JPS63216356A - 基板の洗浄装置 - Google Patents
基板の洗浄装置Info
- Publication number
- JPS63216356A JPS63216356A JP62050722A JP5072287A JPS63216356A JP S63216356 A JPS63216356 A JP S63216356A JP 62050722 A JP62050722 A JP 62050722A JP 5072287 A JP5072287 A JP 5072287A JP S63216356 A JPS63216356 A JP S63216356A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cleaning
- case
- substrate
- handles
- height
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims abstract description 46
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 27
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 10
- 230000032258 transport Effects 0.000 claims description 13
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 5
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
- Packaging Frangible Articles (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は半導体装置用基板の洗浄装置に関する。
従来、この種の半導体装置用基板の洗浄装置は半導体装
置用基板を装着した洗浄ケースを搬送する搬送治具と、
該搬送治具で搬送された洗浄ケース内の基板を複数段階
に亘って洗浄する洗浄槽で構成される。ところで、従来
の搬送治具は第３図（ａ）、 （ｂ）に示すように、基
板３３を装着した洗浄ケース３２の左右に設けた溝３２
ａ、 ３２ｂに嵌合させる取手３１ａ、 ３１ｂと、左
右の取手３１ａ、 ３１ｂを同一高さ位置に保持する取
手取付台３４とを備えており、搬送治具はケース３２を
水平に吊下し搬送するものである。
置用基板を装着した洗浄ケースを搬送する搬送治具と、
該搬送治具で搬送された洗浄ケース内の基板を複数段階
に亘って洗浄する洗浄槽で構成される。ところで、従来
の搬送治具は第３図（ａ）、 （ｂ）に示すように、基
板３３を装着した洗浄ケース３２の左右に設けた溝３２
ａ、 ３２ｂに嵌合させる取手３１ａ、 ３１ｂと、左
右の取手３１ａ、 ３１ｂを同一高さ位置に保持する取
手取付台３４とを備えており、搬送治具はケース３２を
水平に吊下し搬送するものである。
上述した従来の半導体装置用基板の洗浄装置は、搬送治
具が半導体装置用基板３３を装備した洗浄ケース３２を
水平に持ち上げ搬送する構造であるため。
具が半導体装置用基板３３を装備した洗浄ケース３２を
水平に持ち上げ搬送する構造であるため。
ケース３２の上面に付着した洗浄液は後段の洗浄槽へ持
ち込まれ基板の洗浄効果が低下する問題があった・ 本発明は上記問題点を解決する半導体装置用基板の洗浄
装置を提供することにある。
ち込まれ基板の洗浄効果が低下する問題があった・ 本発明は上記問題点を解決する半導体装置用基板の洗浄
装置を提供することにある。
本発明は半導体装置用基板を装着した洗浄ケースの左右
に設けた溝にそれぞれ取手を嵌合させて該ケースを吊下
し洗浄槽まで搬送する搬送治具を装備した基板の洗浄装
置において、搬送治具が有する左右の取手の高さ位置を
上下に異ならせたことを特徴とする基板の洗浄装置であ
る。
に設けた溝にそれぞれ取手を嵌合させて該ケースを吊下
し洗浄槽まで搬送する搬送治具を装備した基板の洗浄装
置において、搬送治具が有する左右の取手の高さ位置を
上下に異ならせたことを特徴とする基板の洗浄装置であ
る。
以下、本発明の実施例を図により説明する。
（実施例１）
第１図（ａ）、 （ｂ）は本発明の第１の実施例を図に
より説明する。第１図（ａ）、 （ｂ）において、半導
体装置用基板１３を装着する洗浄ケース１２の左右には
基板１３と直交する方向に溝１２ａ、 １２ｂが設けら
れている。
より説明する。第１図（ａ）、 （ｂ）において、半導
体装置用基板１３を装着する洗浄ケース１２の左右には
基板１３と直交する方向に溝１２ａ、 １２ｂが設けら
れている。
本実施例は取手取付台１４に吊架した取手１１ａ、 ｌ
ｌｂの先端を内側に水平に折曲げるとともにその左右の
取手１１ａ、 ｌｌｂの折曲げ部１１ａ’ 、 ｌｌｂ
’の高さ位置を上下にｈだけ異ならせたものである。
ｌｂの先端を内側に水平に折曲げるとともにその左右の
取手１１ａ、 ｌｌｂの折曲げ部１１ａ’ 、 ｌｌｂ
’の高さ位置を上下にｈだけ異ならせたものである。
したがって、搬送治具の取手１１ａ、 ｌｌｂの折曲げ
部１１ａ’ 、 ｌｌｂ’を洗浄ケース１２の溝１２ａ
、 １２ｂに嵌合させて該ケース１２を吊下すると、左
右の取手１１ａ。
部１１ａ’ 、 ｌｌｂ’を洗浄ケース１２の溝１２ａ
、 １２ｂに嵌合させて該ケース１２を吊下すると、左
右の取手１１ａ。
１１ｂの高さ位置がｈだけ異なるため、ケース１２は傾
斜姿勢で保持され、ケース１２の上面に付着した洗浄液
は傾斜したケース１２の上面を伝って流れ落ちる。これ
により、前段洗浄槽の洗浄液がケース１２を介して後段
洗浄槽に混入することはなく、基板の洗浄効果の低下を
防止できる。
斜姿勢で保持され、ケース１２の上面に付着した洗浄液
は傾斜したケース１２の上面を伝って流れ落ちる。これ
により、前段洗浄槽の洗浄液がケース１２を介して後段
洗浄槽に混入することはなく、基板の洗浄効果の低下を
防止できる。
（実施例２）
第２図（ａ） 、 （ｂ）は本発明の第２の実施例を示
すものである。第２図（ａ）、 （ｂ）において、本実
施例は取手取付台２４の左右の取手２１ａ、 ２１ｂを
Ｕ字状にそれぞれ折曲げるとともに、各取手２１ａ、
２１ｂの水平直線部２１ａ’ 、 ２１ｂ’の高さ位置
を上下方向にｈだけ異ならせたものである。実施例では
２１ａ、 ２１ｂの水平直線部２１ａ’ 、 ２１ｂ’
を、基板２３を装着した洗浄ケース２２の左右の溝２２
ａ、 ２２ｂにそれぞれ嵌合して該ケース２２を吊下す
るものであり、左右の取手２１ａ、 ２１ｂの水平直線
部２１ａ’ 、 ２１ｂ’は高さｈだけ上下にずれてい
るため、ケース２２は傾斜姿勢に保持され、ケース２２
の上面の洗浄液はこの傾斜により流れ落ち、付着するこ
とはない。
すものである。第２図（ａ）、 （ｂ）において、本実
施例は取手取付台２４の左右の取手２１ａ、 ２１ｂを
Ｕ字状にそれぞれ折曲げるとともに、各取手２１ａ、
２１ｂの水平直線部２１ａ’ 、 ２１ｂ’の高さ位置
を上下方向にｈだけ異ならせたものである。実施例では
２１ａ、 ２１ｂの水平直線部２１ａ’ 、 ２１ｂ’
を、基板２３を装着した洗浄ケース２２の左右の溝２２
ａ、 ２２ｂにそれぞれ嵌合して該ケース２２を吊下す
るものであり、左右の取手２１ａ、 ２１ｂの水平直線
部２１ａ’ 、 ２１ｂ’は高さｈだけ上下にずれてい
るため、ケース２２は傾斜姿勢に保持され、ケース２２
の上面の洗浄液はこの傾斜により流れ落ち、付着するこ
とはない。
以上説明したように本発明は搬送治具の取手の高さに段
差をつけることにより、基板洗浄ケースを持ち上げて搬
送した場合にケース上面は斜めになるため、ケース上面
に付着した洗浄液が落下し次の洗浄槽への持ち込みがな
くなり、従って、基板の洗浄効果の低下を防止できる効
果を有するものである。
差をつけることにより、基板洗浄ケースを持ち上げて搬
送した場合にケース上面は斜めになるため、ケース上面
に付着した洗浄液が落下し次の洗浄槽への持ち込みがな
くなり、従って、基板の洗浄効果の低下を防止できる効
果を有するものである。
第１図（ａ）は本発明の第１の実施例を示す正面図、第
１図（ｂ）は同平面図、第２図（ａ）は本発明の第２の
実施例を示す正面図、第２図（ｂ）は同平面図、第３図
（ａ）は従来例を示す正面図、第３図（ｂ）は同平面図
である。 １１ａ、ｌｌｂ、２１ａ、２１ｂ−取手 １２．２２
・・・洗浄ケース特許出願人 山形日本電気株式会社 （ｄ） （ｂ） 第１図 （α） （ｂ） 第２図 （α） （ｂ） 第３図
１図（ｂ）は同平面図、第２図（ａ）は本発明の第２の
実施例を示す正面図、第２図（ｂ）は同平面図、第３図
（ａ）は従来例を示す正面図、第３図（ｂ）は同平面図
である。 １１ａ、ｌｌｂ、２１ａ、２１ｂ−取手 １２．２２
・・・洗浄ケース特許出願人 山形日本電気株式会社 （ｄ） （ｂ） 第１図 （α） （ｂ） 第２図 （α） （ｂ） 第３図
Claims (1)
- （１）半導体装置用基板を装着した洗浄ケースの左右に
設けた溝にそれぞれ取手を嵌合させて該ケースを吊下し
洗浄槽まで搬送する搬送治具を装備した基板の洗浄装置
において、搬送治具が有する左右の取手の高さ位置を上
下に異ならせたことを特徴とする基板の洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62050722A JPS63216356A (ja) | 1987-03-05 | 1987-03-05 | 基板の洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62050722A JPS63216356A (ja) | 1987-03-05 | 1987-03-05 | 基板の洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63216356A true JPS63216356A (ja) | 1988-09-08 |
Family
ID=12866762
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62050722A Pending JPS63216356A (ja) | 1987-03-05 | 1987-03-05 | 基板の洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63216356A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6277203B1 (en) | 1998-09-29 | 2001-08-21 | Lam Research Corporation | Method and apparatus for cleaning low K dielectric and metal wafer surfaces |
-
1987
- 1987-03-05 JP JP62050722A patent/JPS63216356A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6277203B1 (en) | 1998-09-29 | 2001-08-21 | Lam Research Corporation | Method and apparatus for cleaning low K dielectric and metal wafer surfaces |
| US6319330B1 (en) | 1998-09-29 | 2001-11-20 | Lam Research Corporation | Method and apparatus for cleaning low K dielectric and metal wafer surfaces |
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