられる。場合に依っては、鉄、
ステンレス、アルミニウム、スズ、銅。

亜鉛等の金属シート、合成紙、紙等も用い得る。

更には、上記の様な材料の積層体も用いられる。

これらカード基材４には、必要に応じてコロナ放電処理
、プラズマ処理、ブライマー処理などの接着性改良の為
の前処理をしてもよい。

光記録層２としては、再生のエネルギービームの波長が
６５０ｎ重以上、特に７００〜９００ｎ■である場合に
は、記録部であるピットに於ける反射率と未記録部のそ
れとの差か大きいものが好ましい。また、記録のエネル
ギービームの照射によって反射率の変化が生ずるのに必
要とされるエネル゛ギーが小さい方が好ましい、更に、
再生のエネルギービームによつて記録部および未記録部
の反射率の変化しないものが好ましい０例えば、Ｔｅ、
　Ｓｂ。

Ｍｏ、　Ｇｅ、　Ｖ、　Ｓｎ等の酸化物、Ｔｅ−３ｎ、
　Ｔｅ０ｘ−Ｇｅなどの化合物等はエネルギービームの
照射により相転移を生じて反射率が変化する。また、　
Ｔｅ−Ｃ１１，。

Ｔｅ−Ｃ３２，Ｔｅ−スチレン、　５ｎ−３Ｏｚ＋　Ｇ
ｅ５−Ｓｎ、　５ｎＳ−３などの金属と有機化合物また
は無機硫化物との複合物や、ＳｉＯ□／　Ｔｊ／　５ｉ
ｆｔ／　ＡＲ等の多層膜も使用可能である。更に、ニト
ロセルロース、ポリスチレン、ポリエチレンなどの熱可
塑性樹脂中に銀などの金属粒子を分散させたもの、ある
いはこの熱可塑性樹脂の表面に金属粒子を凝集させたも
のなども使用可能である。また、カルコゲン或は発色型
のＭｏ０３−Ｃｕ、　ＭｏＯ，、−９ｎ−Ｃｕなども用
いられ、場合に依っては、泡形成型の有機薄膜と金属薄
膜との多屠体も用いる事が出来る。

また、エネルギービームで光学的な物性変化可崗な有機
薄膜も使用可能で１例えば、アントラキノン誘導体、特
にインダスレン骨格を有する物。

ジオキサジン化合物及びその誘導体、トリフエツジチア
ジン化合物、フェナンスレン誘導体、シアニン化合物、
メロシアニン化合物、ビリリウム系化合物、キサンチン
系化合物、トリフェニルメタン系化合物、クロコニウム
系色素、クロコン類。

ポリメチン系色素等の色素を挙げる事が出来、これらは
溶液塗布による連続製造が可ｆｆ：な事から、本発明に
は好ましい物である。

次に、本発明に係る第一の光カードの製造方法について
説明する。

まず、ポリメチルメタアクリレート樹脂、ポリカーボネ
ート樹脂などの透明基材ｌにトラック溝６を熱プレス法
などにより形成する−０次いで、このトラック溝面上に
、光記録層２を形成する０例えば、有機系色素を溶剤に
溶解した物を塗布し、乾燥させて膜厚０．ｉ　ｐ、ｍ程
度の薄膜を形成する。この様にして得られた光記録材料
をカード基材４に光記録層２が接する様にし、間に熱可
塑性接着剤からなる接着層３を挟み込んで重ね合わせ、
９０〜１５０°Ｃ程度に加熱された熱定着ロールにて圧
着する事により光カードを製造することができる。

場合によっては、上述の様にして製造されたＤＲＡＷ型
光カードに於いて第２図に示す如く、透明基材ｌ上に、
キズ防止の為のハードコート層５を設ける事も可使であ
る。或は、耐光性を増すために、紫外線吸収性フィルム
を透明基村上に形成する事も可使である。或は、透明基
材それ自身が紫外線吸収剤を含む樹脂である場合には、
ハートコート層５を設けるだけで、耐光性と耐久性を増
す事が出来るので好ましい構成となる。

次に、上記の様な光記録層への情報の書き込みおよび光
カードに書き込まれた情報の読出しについて説明する。

光記録層への情報の書き込みは、波長３００〜１０００
ｎｓのエネルギービームなレンズ等により集光して照射
し、照射部分の記録ピットを形成する事により行なわれ
る。この際のエネルギーの強度は０．１〜１００ｍＷ　
、パルス幅は５　ｎ５ｅｃ〜５００ｍ５ｅｃ　、ビーム
径は０．５〜ｌＯ＃Ｌ閣である事が好ましい、照射され
るエネルギービームとしては半導体レーザー、アルゴン
レーザー、ヘリウム−ネオンレーザ−、クリプトンレー
ザーなどのレーザービームがトラック溝の検出の為に好
ましい。

一方、本発明に係る第一の光カードに書き込まれた情報
の読み出しは、記録層を変質させない程度の低エネルギ
ーのエネルギービームな、レンズ等を介して集光して光
カードの透明基材側から照射し、ビットの有無を反射光
の強度と位相変化とを関連づけて検出する事によって行
なわれる。

次に、本発明に係る光カードの第二の実施態様について
説明する。

本発明に係る第二の光カードは、前記第一の光カードと
同様の方法で製造することができるが、通常の保護基板
であればよく、不透明基材をっかわなくともよい。

第３図は本発明に係る第二の光カードの一例を示す断面
図である。

透明基板１ａとしては、光学的な記録・再生に於いて不
都合の少ないものが好ましく、前記第一の光カードで挙
げたものの他、ポリスルホン樹脂も用いる事が出来る。

本発明において、トラック溝部６ａを透明基板ｌａに形
成する方法は、透明基板が熱可塑性樹脂である場合には
、融点以上の温度での射出成型や熱ブレスＪｌ＆型等の
方法によりスタンパ−型を熱転写する方法、或いは透明
基板上に光硬化性樹脂組成物を塗布しスタンパ−型を密
着させ、紫外線等を照射して、該光硬化性樹脂組成物を
硬化させるスタンパ−型を光転写する方法により実施さ
れる。

熱転写法の場合には、トラック溝部と透明基板は同一体
に形成されるのに対して、光転写法の場合には、トラッ
ク溝部は透明基板と同一体ではなく接着して形成される
。

或いは、スタンパ−型の転写法とは別に、エツチング可
能な所望の厚みの透光性薄膜を有する透明樹脂基板上に
レジスト膜を形成してトラック溝（７）　）＜　ターン
を右するフォトマスクを介して露光し′現像してレジス
トパターンを形成して、レジストパターンをマスクとし
て前記透光性薄膜をエツチングしてトラック溝部を透Ｉ
ＪＩ基板に形成することもできる。

保護基材８としては、通常の保護基材として用いる事が
出来るあらゆる材料が使用可使であり、第一の光カード
で挙げたものの他、具体的にはエポキシ、アクリロニト
リル−ブタジェン−スチレン共重合体などが用いられる
。

光記録層は、第一の光カードで挙げた条件の他に、書き
込む為に上記の波長域に吸収のある事が必要である。

この様な条件を満足する光記録層としては、有機系色素
、特に前記一般式ＣＩ）て表わされるポリメチン系有機
色素からなる薄膜で形成されたものが好ましい。

これらのポリメチン系色素は、半導体レーザーの波長域
８００ｎ量前後に於ける吸収係数も大きく、溶解性も良
く、本発明に於いて好ましいものである。かかるポリメ
チン系色素としては、特開昭５８−２１９０９０号公報
に開示されているもの等を用いることができるが、下記
に一般式（Ｉ）で表わされるポリメチン系有機色素につ
いて説明する。

前記一般式（Ｉ）において、Ｒ，、Ｒ２，Ｒ１およびＲ
４は水素原子またはアルキル基（例えば、メチル基、エ
チル基、ｎ−プロピル基、１ｓｏ−プロピル基、ｎ−ブ
チル基、　５ｅｃ−ブチル基、１ｓｏ−ブチル基、ｔ−
ブチル基、ｎ−アミル基、ｔ−アミル基、ｎ−ヘキシル
基、ｎ−オクチル基、ｔ−オクチル基など）を示し、さ
らに他のアルキル基９例えば置換アルキル基（例えば２
−ヒドロキシエチル基、３−ヒドロキシプロピル基、４
−ヒドロキシブチル基、２−アセトキシエチル基、カル
ボキシメチル基、２−カルボキシエチル基、３−カルボ
キシプロピル基、２−スルホエチル基、３−スルホプロ
ピル基、４−スルホブチル基、３−スルフェートプロピ
ル基、４−スルフェートブチル基、Ｎ−（メチルスルホ
ニル）−カルバミルメチル基、３−（アセチルスルファ
ミル）プロピル基、４−（アセチルスルファミル）ブチ
ル基など）、環式アルキル基（例えば、シクロヘキシル
基など）、アルケニル基（ビニル基、アリル基、プロペ
ニル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、ヘ
プテニル基、オクテニル基、トデシニル基、プレニル基
など）、アラルキル基（例えば、ベンジル基、フェネチ
ル基、α−ナフチルメチル基、β−ナフチルメチル基な
ど）、置換アラルキル基（例えば、カルボキシベンジル
基、スルホベンジル基、ヒドロキシベンジル基など）を
包含する。さらに、　Ｒ１，Ｒ２，ＲｚおよびＲ４は置
換もしくは未置換のアリール基（例えば、フェニル基。

ナフチル基、トリル基、キシリル基、メトキシフェニル
基、ジメトキシフェニル基、トリメトキシフェニル基、
エトキシフェニル基、ジメチルアミノフェニル基、ジエ
チルアミノフェニル基、ジプロピルアミノフェニル基、
ジベンジルアミノフェニル基、ジフェニルアミノフェニ
ル基など）、置換もしくは未置換の複素環基（例えば、
ピリジル基、キノリル基、レビジル基、メチルビリジル
基、フリル基、チェニル基、インドリル基、ピロール基
、カルバゾリル基、Ｎ−エチルカルバゾリル基など）又
は置換もしくは未置換のスチリル基（例えば、スチリル
基、メトキシスチリル基、ジメトキシスチリル基、トリ
メトキシスチリル基、エトキシスチリル基、ジメチルア
ミノスチリル基、ジエチルアミノスチリル基、ジプロピ
ルアミノスチリル基、ジベンジルアミノスチリル基、ジ
フェニルアミノスチリル基、２，２−ジフェニルビニル
基、２−７エニルー２−メチルビニル基。

２−（ジメチルアミノフェニル）−２−フェニルビニル
基、２−（ジエチルアミノフェニル）−２−フェニルビ
ニル基、２−（ジベンジルアミノフェニル）−２−フェ
ニルビニル基、２．２−ジ（ジエチルアミノフェニル）
ビニル基、２．２−ジ（メトキシフェニル）ビニル基、
２．２−ジ（エトキシフェニル）ビニル基、２−（ジメ
チルアミノフェニル）−２−メチルビニル基、２−（ジ
エチルアミノフェニル）−２−エチルビニル基など）を
示す。ｎはＯ，ｌ又は２である。

×θはアニオン基を示し、例えば、塩化物イオン、臭化
物イオン、ヨウ化物イオン、過塩素酸塩イオン、ベンゼ
ンスルホン酸塩イオン、ｐ−トルエンスルホン酸塩イオ
ン、メチル硫酸塩イオン、エチル硫酸塩イオン、プロピ
ル！酸塩イオン、テトラフルオロホウ酸塩イオン、テト
ラフェニルホウ酸塩イオン、ヘキサフルオロひ酸塩イオ
ン、ヘキサフルオロリン酸塩イオン、ベンゼンスルフィ
ン酸塩イオン、酢酸塩イオン、トリフルオロ酢酸塩イオ
ン、プロピオン酢酸塩イオン、安息香酸塩イオン、シュ
ウ酸塩イオン、コハク酸塩イオン、マロン酸塩イオン、
オレイン酸塩イオン、ステアリン酸塩イオン、クエン酸
塩イオン、−木素二リン酸塩イオン、二水素−リン酸塩
イオン、ペンタクロロスズ酸塩イオン、クロロスルホン
酸塩イオン、フルオロスルホン酸塩イオン、トリフルオ
ロメタンスルホン酸塩イオン、ヘキサフルオロアンチモ
ン酸塩イオン、モリブデン酸塩イオン、タングステン酸
塩イオン、チタン酸塩イオン、ジルコンｍ塩ビオンなど
の陰イオンを表わす。

次に、前記一般式（Ｉ）て示されるポリメチン色素の代
表例を挙げる。

−Ｉ Ｄ−９ これ等のポリメチン系有機色素は、ベルナートニス　ヴ
イルデ（−（Ｂｅｒｎａｒｄ　Ｓ、　Ｗｉｌｄｉ）らの
Ｊ、Ａｍ、　Ｃｈｅｗ、　Ｓｏｃ　　（ジャーナル・オ
ブ・アメリカン・ケミカル・ソサエティ）８０　３７７
２〜３７７７（１９５８）やエッチ　シュミット（Ｉｌ
、　Ｓｃｈｍｉｄｔ）らのＡｎｎ　　（リービッヒ・ア
ンナーレン・デル・ケミ−）　６２３２０４〜２１６あ
るいはアール　ウルツィンガー（Ｒ，Ｗｌｚｉｎｇｅｒ
　）らのＲｅ１ｙ、　（：ｈｉｍ、＾ｅｔａ（ヘルベテ
ィカ・シミ力・アクタ）２４３６９などに開示された合
成法に準じて合成することによって容易に得られる。

本発明においては、上記のポリメチン系有機色素のいず
れも使用可能であるが、溶解性の良い事、更に塗布乾燥
後に得られる塗膜の結晶化が起こり難い事、恒温・恒湿
環境（５０℃、相対湿度９０％）下で変化（例えば１反
射率、透過率、結晶化等）し難い事などを検討した結果
、前記Ｄ−１の下記の式（■）で表わされるポリメチン
系色素が優れている事が見い出された。

式（ＩＩ） また、光記録層２の膜厚は、通常３００人〜１５００人
、好ましくは７００〜１３００人が望ましい。

光カードに設けられた光記録層に情報を書き込むには、
透明基板側からエネルギービームなスポット照射すれば
よい。これらの記録層に書き込まれた情報の読み出しは
、光カードの透明基板側から再生光を照射し、反射光の
強度とトラック溝部の位相変化とを関連づけて検出する
事によって行なわれる。

かかるエネルギービームで光学的な物性変化可能な有機
系色素薄膜は溶液または分散系による連続塗布が回部で
量産製造には好ましいものである。

また、一般式（Ｉ）で示されるポリメチン系有機色素か
らなる薄膜は、公知の塗布方法、例えば、ディップコー
ト、スプレーコート、スピナーコート、バーコード、ブ
レードコート、ロールコート、カーテンコート等の方法
により形成される。

次に、ポリメチン系有機色素を含有する光記録層の膜厚
と透過率および反射率の関係を示す。

第４図は、ポリメチン系有機色素として、式（ＩＩ）に
示す有機色素を溶剤としてジアセトンアルコールに溶解
した溶液（３重量％濃度）をバーコード法により塗布し
た時の一実施例の結果を示すが、塗布量、濃度、バーコ
ードの塗布速度により、その膜厚や反射率、透過率は異
なる。

この様に塗布方法によっても、また溶解するのに用いた
溶剤によっても、得られる有機色素薄膜の膜厚と反射率
は大きく異なることがあるが、透過率は第４図に示す様
に膜厚の増大により減少する。一方、反射率は膜厚に対
して極大値を有する山形の傾向を示し、最大反射膜厚は
作成条件により大きく変わることが見い出されている。

他方、前記式（ＩＩ）に示す有機色素をジクロルエタン
溶剤を用い、スピンコード法により光記録層を形成した
場合には、反射率は鋭い山形となり、膜厚５００人程度
で最大反射となることが見い出されている。

従って、式（ＩＩ）に示されるポリメチン系有機色素を
使用した場合には、膜厚として３００〜１５００人が好
ましく、その時の透過率としてはｌＯ〜４０％１反射率
としては１１〜１７％が好ましいことが分る。

他のポリメチン系有機色素に於いても、膜厚３００〜１
５００人、好ましくは７００〜１３００人の範囲にあれ
ば、それぞれの反射率や透過率は異なる値をとるが、は
は反射率の山形の極大値はその範囲の中に存在する。ま
た、！Ｉ厚３００人未満ては反射率が低く、また１５０
０人をこえても同様に反射率が低下するために好ましく
ない。

記録感度の点からは膜厚は薄く、再生のＳ／Ｎ比の点か
ら厚めの方が好ましく、製造管理の均一性の点からは反
射率の極大付近の方が好ましく、出来上がりの光記録層
の歩留りの安定性からは反射率の極大よりも厚めの膜厚
の方が透過率のムラが少なく、安定した光記録媒体を作
成することができる。

いずれにしても、光記録媒体を作成した場合、光記録層
からの反射光と透明基板面からの反射光の比率は、２倍
以上は必要で、さもないと自動焦点制御が効かない０通
常、前記した透明基板の表面反射は、はぼ５％前後なの
で、光記録層の反射率は最低１０％以上、好ましくは１
１％以上は必要とされる。

本発明において、接着層３は熱可塑性接着剤による接着
が好ましく、ポリメチン系有機色素からなる光記録層を
損うことがない、公知の接着剤のうちから、ポリエステ
ル系、アミド系、ビニル系或いはこれらの共重合体等が
使用可能であるが、ビニル系共重合体が本発明において
は好ましい。

例えば、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−エ
チルメタアクリレート共重合体、酢酸ビニル−アクリレ
ート共重合体及びその変性樹脂が挙げられる。これらの
うちから有機色素の耐熱性を考慮して適宜選択すること
ができる。接着方法は熱ロール圧着法または熱プレス圧
着法等により行うことがてき、接着剤をドライフィルム
にして三層貼り合わせ法或いはカード基材上にあらかじ
め接着剤を配設した二層貼り合わせ法のいずれでも良い
。

接着層の厚さは、特に限定することはないが、通常５〜
２００ｐｍ、好ましくは１０〜８０終■が望ましい。

本発明に係る第二の光カードは、透明基板ｌａ上に光記
録層２を設け、該光記録層２と保護基材８とを接着層３
を介して貼り合わせてなる光カードにおいて、光記録層
２が前記一般式（Ｉ）で表わされるポリメチン系有機色
素を含有し、かつ膜厚が３００〜１５００人のとき、前
記透明基板側からの入射光に対して、光記録層の透過率
が１０〜４０％および／または反射率が１１〜１７％と
なり、良好な記録特性を得ることができる。

次に、本発明に係る光カードの第三の実施態様について
説明する。

第５図は本発明に係る第三の光カードの一例を示す断面
図である。同第５図において、本発明に係る第三の光カ
ードは透明基材ｌ上に有機記録層１０を形成し、該有機
記録層ｌＯと保護基材８を接着剤として有機記録層ＩＯ
が熱劣化する温度ゞ以下の温度で融解すａ熱可塑性接着
剤３ａを介在せしめて貼り合わせてなるものである。

本発明に係る第三の光カードおいて、構成は第一の光カ
ードと同様である。特記すべき事項は、接着剤として熱
可塑性接着剤が用いられるが、該熱可塑性接着剤は有機
記録層が熱劣化する温度以下の温度で融解するものであ
れば如何なるものでもよい。

なお、有機記録層が熱劣化する温度とは、有機記録層に
含有される有機材料のガラス転移温度、融点、エネルギ
ービームを照射した時の脱色温度、熱分解温度のいずれ
かの最低温度を意味する。

また、熱可塑性接着剤の融解する温度とは、融点、もし
くは軟化点を言う。

上記の様な条件を満足する熱可塑性接着剤としては、例
えばエバフレックス系、ポリエステル系等の接着剤が挙
げられる。

次に１本発明に係る第三の光カードを製造する方法につ
いて説明する。第７図は本発明に係る第三の光カードの
製造方法のラミネート工程を示す概略図である。同第７
図において、本発明に係る第三の光カードは、有機記録
層ＩＯを形成する有機材料が塗布された透明基材ｌと保
護基材８の間に熱可塑性接着剤３ａを介在せしめて熱接
着することにより容易に得ることができる。

本発明に係る第三の光カードにレーザービームを照射し
て記録を行なうと、第６図に示す様に記録された部分に
はビット９が形成される。また、熱可塑性接着剤３ａが
融解する温度は、有機記録層１０が熱劣化する温度より
も低いので熱可塑性接着剤は記録時に変形してビット形
成を助ける様に働く。

本発明に係る第三の光カードは、透明系村上に有機記録
層を形成し、該有機記録層と保護基材を接着剤を介して
貼り合わせてなる光ビームの選択的な照射によって情報
が記録される光カードにおいて、前記接着剤として有機
記録層が熱劣化する温度以下の温度で融解する熱可塑性
接着剤を用いるので、情報を記録するためにレーザービ
ームが照射された記録部分において、熱可塑性接着剤が
先に融解し、その後、有機記録層が熱劣化してピットが
形成されるために、高感度で安定性の良好な記録を行な
うことができる。

［実施例］ 以下、本発明を実施例により説明するが１本発明はこれ
により何ら限定されるものではない。

実施例１ 透明基材として、厚さ０．４■の紫外線吸収剤入りのポ
リメチルメタアクリレート基板（日東樹脂■ｍ）に熱ブ
レスにて、トラック溝を形成した。

トラック溝ピッチｌＯｐ層、トラツク溝幅３終膳、溝の
深さを０．２終重とした０次に；このトラック溝面上に
、記録層を次の様にして形成した。

下記式（ｍ）の色素を２−ブタノン混合溶媒に溶解した
溶液をスピナー塗布して厚さ約９００人の記録層を形成
した。

（ｍ） 一方、カード基材として厚さ０．３■の白色硬質塩化ビ
ニルフィルムに熱可塑性接着剤（ダイセル化学工業、プ
ラクセルＨ−７）を介して、上記光記録材料の記録層と
接する様にして、重ね合わせ、表面温度１２０℃の熱ロ
ールにて圧着して貼り合わせた。その後、透明基材表面
をシリコン系表面硬化剤により処理して、光カードを製
造した。

次に、この様にして得られた光カードに、透明基材側か
ら、波長７９０ｎ■の半導体レーザービームなトラック
溝をガイドとして１色素薄膜層の表面に５−ｗでビーム
径３勝園に集光してパルス幅１０ｐｓｅｃで照射した。

この色素薄膜層には、直径３ｐｍの円形状の記録ビット
が形成された。

実施例２ 透明基材として、厚さ０．４ｍｍの紫外線吸収剤入りの
ポリメチルメタアクリレート基板（日東樹脂鰭製）に熱
プレスにて、トラック溝を形成した。

トラック溝ピッチ１０１、トラック溝幅３μ■、溝の深
さを０．２終■とじた０次に、このトラック溝面上に、
記録層を次の様にして形成した。

下記式（ＩＶ）の色素を塩化エチレンに溶解した溶液を
スピナー塗布して厚さ約１０００人の記録層を形成した
。

Ｃ１１・　　　　　　　　　　　　　　（ＩＶ）一方、
カード基材として厚さ０．３■■の白色硬質塩化ビニル
フィルムに熱可塑性接着剤（ダイセル化学工業、プラク
セルＨ−７）を介して、上記光記録材料の記録層と接す
る様にして、重ね合わせ、表面温度１２０℃の熱ロール
にて圧着して貼り合わせた。その後、透明基材表面をシ
リコン系表面硬化剤により処理して、光カードを製造し
た。

次に、この様にして得られた光カードに、透明基材側か
ら、波長７９０ｎｍの半導体レーザービームなトラック
溝をガイドとして、色素薄膜層の表面に５１Ｗでビーム
径３終膳に集光してパルス幅１０ｐｓｅｃで照射した。

この色素薄膜層には、直径３ｇｍの円形状の記録ピット
が形成された。

実施例３ 透明樹脂基板として、厚さ０．４■■のポリメチルメタ
アクリレートのキャスティング板に、前記Ｄ−１と同じ
式（ＩＩ）に示されるポリメチン系色素のジアセトンア
ルコール溶液の濃度を種々に変えてバーコード法（塗布
速度一定）により塗布し、厚さ１０００人の光記録層を
形成した透明基板を得た。

カード基材として、厚さ０．３−■のポリメチルメタク
リレートのキャスティング板を用い、エチレン−酢酸ビ
ニル共重合体から成る厚さ５０終層の熱可塑性接着剤の
ドライフィルムを介在して、上記の光記録層付き透明基
板を光記録層と接着剤とが接する様に重ね合わせ、表面
温度１１０℃の熱ロールにて圧着して貼り合わせ、打抜
いて光カードを作成した。

得られた光カードの波長８３０ｎｍに対する透過率、反
射率を測定した。また、光記録層を形成した透明基板上
の光記録層の膜厚を測定する目的で、ガラス基板上に前
記のポリメチン系色素を塗布したものの透過率と膜厚（
タリステップによる測定）の関係を求めた。これにより
、各膜厚に対して波長８３０ｎ■に対する透過率と反射
率のグラフが得られた。結果は第４図に示したグラフで
ある。

得られた光カード（但し、トラック溝なし）に波長８３
０ｎｍ　、レーザーパワー３．９ｍＷ　、ビーム径４．
５ル膳φ、８０ルＳのパルス幅で、光カードを６０■ｍ
ｉｓの速度で駆動させて、記録を行なった結果、コント
ラスト比として、透過率１０〜３０％のサンプルに対し
て、０．６２〜０．４０　（単調減少関係）を得た。但
し、コントラスト比とは、未記録部の反射率に対する記
録部の反射率の比を１から差し引いた値である。

実施例４ 透明基板およびカード基板として、厚さ０．４ｍｍおよ
び０．３１■のポリカーボネートの溶融押し出し板を使
用し１色素として前記Ｄ　−１２式に示されるポリメチ
ン系色素を使用した以外は実施例２と全く同様にして光
カードを作成した。

得られた光カードの透過率、反射率と膜厚の関係は第４
図とほぼ同様の結果を得たが、最大反射率は実施例１の
ものが１４．５％であったのに対し、本実施例において
は１３．５％であった。

一方、コントラスト比については、透過率ｌＯ〜３０％
のサンプルに対して、　０．７３〜０．５２　（単調減
少関係）を得た。

実施例５ 厚さ０．４■ｌの透明ポリメチルメタクリル基板（日東
樹脂■製、クラレックスＳ）上に、実施例２と同じ光記
録材料（ガラス転移点１２０°Ｃ）を溶剤塗布法により
　０．１μ■の厚さに塗布して有機記録層を形成した。

次いで、有機記録層と、前記基板と同様のポリメチルメ
タクリル保護基板との間に、実施例３と同じ接着剤を介
在せしめてドライフィルムラミネーターを用いて、　１
．５ｋｇ／ｃｍ”の圧力をかけて１００℃で接着した。

接着の前後で光記録層の反射率の変化はなかった。

この様にして得られたカードを６０麿履／ｓｅｃの速さ
で一定方向に移動させながら、　８３０ｎｍの波長のレ
ーザ光をビーム径４．５ｎｍφに集光して、２００ｐ　
ｓｅｅのパルス幅で照射したところ、記録部と未記録部
のコントラストとして０．７７が得られた。

実施例６ 厚さ０．４−■の透明ポリカーボネートの基板（帝人化
縛製、パンライト２０２）上に前記Ｄ−１３式で表わさ
れる色素を溶剤塗布法により　０．１Ｈの厚さに塗布し
た。

次いで、前記基板と同じポリカーボネートの保護基板と
の間に実施例１と同じ熱可塑性接着剤を介在してドライ
フィルムラミネーターで　１．５ｋｇ／ｃｍ”の圧力を
加えて１１０℃で接着した。接着の前後で実施例５と同
様に反射率の変化がなかった。

実施例５と同様に記録・再生を行なったところコントラ
ストとして０．８３が得られた。

実施例７ 実施例６と同じ基板、保護基板を用い、接着剤として、
実施例２と同じ接着剤を用いて実施例６と同様に接着を
行なった０反射率の変化は接着の前後でなかった。

実施例５と同様に記録・再生を行なったところコントラ
ストとして０．８２が得られた。

［発明の効果］ 本発明に係る光カードは、トラック溝を有する透明基材
とトラック溝面上に光記録層を設けた光記録材料を有す
るので、以下の様な効果を有する。

（１）磁気記録材料と比較して、はるかに高密度記録が
可能で、しかも書き込まれた情報の数量が著しく困難で
ある。

（２）光記録材料に書き込まれるべき情報の一部を、ス
タンバ−等による型押などの量産可能な方法により行な
うことができる。

（３）光記録材料に書き込まれた情報を光反射率の相違
に基づいて読み出す事が可能である。

（４）光記録層を有機色素の塗布により設けることがで
きることから、製造工程が簡素化され、大量生産並びに
コストダウンが可能となる。

また１本発明に係る光カードは、透明基板上に光記録層
を設け、該光記録層と保護基材とを接着層を介して貼り
合わせてなる光カードにおいて、光記録層が前記一般式
（Ｉ）で表わされるポリメチン系有機色素を含有し、か
つ膜厚が３００〜１５００′人であり、特にポリメチン
系有機色素が式（ＩＩ）で表わされる色素からなる光カ
ードにおいては、透明基板側からの入射光に附して、光
記録層の透過率が１０〜４０％および／または反射率が
１１〜１７％となる様にすることにより、記録特性の良
い光カードを得ることができる。

さらに１本発明によれば、光記録層として有機薄膜の有
機記録層を用いた光カードにおいて、有機記録層の熱劣
化する温度以下で融解する熱可塑性接着剤を用いること
により、高温度で、安定性の良い光カードを得ることが
できる優れた効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の光カードの一実施態様を示す断面図、
第２図は他の例を示す断面図、第３図は本発明の光カー
ドの他の実施態様を示す断面図、第４図はポリメチン系
有機色素を使用した光記録層の反射率、透過率と膜厚の
関係を示すグラフ、第５図は本発明の光カードのさらに
他の実施態様を示す断面図、第６図は記録時のピットを
形成した状態を示す部分断面図および第７図は第５図の
光カードを製造する際のラミネート工程を示す説明図で
ある。 ｌ・−・透明基材　　　　　１ａ−・・透明基板２・・
・光記録層　　　　　３・・・接着層３ａ・・・熱可塑
性接着剤　４・・・カード基材５・・・ハードコート層
　　６・・・トラック溝６ａ・・・トラック溝部　　７
・・・光記録材料８・・・保護基材　　　　　９・・・
ピット１０・・・有機記録層

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （１）表面にトラック溝を有する透明基材と、該トラッ
   ク溝面上に設けられた光記録層と、該光記録層と接する
   様に設けられたカード基材とからなることを特徴とする
   光カード。（２）光記録層が一般式（ I ）で表わされ
   るポリメチン系有機色素を含有し、かつ膜厚が３００〜
   １５００Åである特許請求の範囲第１項記載の光カード
   。 一般式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｒ＿３およびＲ＿４は、各々水
   素原子、アルキル基、置換アルキル基、環式アルキル基
   、アルケニル基、アラルキル基、置換アラルキル基、ア
   リール基、置換アリール基、スチリル基、置換スチリル
   基、複素環基又は置換複素環基を示し、ｎは０、１又は
   ２、Ｘ＾■はアニオン基を示す。） （３）前記ポリメチン系有機色素が、式（II）で表わさ
   れる色素であって、かつ前記透明基材側からの入射光に
   対して、光記録層の透過率が１０〜４０％および／また
   は反射率が１１〜１７％である特許請求の範囲第２項記
   載の光カード。 式（II） ▲数式、化学式、表等があります▼ （４）光記録層とカード基材とが光記録層が熱劣化する
   温度以下の温度で融解する熱可塑性接着剤を用いて貼り
   合わされている特許請求の範囲第１項または第２項記載
   の光カード。