JPS6390146A - 基板の移しかえ装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は半導体製造プロセスに係り、特に基板のカセッ
ト間移動に好適な移しかえ装置に関する。

〔従来の技術〕

半導体基板の移しかえ装置は、同一ピッチを有する他力
セットへ基板を移しかえるための装置である。この種の
装置に関連するものとしては、特開昭５９−１０４１３
８．同６０−１３０８４１等が挙げられる。

〔発明が解決しようとする問題点〕

しかし、上記従来法では基板の汚染や異物付着の点につ
いて配慮されておらず、カセット間の移しかえの際、基
板が装置常備の中間治具に接触し基板汚染の原因となる
。あるいは基板がカセット内で回転、カセットの摩擦、
衝突による塵埃発生等の問題があった。

本発明の目的は、基板汚染や異物付着を防止した移しか
え装置を提供することにある。

〔問題点を解決するための手段〕

上記目的は、半導体基板をセットしたカセットを保持し
て水平、垂直動作を行うための移載機構および該カセッ
トの保持位置が水平面内において互いに直交している２
種類のカセットヲ用いることにより、達成される。

〔作用〕

カセットの動作は水平、垂直方向のみである。

そのため、基板はカセット内で回転することはない。ま
た、２種類のカセットを用いることにより一方のカセッ
トから他方へ直接移しかえができるので、中間治具が不
要となる。

〔実施例〕

以下１本発明の一実施例を第１図により説明する。半導
体基板はカセット台１→力セツト台２→カセット台３へ
と移動する。該基板はカセット台２においてカセット６
からカセット７へと移しかえられる。

ここで引いたカセット６および７を第２図および第３図
に示す。両力セットの溝のピッチは同一であるがカセッ
ト６の保持部はカセット７の保持部に対して９０度根回
転した向きに設けられている。

次に、該基板の移しかえの手順を第４図に示す。

（ａ）まず移載機４が台１上へ下降する。（ｂ）次いで
、基板８がセットされたカセット６を保持する。（Ｃ）
カセット６１に上昇させる。（ψカセット６を台２まで
水平に移動する。（ｅ）カセット７が置かれた台２上へ
カセット６を置く。（０移ａ機４はカセット６ｔ−置い
て上昇する。（ロ）移載機５が台２上へ下降する。（ｈ
）カセット７を保持し上昇する。（このとき、該基板は
カセット６から７へ移る。）（ｉ）移載機５はカセット
７を台３へ移動する。（ｊ）カセット７は台３上に置か
詐る。その後、カセット６は移載機４により台１へ移さ
れる。

さて上記装置を用いてＳｉ４インチウェーハの移しかえ
を行ったところ異物付着数を０〜数個とすることができ
た。

以上のように１本実施例によれば、基板への異物付着を
防止する効果が極めて大である。

本実施例におけるカセット台の代シに、浸漬式の洗浄槽
を用いても同様の効果を得ることができる。さらに、こ
の場合には従来法で取扱った乾いた基板ばかりではなく
、濡れた基板のカセット間の移しかえが可能となる。

実施例では円形基板を用いたが１円形でなくても上記効
果はかわらない。

〔発明の効果〕

本発明によれば、（１）基板をカセットからカセットへ
直接移しがえができるので、中間治具等による基板汚染
を防止できる、（２）移しかえの際、基板は回転等の動
きがないことから基板のチッピングやカセットからの塵
埃発生を防止できる、等の効果がある。

さらに、カセットを上下方向に移動できるので、洗浄槽
等の槽内における基板の移しかえを行うことも可能であ
る。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明になる基板移しかえ装置の概略説明図、
第２図、第３図はカセットの断面図、第４図は基板のカ
セット関与しかえフローを示す側面図である。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １、基板をカセットからカセツトへ移しかえる移しかえ
   装置において、カセットを保持して水平および垂直に移
   動する移載機構を具備し、保持位置が水平面内において
   互いに直交する２種類のカセットを用いることを特徴と
   する基板の移しかえ装置。