JPS63224290A - プリント配線板 - Google Patents
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- JPS63224290A JPS63224290A JP5657487A JP5657487A JPS63224290A JP S63224290 A JPS63224290 A JP S63224290A JP 5657487 A JP5657487 A JP 5657487A JP 5657487 A JP5657487 A JP 5657487A JP S63224290 A JPS63224290 A JP S63224290A
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- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 84
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims description 46
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 43
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 claims description 19
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 150000001447 alkali salts Chemical class 0.000 claims description 9
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 239000010931 gold Substances 0.000 claims description 9
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 150000002940 palladium Chemical class 0.000 claims description 6
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 5
- 239000007769 metal material Substances 0.000 claims description 5
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 150000003342 selenium Chemical class 0.000 claims description 4
- 239000011669 selenium Substances 0.000 claims description 3
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- NQIBQILAMKZKFE-UHFFFAOYSA-N 2-(5-bromo-2-fluorophenyl)-3-fluoropyridine Chemical compound FC1=CC=C(Br)C=C1C1=NC=CC=C1F NQIBQILAMKZKFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims 2
- 150000002815 nickel Chemical class 0.000 claims 1
- 230000013011 mating Effects 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 4
- 229940082569 selenite Drugs 0.000 description 4
- MCAHWIHFGHIESP-UHFFFAOYSA-L selenite(2-) Chemical compound [O-][Se]([O-])=O MCAHWIHFGHIESP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IOVCWXUNBOPUCH-UHFFFAOYSA-N Nitrous acid Chemical compound ON=O IOVCWXUNBOPUCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M Potassium chloride Chemical compound [Cl-].[K+] WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N Sulfurous acid Chemical compound OS(O)=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 2
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 2
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 2
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 2
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 2
- KZVLNAGYSAKYMG-UHFFFAOYSA-N pyridine-2-sulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC=N1 KZVLNAGYSAKYMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DVECLMOWYVDJRM-UHFFFAOYSA-N pyridine-3-sulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CN=C1 DVECLMOWYVDJRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 2
- BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N (S)-malic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N Tartaric acid Natural products [H+].[H+].[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N alpha-hydroxysuccinic acid Natural products OC(=O)C(O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- AQBOUNVXZQRXNP-UHFFFAOYSA-L azane;dichloropalladium Chemical compound N.N.N.N.Cl[Pd]Cl AQBOUNVXZQRXNP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000337 buffer salt Substances 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical class O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 description 1
- 150000001879 copper Chemical class 0.000 description 1
- NRUPVVPBPCPMPJ-UHFFFAOYSA-N cyano selenocyanate Chemical compound N#C[Se]C#N NRUPVVPBPCPMPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- XPPKVPWEQAFLFU-UHFFFAOYSA-N diphosphoric acid Chemical compound OP(O)(=O)OP(O)(O)=O XPPKVPWEQAFLFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 238000009863 impact test Methods 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 239000001630 malic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011090 malic acid Nutrition 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- LNOPIUAQISRISI-UHFFFAOYSA-N n'-hydroxy-2-propan-2-ylsulfonylethanimidamide Chemical compound CC(C)S(=O)(=O)CC(N)=NO LNOPIUAQISRISI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L palladium(II) chloride Chemical compound Cl[Pd]Cl PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- GPNDARIEYHPYAY-UHFFFAOYSA-N palladium(ii) nitrate Chemical compound [Pd+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O GPNDARIEYHPYAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ALWUDBGJBKUAME-UHFFFAOYSA-N palladium;sodium;hydrochloride Chemical compound [Na].Cl.[Pd] ALWUDBGJBKUAME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001103 potassium chloride Substances 0.000 description 1
- 235000011164 potassium chloride Nutrition 0.000 description 1
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 1
- 229940005657 pyrophosphoric acid Drugs 0.000 description 1
- 229910052705 radium Inorganic materials 0.000 description 1
- HCWPIIXVSYCSAN-UHFFFAOYSA-N radium atom Chemical compound [Ra] HCWPIIXVSYCSAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940065287 selenium compound Drugs 0.000 description 1
- 150000003343 selenium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 235000002906 tartaric acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000011975 tartaric acid Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Parts Printed On Printed Circuit Boards (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明はプリント配線板に係り、特に電気接続を行うプ
リント配線板接栓端子部のめっき層構成に関する。
リント配線板接栓端子部のめっき層構成に関する。
[従来の技術]
従来、プリント配線板の接栓部は、(a)接栓部の金属
素材上にパラジウムめっき層を二層設けたもの(特開昭
56−163295号公報) 、(b)接栓部の金属素
材上に厚さ0.5μm以上の金めつき層を設けたものが
知られている。
素材上にパラジウムめっき層を二層設けたもの(特開昭
56−163295号公報) 、(b)接栓部の金属素
材上に厚さ0.5μm以上の金めつき層を設けたものが
知られている。
[発明が解決しようとする問題点]
しかし上記(a)の接栓部は、めっき応力が50kg
/ m m ”以上もあるため、使用中にパラジウムめ
っき層に亀裂が発生し、相手側の接栓部との間で導通不
良を生ずるという問題があった。
/ m m ”以上もあるため、使用中にパラジウムめ
っき層に亀裂が発生し、相手側の接栓部との間で導通不
良を生ずるという問題があった。
また上記(b)の接栓部は、製造原価に占める金価格の
割合が大きく、原価低減のネックとなっていた。
割合が大きく、原価低減のネックとなっていた。
本発明の目的は、上記の従来技術の問題点を解消し、使
用中に導通不良を起こさず、かつ安価な接栓部を得るこ
とにある。
用中に導通不良を起こさず、かつ安価な接栓部を得るこ
とにある。
[問題点を解決するための手段]
上記目的は、パラジウムめっき層に、パラジウムめっき
層のめっき応力を少なくし、金属素材上に1800折り
曲げでクラックが発生しない厚さ0.1〜1.5μmの
パラジウムめっき層を設けた構造とすることにより達成
される。
層のめっき応力を少なくし、金属素材上に1800折り
曲げでクラックが発生しない厚さ0.1〜1.5μmの
パラジウムめっき層を設けた構造とすることにより達成
される。
なお、プリント配線板接栓部の相手側のコネクタには、
金めつき層が設けられている事が多いので、異種金属間
で腐食を起こさないようにするためには、上記のパラジ
ウムめっき層上に金めつき層を設けた構造がよい。また
耐摩耗性を向上させるためには、プリント配線板接栓部
の素材金属と上記パラジウムめっき層間にニッケルめっ
き層を設けた構造がよい。 上記金めっき層の厚さは0
.05〜0.5μm がよく、上記ニッケルめっき層の
厚さは0.2μm以上がよく、好ましくは0.2〜10
μmがよい。
金めつき層が設けられている事が多いので、異種金属間
で腐食を起こさないようにするためには、上記のパラジ
ウムめっき層上に金めつき層を設けた構造がよい。また
耐摩耗性を向上させるためには、プリント配線板接栓部
の素材金属と上記パラジウムめっき層間にニッケルめっ
き層を設けた構造がよい。 上記金めっき層の厚さは0
.05〜0.5μm がよく、上記ニッケルめっき層の
厚さは0.2μm以上がよく、好ましくは0.2〜10
μmがよい。
[作用コ
上記のパラジウムめっき層の応力を少なくするには、パ
ラジウムめっき層に展延性(180°折り曲げでパラジ
ウムめっき皮膜に亀裂が入らない)を持たせればよい。
ラジウムめっき層に展延性(180°折り曲げでパラジ
ウムめっき皮膜に亀裂が入らない)を持たせればよい。
[実施例]
次に本発明で使用する材料等について説明する。
プリント配線板接栓部は、通常鋼層から構成されている
。そしてこの銅層は、化学めっき、電気めっきもしくは
これら両者で製造する。
。そしてこの銅層は、化学めっき、電気めっきもしくは
これら両者で製造する。
ニッケルめっき層は、通常のニッケル電気めっき液を用
いて通常の条件で電気めっきにより形成する。金めつき
層は、通常の全電気めっき液を用いて通常の条件で電気
めっきにより形成する。
いて通常の条件で電気めっきにより形成する。金めつき
層は、通常の全電気めっき液を用いて通常の条件で電気
めっきにより形成する。
パラジウムめっき層は、パラジウムに換算してO01〜
60 g / lの可溶性パラジウム塩、セレンに換算
して0.01〜40g/lの可溶性セレン塩、ピリジン
スルホン酸あるいはそのアルカリ塩0.01〜40g/
l よりなるパラジウム電気めっき液を用いて電気めっ
きにより形成する。
60 g / lの可溶性パラジウム塩、セレンに換算
して0.01〜40g/lの可溶性セレン塩、ピリジン
スルホン酸あるいはそのアルカリ塩0.01〜40g/
l よりなるパラジウム電気めっき液を用いて電気めっ
きにより形成する。
なお、上記パラジウム電気めっき液に電導度塩をPHが
3.5〜12となる量加えると、めっき液の安定性がよ
くなる。
3.5〜12となる量加えると、めっき液の安定性がよ
くなる。
なお、パラジウム金属の濃度は、通常0.1 g /
1より少ないと電流密度が小さすぎて実用的でなく。
1より少ないと電流密度が小さすぎて実用的でなく。
また60 g / 1 より多いと液の汲み出しによ
るパラジウムの消耗が多く経済的でない。
るパラジウムの消耗が多く経済的でない。
ピリジンスルホン酸あるいはそのアルカリ塩の濃度が0
.1g/lより少ないか25g/l より多い場合、
セレン化合物がセレン金属に換算して0.0001g/
l より少ないか2g/lより多い場合は、共に金め
つき層の表面状態が悪くなり使用に耐えない。
.1g/lより少ないか25g/l より多い場合、
セレン化合物がセレン金属に換算して0.0001g/
l より少ないか2g/lより多い場合は、共に金め
つき層の表面状態が悪くなり使用に耐えない。
PHは3.5〜12の範囲を外すと、液が分解し易くな
り長期使用に耐えなくなる。
り長期使用に耐えなくなる。
上記のパラジウム電気めっき液を用いた場合のめっき条
件は、液温度を10〜85℃、陰極電流密度をラックの
時0.1〜25A/dm2、ジェット噴流の時1〜40
0A/dm2の範囲が好ましい。
件は、液温度を10〜85℃、陰極電流密度をラックの
時0.1〜25A/dm2、ジェット噴流の時1〜40
0A/dm2の範囲が好ましい。
上記パラジウム電気めっき液の成分であるパラジウム塩
には、ジクロロジアミンパラジウム、テトラアミンパラ
ジウムジクロライド、塩化パラジウム、塩化パラジウム
カリウム、塩化パラジウムナトリウム、ジアミノ硫酸パ
ラジウム、ジアミノ亜硫酸パラジウム、テトラアミノ硝
酸パラジウム、ジアミノ亜硝酸パラジウム等を用いる。
には、ジクロロジアミンパラジウム、テトラアミンパラ
ジウムジクロライド、塩化パラジウム、塩化パラジウム
カリウム、塩化パラジウムナトリウム、ジアミノ硫酸パ
ラジウム、ジアミノ亜硫酸パラジウム、テトラアミノ硝
酸パラジウム、ジアミノ亜硝酸パラジウム等を用いる。
これら化合物は、単独で用いてもよく、二種以上混合し
て用いてもよい。可溶性セレン塩には、セレン青酸錯塩
、亜セレン酸、亜セレン酸のアルカリ塩等を用いる。こ
れら化合物は、単独で用いてもよく、二種以上混合して
用いてもよい。
て用いてもよい。可溶性セレン塩には、セレン青酸錯塩
、亜セレン酸、亜セレン酸のアルカリ塩等を用いる。こ
れら化合物は、単独で用いてもよく、二種以上混合して
用いてもよい。
電導度塩(緩衝塩)としての無機酸及び有機酸とそのア
ルカリ塩は、硫酸、塩酸、硝酸、燐酸、スルファミン酸
、ピロリン酸、亜硫酸、亜硝酸、酢酸、クエン酸、リン
ゴ酸、コハク酸、酒石酸等の酸及びそれらのアルカリ塩
等を用いる。これら化合物は、単独で用いてもよく、二
種以上混合して用いてもよい。電導度塩には、水に可溶
性な無機酸及びそのアルカリ塩、有機酸及びそのアルカ
リ塩を用いる。
ルカリ塩は、硫酸、塩酸、硝酸、燐酸、スルファミン酸
、ピロリン酸、亜硫酸、亜硝酸、酢酸、クエン酸、リン
ゴ酸、コハク酸、酒石酸等の酸及びそれらのアルカリ塩
等を用いる。これら化合物は、単独で用いてもよく、二
種以上混合して用いてもよい。電導度塩には、水に可溶
性な無機酸及びそのアルカリ塩、有機酸及びそのアルカ
リ塩を用いる。
以下、本発明を、実施例により詳細に説明する。
実施例1
プリント配線板接栓部(銅製)に通常の前処理を行い、
下記のパラジウムめっき液を用い、液温60℃、電流密
度5A/dm2で電気めっきを行い、厚さ1μmのパラ
ジウムめっき層を形成した。このパラジウムめっき層は
、使用中しこ亀裂が入り、相手側のコネクタとの間で導
通不良を起こした。
下記のパラジウムめっき液を用い、液温60℃、電流密
度5A/dm2で電気めっきを行い、厚さ1μmのパラ
ジウムめっき層を形成した。このパラジウムめっき層は
、使用中しこ亀裂が入り、相手側のコネクタとの間で導
通不良を起こした。
なお、上記のパラジウムめっき層(厚さ1μm)を18
0°折り曲げたところ、亀裂が発生した。
0°折り曲げたところ、亀裂が発生した。
上記のパラジウム電気めっき液にピリジン−3−スルホ
ン酸5g/l、亜セレン酸0.001g/lを加えたも
のを用いて、上記と同様の条件でコネクタの素材金属上
にパラジウム電気めっきを行い、厚さ1μmのパラジウ
ムめっき層を形成した。このめっき層は、使用中に亀裂
、を発生しなかった。このため、相手側のコネクタとの
間で導通不良を起こすことはなかった。また、ピリジン
−3−スルホン酸、亜セレン酸を加えたパラジウム電気
めっき液を用いて得たパラジウムめっき皮膜(厚さ2μ
m)は、180°折り曲げて亀裂が発生しなかった。
ン酸5g/l、亜セレン酸0.001g/lを加えたも
のを用いて、上記と同様の条件でコネクタの素材金属上
にパラジウム電気めっきを行い、厚さ1μmのパラジウ
ムめっき層を形成した。このめっき層は、使用中に亀裂
、を発生しなかった。このため、相手側のコネクタとの
間で導通不良を起こすことはなかった。また、ピリジン
−3−スルホン酸、亜セレン酸を加えたパラジウム電気
めっき液を用いて得たパラジウムめっき皮膜(厚さ2μ
m)は、180°折り曲げて亀裂が発生しなかった。
実施例2
プリント配線板接栓部(銅製)しこ通常の前処理を行い
、通常のニッケル電気めっき液を用−1で通常の条件で
電気めっきを行b)、厚さ1μm(7)ニッケルめっき
層を設け、この上に下記組成のノ(ラジウムめっき液を
用いて、液温40℃、R流密K 2A/dm”で厚さ1
μmのパラジウムめっき層を設けた。
、通常のニッケル電気めっき液を用−1で通常の条件で
電気めっきを行b)、厚さ1μm(7)ニッケルめっき
層を設け、この上に下記組成のノ(ラジウムめっき液を
用いて、液温40℃、R流密K 2A/dm”で厚さ1
μmのパラジウムめっき層を設けた。
次いで、このパラジウムめっき層上に通常の金電気めっ
き液を用いて通常の条件で電気めっきを行い、厚さ0.
3μmの金電気めっき層を設けた。
き液を用いて通常の条件で電気めっきを行い、厚さ0.
3μmの金電気めっき層を設けた。
この三層のめっき層は、使用中に亀裂を生じなかった。
このため、相手側の接栓部との間で導通不良を起こすこ
とがなかった。また、腐食を起こすこともなく、耐摩耗
性も良好であり、実施例1より一層長寿命であった。
とがなかった。また、腐食を起こすこともなく、耐摩耗
性も良好であり、実施例1より一層長寿命であった。
実施例3
実施例2のプリント配線板を用いて、−65℃。
30分、+125℃、30分を1サイクルとする熱WI
撃試験を行った。第1図に本発明のプリント配線板と従
来のプリント配線板の熱衝撃試験結果を示す。
撃試験を行った。第1図に本発明のプリント配線板と従
来のプリント配線板の熱衝撃試験結果を示す。
本発明は熱1mに強いことがわかった。また温熱、湿度
環境試験にも十分耐えた。
環境試験にも十分耐えた。
[発明の効果コ
以上詳しく説明したように、本発明によれば、使用中に
導通不良を起こさず、かつ安価な接栓部を持つプリント
配線板を提供することができ、その工業的価値は非常に
大なるものがある。
導通不良を起こさず、かつ安価な接栓部を持つプリント
配線板を提供することができ、その工業的価値は非常に
大なるものがある。
第1図は、本発明のプリント配線板と従来のプリント配
線板の熱衝撃試験結果を示す図である。
線板の熱衝撃試験結果を示す図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、プリント配線板接栓部の金属素材上に180°折り
曲げでクラックの発生しない厚さ0.1〜1.5μmの
パラジウムめっき層を設けたことを特徴とするプリント
配線板。 2、上記パラジウムめっき層が、パラジウムに換算して
0.1〜60g/lの可溶性パラジウム塩、セレンに換
算して0.0001〜2g/lの可溶性セレン塩、ピリ
ジンスルホン酸あるいはそのアルカリ塩0.01〜40
g/lよりなるパラジウム電気めっき液を用いて、PH
を3.5〜12、液温度を10〜85℃、陰極電流密度
をラックの時0.1〜25A/dm^2、ジェット噴流
の時1〜400A/dm^2の範囲に調整して電気めっ
きしたものであることを特徴とする特許請求の範囲第1
項記載のプリント配線板。 3、プリント配線板接栓部の金属素材上に180°折り
曲げでクラックの発生しない厚さ0.2μm以上のニッ
ケルめっき層を設け、このニッケルめっき層上に厚さ0
.1〜1.5μmのパラジウムめっき層を設け、このパ
ラジウムめっき層上に厚さ0.05〜0.5μmの金め
っき層を設けたことを特徴とするプリント配線板。 4、上記パラジウムめっき層が、パラジウムに換算して
0.1〜60g/lの可溶性パラジウム塩、セレンに換
算して0.0001〜2g/lの可溶性セレン塩、ピリ
ジンスルホン酸あるいはそのアルカリ塩0.01〜40
g/lよりなるパラジウム電気めっき液を用いて、PH
を3.5〜12、液温度を10〜85℃、陰極電流密度
をラックの時0.1〜25A/dm^2、ジェット噴流
の時1〜400A/dm^2の範囲に調整して電気めっ
きしたものであることを特徴とする特許請求の範囲第3
項記載のプリント配線板。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5657487A JPS63224290A (ja) | 1987-03-13 | 1987-03-13 | プリント配線板 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5657487A JPS63224290A (ja) | 1987-03-13 | 1987-03-13 | プリント配線板 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63224290A true JPS63224290A (ja) | 1988-09-19 |
Family
ID=13030920
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5657487A Pending JPS63224290A (ja) | 1987-03-13 | 1987-03-13 | プリント配線板 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63224290A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05327187A (ja) * | 1992-05-18 | 1993-12-10 | Ishihara Chem Co Ltd | プリント配線板及びその製造法 |
-
1987
- 1987-03-13 JP JP5657487A patent/JPS63224290A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05327187A (ja) * | 1992-05-18 | 1993-12-10 | Ishihara Chem Co Ltd | プリント配線板及びその製造法 |
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