JPH06101145B2 - 光カ−ドの製造方法 - Google Patents
光カ−ドの製造方法Info
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- JPH06101145B2 JPH06101145B2 JP61260800A JP26080086A JPH06101145B2 JP H06101145 B2 JPH06101145 B2 JP H06101145B2 JP 61260800 A JP61260800 A JP 61260800A JP 26080086 A JP26080086 A JP 26080086A JP H06101145 B2 JPH06101145 B2 JP H06101145B2
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- groove portion
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Description
【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は光カードの製造方法に関し、詳しくは光学的に
情報の記録・再生を行なうカード状の情報記録担体の製
造方法に関するものである。
情報の記録・再生を行なうカード状の情報記録担体の製
造方法に関するものである。
[従来の技術] 従来、クレジットカード、バンクカード、クリニックカ
ード等のカード類に埋設される記録材料としては、磁気
材料が主として用いられてきた。この様な磁気材料は情
報の書き込みおよび読み出しが容易に行なえるという利
点はあるが、反面、情報の内容を容易に変えたり、また
高密度記録ができないという問題点があった。かかる問
題点を解決する為に、多種多様の情報を効率良く取り扱
う手段として、光カードによる光学的情報記録方法が提
案され、そのための光学的情報記録担体、記録再生方
式、記録再生装置等が提案されている。
ード等のカード類に埋設される記録材料としては、磁気
材料が主として用いられてきた。この様な磁気材料は情
報の書き込みおよび読み出しが容易に行なえるという利
点はあるが、反面、情報の内容を容易に変えたり、また
高密度記録ができないという問題点があった。かかる問
題点を解決する為に、多種多様の情報を効率良く取り扱
う手段として、光カードによる光学的情報記録方法が提
案され、そのための光学的情報記録担体、記録再生方
式、記録再生装置等が提案されている。
かかる情報記録担体としての光カードは、一般にレーザ
ー光を用いて情報記録担体上の光記録層の一部を揮散さ
せるか、反射率の変化を生じさせるか、或いは変形を生
じさせて、光学的な反射率や透過率の差に依って情報を
記録し、或いは再生を行なっている。この場合、光記録
層は情報の書き込み後、現像処理などの必要がなく、
「書いた後に直読する」ことのできる、所謂DRAW(ダイ
レクト リード アフター ライト;direct read after
write)媒体であり、高密度記録が可能であり、また追
加書き込みも可能であることから、光カード用の記録媒
体として有効である。
ー光を用いて情報記録担体上の光記録層の一部を揮散さ
せるか、反射率の変化を生じさせるか、或いは変形を生
じさせて、光学的な反射率や透過率の差に依って情報を
記録し、或いは再生を行なっている。この場合、光記録
層は情報の書き込み後、現像処理などの必要がなく、
「書いた後に直読する」ことのできる、所謂DRAW(ダイ
レクト リード アフター ライト;direct read after
write)媒体であり、高密度記録が可能であり、また追
加書き込みも可能であることから、光カード用の記録媒
体として有効である。
第3図は、従来の光カードの模式的断面図である。同第
3図において、1は透明樹脂基材、2はトラック溝部、
3は光記録層、4は接着層、5は不透明カード基材であ
る。第3図に於いて、情報の記録・再生は、透明樹脂基
材1及びトラック溝部2を通して光学的に書き込みと読
み出しを行なう。この際、トラック溝部の微細な凹凸を
利用してレーザー光の位相差によりトラッキングを行な
える様にしてある。
3図において、1は透明樹脂基材、2はトラック溝部、
3は光記録層、4は接着層、5は不透明カード基材であ
る。第3図に於いて、情報の記録・再生は、透明樹脂基
材1及びトラック溝部2を通して光学的に書き込みと読
み出しを行なう。この際、トラック溝部の微細な凹凸を
利用してレーザー光の位相差によりトラッキングを行な
える様にしてある。
第4図は従来の光カードの製造方法のラミネート工程の
概略構成図である。同第4図において、光カードはトラ
ック溝部2を有する透明樹脂基材1上に光記録層3を形
成し、次いで接着層4を介して不透明カード基材5を熱
圧着することにより、容易に製造されるものである。
概略構成図である。同第4図において、光カードはトラ
ック溝部2を有する透明樹脂基材1上に光記録層3を形
成し、次いで接着層4を介して不透明カード基材5を熱
圧着することにより、容易に製造されるものである。
[発明が解決しようとする問題点] 上記した様に従来の光カードの製造方法に於いては、ト
ラック溝部2を有する透明樹脂基材1の上に光記録層3
が形成されているが、トラック溝部の溝の凹凸がある
為、光記録層3の膜厚を制御するのが困難であった。該
光記録層3の感度性は膜厚に強く依存することが判明し
ており、特にその膜厚は重要視されている。
ラック溝部2を有する透明樹脂基材1の上に光記録層3
が形成されているが、トラック溝部の溝の凹凸がある
為、光記録層3の膜厚を制御するのが困難であった。該
光記録層3の感度性は膜厚に強く依存することが判明し
ており、特にその膜厚は重要視されている。
また、光記録層3として色素の如き有機性光記録材料を
使用する場合、色素の溶剤溶液を塗布し、乾燥して光記
録層3を形成している為、透明樹脂基材1及びトラック
溝部2に対する耐溶剤性の問題から光記録層3の形成に
用いる溶剤の種類や溶液の濃度に限定を受けることがあ
る。
使用する場合、色素の溶剤溶液を塗布し、乾燥して光記
録層3を形成している為、透明樹脂基材1及びトラック
溝部2に対する耐溶剤性の問題から光記録層3の形成に
用いる溶剤の種類や溶液の濃度に限定を受けることがあ
る。
更に、色素の溶剤溶液を塗布し、乾燥して光記録層3を
形成しているが、溶剤の種類によっては乾燥後にも残存
することがあり、ラミネート工程で接着層4と光記録層
3の接着不良を起こし、光記録層3の記録・再生特性を
悪化させる等の問題があった。
形成しているが、溶剤の種類によっては乾燥後にも残存
することがあり、ラミネート工程で接着層4と光記録層
3の接着不良を起こし、光記録層3の記録・再生特性を
悪化させる等の問題があった。
本発明は上記の問題を解決する目的でなされたものであ
り、表面にトラック溝部を有する透明樹脂基材の上に、
あらかじめ一方の面に光記録層が設けられている熱可塑
性接着シートを介して不透明カード基材を、トラック溝
部面上に光記録層が接する様に重ね合わせて熱圧着する
ことにより、記録・再生特性の良い光カードを製造する
方法も提供しようとするものである。
り、表面にトラック溝部を有する透明樹脂基材の上に、
あらかじめ一方の面に光記録層が設けられている熱可塑
性接着シートを介して不透明カード基材を、トラック溝
部面上に光記録層が接する様に重ね合わせて熱圧着する
ことにより、記録・再生特性の良い光カードを製造する
方法も提供しようとするものである。
[問題点を解決するための手段] 即ち、本発明の第一の発明は表面にトラック溝部を有す
る透明樹脂基材と、該トラック溝部面上に設けられた光
記録層と、該光記録層と接する様に設けられた不透明カ
ード基材とからなる光カードの製造方法において、トラ
ック溝部を有する透明樹脂基材と、一方の面に光記録層
を有する熱可塑性接着シートと、不透明カード基材とを
光記録層とトラック溝部とが接する様にして重ね合わせ
熱圧着することを特徴とする光カードの製造方法であ
る。
る透明樹脂基材と、該トラック溝部面上に設けられた光
記録層と、該光記録層と接する様に設けられた不透明カ
ード基材とからなる光カードの製造方法において、トラ
ック溝部を有する透明樹脂基材と、一方の面に光記録層
を有する熱可塑性接着シートと、不透明カード基材とを
光記録層とトラック溝部とが接する様にして重ね合わせ
熱圧着することを特徴とする光カードの製造方法であ
る。
さらに、第二の発明は表面にトラック溝部を有する透明
樹脂基材と、該トラック溝部面上に設けられた光記録層
と、該光記録層と接する様に設けられた不透明カード基
材とからなる光カードの製造方法において、トラック溝
部を有する透明樹脂基材と、一方の面に光記録層を有す
る熱可塑性接着シート付きの不透明カード基材を光記録
層とトラック溝部とが接する様にして重ね合わせ熱圧着
することを特徴とする光カードの製造方法である。
樹脂基材と、該トラック溝部面上に設けられた光記録層
と、該光記録層と接する様に設けられた不透明カード基
材とからなる光カードの製造方法において、トラック溝
部を有する透明樹脂基材と、一方の面に光記録層を有す
る熱可塑性接着シート付きの不透明カード基材を光記録
層とトラック溝部とが接する様にして重ね合わせ熱圧着
することを特徴とする光カードの製造方法である。
以下、本発明を詳細に説明する。
第1図は本発明の第一の発明の光カードの製造方法のラ
ミネート工程を示す概略構成図である。同第1図におい
て、本発明における光カードは、トラック溝部2を有す
る透明樹脂基材1と、一方の面に光記録層3を有する熱
可塑性接着シート6ト、不透明カード基材5を、光記録
層3とトラック溝部2とが接する様にして重ね合わせて
熱圧着するラミネート工程を経て製造される。
ミネート工程を示す概略構成図である。同第1図におい
て、本発明における光カードは、トラック溝部2を有す
る透明樹脂基材1と、一方の面に光記録層3を有する熱
可塑性接着シート6ト、不透明カード基材5を、光記録
層3とトラック溝部2とが接する様にして重ね合わせて
熱圧着するラミネート工程を経て製造される。
第2図は、本発明の第二の発明の光カードの製造方法の
ラミネート工程を示す概略構成図である。同第2図に於
いて、本発明における光カードは、トラック溝部2を有
する透明樹脂基材1と、一方の面に光記録層3を有する
熱可塑性接着シート6′付きの不透明カード基材5を、
光記録層3とトラック溝部2とが接する様にして重ね合
わせて熱圧着するラミネート工程を経て製造される。
ラミネート工程を示す概略構成図である。同第2図に於
いて、本発明における光カードは、トラック溝部2を有
する透明樹脂基材1と、一方の面に光記録層3を有する
熱可塑性接着シート6′付きの不透明カード基材5を、
光記録層3とトラック溝部2とが接する様にして重ね合
わせて熱圧着するラミネート工程を経て製造される。
本発明において、トラック溝部を基板に形成する方法
は、基板が熱可塑性樹脂である場合には、融点以上の温
度での射出成型や熱プレス成型等の方法によりスタンパ
ー型を熱転写する方法、或いは基板上に光硬化性樹脂組
成物を塗布しスタンパー型を密着させ、紫外線等を照射
して、該光硬化性樹脂組成物を硬化させる方法によりス
タンパー型を光転写する方法により実施される。
は、基板が熱可塑性樹脂である場合には、融点以上の温
度での射出成型や熱プレス成型等の方法によりスタンパ
ー型を熱転写する方法、或いは基板上に光硬化性樹脂組
成物を塗布しスタンパー型を密着させ、紫外線等を照射
して、該光硬化性樹脂組成物を硬化させる方法によりス
タンパー型を光転写する方法により実施される。
熱転写法の場合には、トラック溝部と透明樹脂基材は同
一体に形成されるのに対して、光転写法の場合には、ト
ラック溝部は透明樹脂基材と同一体ではなく接着して形
成される。
一体に形成されるのに対して、光転写法の場合には、ト
ラック溝部は透明樹脂基材と同一体ではなく接着して形
成される。
或いは、スタンパー型の転写法とは別に、エッチング可
能な所望の厚みの透光性薄膜を有する透明樹脂基材上に
レジスト膜を形成してトラック溝部のパターンを有する
フォトマスクを介して露光し、現像してレジストパター
ンを形成して、レジストパターンをマスクとして前記透
光性薄膜をエッチングしてトラック溝部を基板に形成す
ることもできる。
能な所望の厚みの透光性薄膜を有する透明樹脂基材上に
レジスト膜を形成してトラック溝部のパターンを有する
フォトマスクを介して露光し、現像してレジストパター
ンを形成して、レジストパターンをマスクとして前記透
光性薄膜をエッチングしてトラック溝部を基板に形成す
ることもできる。
透明樹脂基材1としては、光学的な記録・再生に於いて
不都合の少ないものが好ましく、例えば、アクリル系樹
脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ビニル
系樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリア
セタール樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリアミド樹脂、
セルロース誘導体などを用いる事が出来る。
不都合の少ないものが好ましく、例えば、アクリル系樹
脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ビニル
系樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリア
セタール樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリアミド樹脂、
セルロース誘導体などを用いる事が出来る。
不透明カード基材5としては、通常のカード基材として
用いる事が出来るあらゆる材料が使用可能であり、具体
的にはポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合
体、ポリ塩化ビニリデン、ポリメタクリル酸メチル等ア
クリル重合体、ポリスチレン、ポリビニルブチラール、
アセチルセルロース、スチレン−ブタジエン共重合体、
ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、エ
ポキシ、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重
合体などが用いられる。場合に依っては、鉄、ステンレ
ス、アルミニウム、スズ、銅、亜鉛等の金属シート、合
成紙、紙等も使用可能である。更には、上記の様な材料
の積層体も使用可能である。これら不透明カード基材5
には、必要に応じてコロナ放電処理、プラズマ処理、プ
ライマー処理などの接着性改良の為の前処理をしてもよ
い。
用いる事が出来るあらゆる材料が使用可能であり、具体
的にはポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合
体、ポリ塩化ビニリデン、ポリメタクリル酸メチル等ア
クリル重合体、ポリスチレン、ポリビニルブチラール、
アセチルセルロース、スチレン−ブタジエン共重合体、
ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、エ
ポキシ、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重
合体などが用いられる。場合に依っては、鉄、ステンレ
ス、アルミニウム、スズ、銅、亜鉛等の金属シート、合
成紙、紙等も使用可能である。更には、上記の様な材料
の積層体も使用可能である。これら不透明カード基材5
には、必要に応じてコロナ放電処理、プラズマ処理、プ
ライマー処理などの接着性改良の為の前処理をしてもよ
い。
光記録層3は、使用する光源の波長付近、例えば、再生
のエネルギービームの波長が650nm以上、特に700〜900n
mである場合には、記録部であるピット等に於ける反射
率と未記録部のそれとの差が大きいものが好ましく、ま
た、書き込む為には上記の波長域に吸収のある事が必要
である。また、記録のエネルギービームの照射によって
反射率の変化が生ずるのに必要とされるエネルギーが小
さい方が好ましい。更に、再生のエネルギービームによ
って記録部(ピット等)および未記録部の反射率が変化
し難いものが好ましい。
のエネルギービームの波長が650nm以上、特に700〜900n
mである場合には、記録部であるピット等に於ける反射
率と未記録部のそれとの差が大きいものが好ましく、ま
た、書き込む為には上記の波長域に吸収のある事が必要
である。また、記録のエネルギービームの照射によって
反射率の変化が生ずるのに必要とされるエネルギーが小
さい方が好ましい。更に、再生のエネルギービームによ
って記録部(ピット等)および未記録部の反射率が変化
し難いものが好ましい。
例えば、Te,Sb,Mo,Ge,V,Sn等の酸化物、Te−Sn,TeOx−G
eなどの化合物、Te−CH4,Te−CS2,Te−スチレン、Sn−S
O2,GeS−Sn,SnS−Sなどの金属と有機化合物または無機
硫化物との複合物、ニトロセルロース、ポリスチレン、
ポリエチレンなどの熱可塑性樹脂中に銀などの金属粒子
を分散させたもの、あるいはこの様な熱可塑性樹脂の表
面に金属粒子を凝集させたもの、カルコゲン或は発色型
のMoO3−Cu,MoO3−Sn−Cn等が用いられる。
eなどの化合物、Te−CH4,Te−CS2,Te−スチレン、Sn−S
O2,GeS−Sn,SnS−Sなどの金属と有機化合物または無機
硫化物との複合物、ニトロセルロース、ポリスチレン、
ポリエチレンなどの熱可塑性樹脂中に銀などの金属粒子
を分散させたもの、あるいはこの様な熱可塑性樹脂の表
面に金属粒子を凝集させたもの、カルコゲン或は発色型
のMoO3−Cu,MoO3−Sn−Cn等が用いられる。
また、エネルギービームで光学的な物性変化可能な有機
薄膜も使用可能で、該有機薄膜は溶液または分散系によ
る連続塗布が可能で量産製造には好ましいものである。
薄膜も使用可能で、該有機薄膜は溶液または分散系によ
る連続塗布が可能で量産製造には好ましいものである。
例えば、アントラキノン誘導体(特にインダスレン骨格
を有する物)、ジオキサジン化合物及びその誘導体、ト
リフェノジチアジン化合物、フェナンスレン誘導体、シ
アニン化合物、メロシアニン化合物、ピリリウム系化合
物、キサンテン系化合物、トリフェニルメタン系化合
物、クロコニウム系色素、アゾ色素、クロコン類、アジ
ン類、インジゴイド類、メチン系色素、アズレン類、ス
クアリウム誘導体、硫化染料及び金属のジチオラート錯
体等を挙げる事が出来る。
を有する物)、ジオキサジン化合物及びその誘導体、ト
リフェノジチアジン化合物、フェナンスレン誘導体、シ
アニン化合物、メロシアニン化合物、ピリリウム系化合
物、キサンテン系化合物、トリフェニルメタン系化合
物、クロコニウム系色素、アゾ色素、クロコン類、アジ
ン類、インジゴイド類、メチン系色素、アズレン類、ス
クアリウム誘導体、硫化染料及び金属のジチオラート錯
体等を挙げる事が出来る。
かかる色素の如き有機薄膜は、公知の塗布方法により形
成される。例えば、ディップコート、スプレーコート、
スピナーコート、バーコート、ブレードコート、ロール
コート、カーテンコート等の方法を挙げる事が出来る。
該薄膜の厚さは、概むね500乃至2000Å位であり、好ま
しくは1000Å前後である。特に記録感度の点からは厚さ
は薄く、再生のS/N比の点からは厚めの方が望ましく、
色素の種類によりその最適膜厚は異る。
成される。例えば、ディップコート、スプレーコート、
スピナーコート、バーコート、ブレードコート、ロール
コート、カーテンコート等の方法を挙げる事が出来る。
該薄膜の厚さは、概むね500乃至2000Å位であり、好ま
しくは1000Å前後である。特に記録感度の点からは厚さ
は薄く、再生のS/N比の点からは厚めの方が望ましく、
色素の種類によりその最適膜厚は異る。
光記録層を形成する方法において、例えば前記色素の溶
剤溶液を塗布する場合、該溶剤溶液の粘度が低い為に、
従来の様にトラック溝部上に塗布すると、トラック溝部
に液溜りを生じ易く、均一な成膜を実施するのは困難で
あったが、本発明においては、第1図又は第2図に示す
如く、熱可塑性接着シート6又は熱可塑性接着シート
6′付き不透明カード基材5の上に色素の溶剤を塗布す
るので膜厚の一定した均一成膜が可能となる。
剤溶液を塗布する場合、該溶剤溶液の粘度が低い為に、
従来の様にトラック溝部上に塗布すると、トラック溝部
に液溜りを生じ易く、均一な成膜を実施するのは困難で
あったが、本発明においては、第1図又は第2図に示す
如く、熱可塑性接着シート6又は熱可塑性接着シート
6′付き不透明カード基材5の上に色素の溶剤を塗布す
るので膜厚の一定した均一成膜が可能となる。
この場合、従来は熱転写法で得られたトラック溝部を有
する透明樹脂基材はポリメチルメタクリレート樹脂、ポ
リカーボネート樹脂が広く利用されており、その表面上
へ色素の溶剤溶液を塗布すると、基板を侵す恐れのある
溶剤は使うことができず、色素の溶解度を上げることも
困難であったが、本発明においては熱可塑性接着シート
の上に塗布する結果、溶剤選択の幅が広くなった。
する透明樹脂基材はポリメチルメタクリレート樹脂、ポ
リカーボネート樹脂が広く利用されており、その表面上
へ色素の溶剤溶液を塗布すると、基板を侵す恐れのある
溶剤は使うことができず、色素の溶解度を上げることも
困難であったが、本発明においては熱可塑性接着シート
の上に塗布する結果、溶剤選択の幅が広くなった。
本発明で使用される熱可塑性接着シート6は、例えばエ
チレン−酢酸ビニル共重合体及びその変性樹脂、エチレ
ン−エチルメタアクリレート共重合体、酢酸ビニル−ア
クリレート共重合体等が挙げられる。
チレン−酢酸ビニル共重合体及びその変性樹脂、エチレ
ン−エチルメタアクリレート共重合体、酢酸ビニル−ア
クリレート共重合体等が挙げられる。
また、熱可塑性接着シート6′付き不透明カード基材5
は、あらかじめ熱可塑性接着シート6を不透明カード基
材に貼り合わせたものが使用される。この場合、熱可塑
性接着シート6′と不透明カード基材5との貼り合わせ
は、熱可塑性接着シートを加熱下にヒートシールする方
法、或いは別の接着剤を介して貼り合わせる方法等によ
り得ることができる。従って、熱可塑性接着シート6′
は2層構造となる場合もあるが何等差し支えなく使用す
ることができる。
は、あらかじめ熱可塑性接着シート6を不透明カード基
材に貼り合わせたものが使用される。この場合、熱可塑
性接着シート6′と不透明カード基材5との貼り合わせ
は、熱可塑性接着シートを加熱下にヒートシールする方
法、或いは別の接着剤を介して貼り合わせる方法等によ
り得ることができる。従って、熱可塑性接着シート6′
は2層構造となる場合もあるが何等差し支えなく使用す
ることができる。
これらの熱可塑性接着シート6又は6′の厚みは20乃至
100μm程度が望ましい。
100μm程度が望ましい。
次いで、前記熱可塑性接着シートと不透明カード基材、
或いは熱可塑性接着シート付きの不透明カード基材と、
透明樹脂基材とを第1図又は第2図に示すラミネート工
程により、前記の層構造を保ちながら90℃乃至150℃程
度に加熱された熱定着ロールにて圧着することにより、
光カードを製造することができる。
或いは熱可塑性接着シート付きの不透明カード基材と、
透明樹脂基材とを第1図又は第2図に示すラミネート工
程により、前記の層構造を保ちながら90℃乃至150℃程
度に加熱された熱定着ロールにて圧着することにより、
光カードを製造することができる。
必要に応じて、光カードに磁気記録層、ICメモリー、彫
刻画像、写真、文字、マーク、インク、インクプリント
と称する浮き出し文字などを光カードの表面又は裏面に
併設しても良い。更に、透明樹脂基材の表面に傷防止の
為のハードコートを施すこともできる。
刻画像、写真、文字、マーク、インク、インクプリント
と称する浮き出し文字などを光カードの表面又は裏面に
併設しても良い。更に、透明樹脂基材の表面に傷防止の
為のハードコートを施すこともできる。
[作用] 本発明の光カードの製造方法は、トラック溝部を有する
透明樹脂基材と、一方の面に光記録層を有する熱可塑性
接着シートと、不透明カード基材とを光記録層とトラッ
ク溝部とが接する様にして重ね合わせ熱圧着するか、ま
たは、トラック溝部を有する透明樹脂基材と、一方の面
に光記録層を有する熱可塑性接着シート付きの不透明カ
ード基材とを光記録層とトラック溝部とが接する様にし
て重ね合わせ熱圧着しているので、光記録層の形成の際
に、例えば色素の溶剤溶液等の塗布液を熱可塑性接着シ
ートの平滑な面に塗布すると、熱可塑性接着シートには
溶剤による侵食或いはトラック溝部の様な表面の凹凸が
ないので、膜厚の均一な光記録層を形成できると共に、
該光記録層をトラック溝部面上に熱圧着することにより
記録・再生特性のよい光カードを得ることができるもの
と推定される。
透明樹脂基材と、一方の面に光記録層を有する熱可塑性
接着シートと、不透明カード基材とを光記録層とトラッ
ク溝部とが接する様にして重ね合わせ熱圧着するか、ま
たは、トラック溝部を有する透明樹脂基材と、一方の面
に光記録層を有する熱可塑性接着シート付きの不透明カ
ード基材とを光記録層とトラック溝部とが接する様にし
て重ね合わせ熱圧着しているので、光記録層の形成の際
に、例えば色素の溶剤溶液等の塗布液を熱可塑性接着シ
ートの平滑な面に塗布すると、熱可塑性接着シートには
溶剤による侵食或いはトラック溝部の様な表面の凹凸が
ないので、膜厚の均一な光記録層を形成できると共に、
該光記録層をトラック溝部面上に熱圧着することにより
記録・再生特性のよい光カードを得ることができるもの
と推定される。
[実施例] 以下、本発明を実施例により説明するが、本発明は、こ
れにより何ら限定されるものではない。
れにより何ら限定されるものではない。
実施例1 透明樹脂基材として、厚さ0.4mmの紫外線吸収剤入のポ
リメチルメタアクリレートフィルム(クラレックス、日
東樹脂(株)製)を射出成型により、ピッチ12μm、深
さ0.2μm、溝幅3μmのトラック溝部を形成した。
リメチルメタアクリレートフィルム(クラレックス、日
東樹脂(株)製)を射出成型により、ピッチ12μm、深
さ0.2μm、溝幅3μmのトラック溝部を形成した。
他方、不透明カード基材として、厚さ0.3mmの白色硬質
塩化ビニルフィルムに熱可塑性接着シート(ダイセル化
学工業(株)製、プラクセルH−7)を厚さ100μmに
形成したものに、下記の式[I]の色素をアセトン−ジ
アセトンアルコール−イソプロパノール混合溶剤に5重
量%の濃度に溶解して溶液をスピナー塗布して、厚さ約
900Åの光記録層を形成した。
塩化ビニルフィルムに熱可塑性接着シート(ダイセル化
学工業(株)製、プラクセルH−7)を厚さ100μmに
形成したものに、下記の式[I]の色素をアセトン−ジ
アセトンアルコール−イソプロパノール混合溶剤に5重
量%の濃度に溶解して溶液をスピナー塗布して、厚さ約
900Åの光記録層を形成した。
次いで、前記トラック溝部付き透明樹脂基材と光記録層
を有する熱可塑性接着シート付き不透明カード基材を、
光記録層とトラック溝部面とが接する様にして重ね合わ
せ、表面温度120℃の熱ロールにて圧着して張り合わせ
て光カードを作成した。
を有する熱可塑性接着シート付き不透明カード基材を、
光記録層とトラック溝部面とが接する様にして重ね合わ
せ、表面温度120℃の熱ロールにて圧着して張り合わせ
て光カードを作成した。
得られた光カードに波長830nm、レーザーパワー4mW、ビ
ーム径4.5μm、100μsecのパルス幅、デューティ比50
で記録した所、きれいなビット列が得られた。
ーム径4.5μm、100μsecのパルス幅、デューティ比50
で記録した所、きれいなビット列が得られた。
実施例2 透明樹脂基材として、厚さ0.4mmのポリカーボネート
(パンライトAD−5503、帝人化成(株)製)に熱プレス
法にて、ピッチ12μm、深さ0.2μm、溝幅3μmのト
ラック溝部を形成した。
(パンライトAD−5503、帝人化成(株)製)に熱プレス
法にて、ピッチ12μm、深さ0.2μm、溝幅3μmのト
ラック溝部を形成した。
一方、厚さ50μmの熱可塑性接着シート(エバフレック
ス7500−EXP80三井・デュポン・ポリケミカル(株)
製)上に、実施例1に用いた式[I]の色素溶液をバー
コーターにより塗布し、厚さ約1000Åに成膜して光記録
層を形成した。
ス7500−EXP80三井・デュポン・ポリケミカル(株)
製)上に、実施例1に用いた式[I]の色素溶液をバー
コーターにより塗布し、厚さ約1000Åに成膜して光記録
層を形成した。
次いで、不透明カード基材として、厚さ0.4mmの白色ポ
リカーボネート(タフロン、出光石油化学(株)製)を
用いて、前記光記録槽とトラック溝部とが接する様に重
ね合わせ、三層貼り合わせ型にして、表面温度120℃の
熱ロールにて圧着して光カードを作成した。
リカーボネート(タフロン、出光石油化学(株)製)を
用いて、前記光記録槽とトラック溝部とが接する様に重
ね合わせ、三層貼り合わせ型にして、表面温度120℃の
熱ロールにて圧着して光カードを作成した。
得られた光カードに波長830nm、レーザーパワー4mW、ビ
ーム径4.5μm、100μsecのパルス幅、デューティー比5
0で記録した所、きれいなビット列が得られた。
ーム径4.5μm、100μsecのパルス幅、デューティー比5
0で記録した所、きれいなビット列が得られた。
[発明の効果] 本発明に係る光カードの製造方法においては、トラック
溝部を有する透明樹脂基材と一方の面に光記録層を奏す
る熱可塑性接着シートと不透明カード基材を光記録層と
トラック溝部とが接する様にして重ね合わせ熱圧着する
か又はトラック溝部を有する透明樹脂基材と一方の面に
光記録層を有する熱可塑性接着シート付きの不透明カー
ド基材を光記録層とトラック溝部とが接する様にして重
ね合わせ熱圧着することにより光カードを製造するの
で、以下の様な効果を有する。
溝部を有する透明樹脂基材と一方の面に光記録層を奏す
る熱可塑性接着シートと不透明カード基材を光記録層と
トラック溝部とが接する様にして重ね合わせ熱圧着する
か又はトラック溝部を有する透明樹脂基材と一方の面に
光記録層を有する熱可塑性接着シート付きの不透明カー
ド基材を光記録層とトラック溝部とが接する様にして重
ね合わせ熱圧着することにより光カードを製造するの
で、以下の様な効果を有する。
光記録層の膜厚の制御性が向上し、記録・再生特性
の良い光カードを製造することができる。
の良い光カードを製造することができる。
光記録層が色素の如き有機性薄膜である場合に、溶
剤溶液の塗布に依ることになるが、その際の溶剤選択の
自由度が増し、最適な光記録層を形成することが容易と
なり、記録・再生特性の良い光カードを製造することが
できる。
剤溶液の塗布に依ることになるが、その際の溶剤選択の
自由度が増し、最適な光記録層を形成することが容易と
なり、記録・再生特性の良い光カードを製造することが
できる。
光記録層を熱可塑性接着シート上に塗布する結果、
光記録層の乾燥がすみやかとなり、ラミネート工程での
接着不良が減少し、記録・再生特性の良い光カードを製
造することができる。
光記録層の乾燥がすみやかとなり、ラミネート工程での
接着不良が減少し、記録・再生特性の良い光カードを製
造することができる。
三層貼り合わせのラミネート工程を二層貼り合わせ
するラミネート工程とすることにより貼り合わせ時の制
御性が良い。
するラミネート工程とすることにより貼り合わせ時の制
御性が良い。
更に、印刷、その他偽造防止の為の工程の自由度の
増す層構成となっている為、光記録層を安定して形成す
ることができる。
増す層構成となっている為、光記録層を安定して形成す
ることができる。
第1図は本発明の光カードの製造方法のラミネート工程
の一例を示す概略構成図、第2図はラミネート工程の他
の例を示す概略構成図、第3図は従来の光カードの模式
的断面図および第4図は従来の光カードの製造方法のラ
ミネート工程の概略構成図である。 1…透明樹脂基材 2…トラック溝部 3…光記録層 4…接着層 5…不透明カード基材 6,6′…熱可塑性接着シート
の一例を示す概略構成図、第2図はラミネート工程の他
の例を示す概略構成図、第3図は従来の光カードの模式
的断面図および第4図は従来の光カードの製造方法のラ
ミネート工程の概略構成図である。 1…透明樹脂基材 2…トラック溝部 3…光記録層 4…接着層 5…不透明カード基材 6,6′…熱可塑性接着シート
Claims (2)
- 【請求項1】表面にトラック溝部を有する透明樹脂基材
と、該トラック溝部面上に設けられた光記録層と、該光
記録層と接する様に設けられた不透明カード基材とから
なる光カードの製造方法において、トラック溝部を有す
る透明樹脂基材と、一方の面に光記録層を有する熱可塑
性接着シートと、不透明カード基材とを光記録層とトラ
ック溝部とが接する様にして重ね合わせ熱圧着すること
を特徴とする光カードの製造方法。 - 【請求項2】表面にトラック溝部を有する透明樹脂基材
と、該トラック溝部面上に設けられた光記録層と、該光
記録層と接する様に設けられた不透明カード基材とから
なる光カードの製造方法において、トラック溝部を有す
る透明樹脂基材と、一方の面に光記録層を有する熱可塑
性接着シート付きの不透明カード基材を光記録層とトラ
ック溝部とが接する様にして重ね合わせ熱圧着すること
を特徴とする光カードの製造方法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61260800A JPH06101145B2 (ja) | 1986-11-04 | 1986-11-04 | 光カ−ドの製造方法 |
DE87307752T DE3788477D1 (de) | 1986-09-03 | 1987-09-02 | Optische Karte und Verfahren zu ihrer Herstellung. |
EP19870307752 EP0259151B1 (en) | 1986-09-03 | 1987-09-02 | Optical card and process for producing it |
US07/581,188 US5248584A (en) | 1986-09-03 | 1990-09-11 | Optical card and method for reading information recorded in it |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61260800A JPH06101145B2 (ja) | 1986-11-04 | 1986-11-04 | 光カ−ドの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63117348A JPS63117348A (ja) | 1988-05-21 |
JPH06101145B2 true JPH06101145B2 (ja) | 1994-12-12 |
Family
ID=17352919
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61260800A Expired - Lifetime JPH06101145B2 (ja) | 1986-09-03 | 1986-11-04 | 光カ−ドの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH06101145B2 (ja) |
-
1986
- 1986-11-04 JP JP61260800A patent/JPH06101145B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS63117348A (ja) | 1988-05-21 |
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