JPH0441173Y2 - - Google Patents
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- JPH0441173Y2 JPH0441173Y2 JP6168887U JP6168887U JPH0441173Y2 JP H0441173 Y2 JPH0441173 Y2 JP H0441173Y2 JP 6168887 U JP6168887 U JP 6168887U JP 6168887 U JP6168887 U JP 6168887U JP H0441173 Y2 JPH0441173 Y2 JP H0441173Y2
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- JP
- Japan
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- wafer
- holder
- wafer holder
- boat
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- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 claims description 119
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000004518 low pressure chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本考案はボートのホルダ用溝に支持されたウエ
ーハホルダ上にウエーハを載せ、ウエーハ表面に
均一なLTD膜、PSG膜等のCVD膜を生成する縦
型CVD装置に係り、特にウエーハホルダ上にウ
エーハを自動的に載置したり取り出したりするウ
エーハ着脱装置を有する縦型CVD装置に関する。
ーハホルダ上にウエーハを載せ、ウエーハ表面に
均一なLTD膜、PSG膜等のCVD膜を生成する縦
型CVD装置に係り、特にウエーハホルダ上にウ
エーハを自動的に載置したり取り出したりするウ
エーハ着脱装置を有する縦型CVD装置に関する。
従来は減圧CVD装置でSiH4＋O2の低温SiO2，
SiH4＋PH3＋O2のPSG膜等を生成する場合、第
５図示のようにボート１の内側に、多数のホルダ
用溝２をボート１の長さ方向に等間隔に設け、こ
の各ホルダ用溝２内に支持される石英製のウエー
ハホルダ３上に第４図ａ，ｂ示のようにウエーハ
４を載置し、内部反応管とウエーハのギヤツプを
５mm程度に保持することにより均一な膜を生成す
ることができるが、ウエーハ４をウエーハホルダ
３へ着脱する場合、人手で行われている。
SiH4＋PH3＋O2のPSG膜等を生成する場合、第
５図示のようにボート１の内側に、多数のホルダ
用溝２をボート１の長さ方向に等間隔に設け、こ
の各ホルダ用溝２内に支持される石英製のウエー
ハホルダ３上に第４図ａ，ｂ示のようにウエーハ
４を載置し、内部反応管とウエーハのギヤツプを
５mm程度に保持することにより均一な膜を生成す
ることができるが、ウエーハ４をウエーハホルダ
３へ着脱する場合、人手で行われている。
上記従来例にあつては、ウエーハホルダ３への
ウエーハ４の着脱を人手で行つているため、ウエ
ーハ４の着脱に多くの時間を要し、作業性が悪く
特に多くのウエーハを処理する場合、生産性が低
下するという問題点があつた。
ウエーハ４の着脱を人手で行つているため、ウエ
ーハ４の着脱に多くの時間を要し、作業性が悪く
特に多くのウエーハを処理する場合、生産性が低
下するという問題点があつた。
本考案装置は上記の問題点を解決するため、第
１図〜第３図示のようにボート１の内側に、多数
のホルダ用溝２をボート１の長さ方向に等間隔に
設け、この各ホルダ用溝２内にウエーハホルダ３
を支持させ、各ウエーハホルダ３上にウエーハ４
を載置し、これらのウエーハ４の表面にCVD膜
を生成する縦型CVD装置において、前記各ホル
ダ用溝２間に一時、ウエーハ４を載せる載置部５
を設け、前記各ウエーハホルダ３は各ホルダ用溝
２に支持される、切欠部６を有する本体ウエーハ
ホルダ部３ａと、切欠部６の周縁部に嵌合して支
持されるウエーハ搬送用ウエーハホルダ部３ｂと
よりなり、ウエーハ４及びウエーハ搬送用ウエー
ハホルダ部３ｂを水平移動させる動作、上下動さ
せる動作及び回転させる動作を行うロボツト７を
設置してなる構成としたものである。
１図〜第３図示のようにボート１の内側に、多数
のホルダ用溝２をボート１の長さ方向に等間隔に
設け、この各ホルダ用溝２内にウエーハホルダ３
を支持させ、各ウエーハホルダ３上にウエーハ４
を載置し、これらのウエーハ４の表面にCVD膜
を生成する縦型CVD装置において、前記各ホル
ダ用溝２間に一時、ウエーハ４を載せる載置部５
を設け、前記各ウエーハホルダ３は各ホルダ用溝
２に支持される、切欠部６を有する本体ウエーハ
ホルダ部３ａと、切欠部６の周縁部に嵌合して支
持されるウエーハ搬送用ウエーハホルダ部３ｂと
よりなり、ウエーハ４及びウエーハ搬送用ウエー
ハホルダ部３ｂを水平移動させる動作、上下動さ
せる動作及び回転させる動作を行うロボツト７を
設置してなる構成としたものである。
ロボツト７を作動させてカセツト（図示せず）
からウエーハ４を取出し、このウエーハ４を一
旦、ボート１の載置部５に載置させる。次いでボ
ート１のホルダ用溝２内に支持された本体ウエー
ハホルダ部３ａの切欠部６に載置したウエーハ搬
送用ウエーハホルダ部３ｂをロボツト７によりす
くい上げ、更にウエーハ搬送用ウエーハホルダ部
３ｂを上動させて当該ホルダ部３ｂ上に、載置部
５上のウエーハ４を移す。
からウエーハ４を取出し、このウエーハ４を一
旦、ボート１の載置部５に載置させる。次いでボ
ート１のホルダ用溝２内に支持された本体ウエー
ハホルダ部３ａの切欠部６に載置したウエーハ搬
送用ウエーハホルダ部３ｂをロボツト７によりす
くい上げ、更にウエーハ搬送用ウエーハホルダ部
３ｂを上動させて当該ホルダ部３ｂ上に、載置部
５上のウエーハ４を移す。
しかる後、当該ウエーハホルダ部３ｂをロボツ
ト７により水平方向に少し戻してから下動し、次
いで少し前進させて本体ウエーハホルダ部３ａの
切欠部６に、ウエーハ搬送用ウエーハホルダ部３
ｂを嵌合させ支持させる。その結果、本体ウエー
ハホルダ部３ａとウエーハ搬送用ウエーハホルダ
部３ｂよりなるウエーハホルダ３上にウエーハ４
を載置することができる。ウエーハ４の離脱はこ
の作動順序とは逆の順序を経て達成することがで
きる。
ト７により水平方向に少し戻してから下動し、次
いで少し前進させて本体ウエーハホルダ部３ａの
切欠部６に、ウエーハ搬送用ウエーハホルダ部３
ｂを嵌合させ支持させる。その結果、本体ウエー
ハホルダ部３ａとウエーハ搬送用ウエーハホルダ
部３ｂよりなるウエーハホルダ３上にウエーハ４
を載置することができる。ウエーハ４の離脱はこ
の作動順序とは逆の順序を経て達成することがで
きる。
以下図面に基づいて本考案の実施例を説明す
る。
る。
第１図ａ，ｂはそれぞれ本考案におけるウエー
ハホルダを構成する本体ウエーハホルダ部とウエ
ーハ搬送用ウエーハホルダ部の一例を示す正面図
及び平面図である。
ハホルダを構成する本体ウエーハホルダ部とウエ
ーハ搬送用ウエーハホルダ部の一例を示す正面図
及び平面図である。
第１図において３はウエーハホルダでＵ字状切
欠部６を有する本体ウエーハホルダ部３ａと、Ｕ
字状切欠部６の周縁部６ａに嵌合して支持される
ウエーハ搬送用ウエーハホルダ部３ｂとよりな
る。
欠部６を有する本体ウエーハホルダ部３ａと、Ｕ
字状切欠部６の周縁部６ａに嵌合して支持される
ウエーハ搬送用ウエーハホルダ部３ｂとよりな
る。
第２図は本考案におけるボートの一例を示す正
面図で、ボート１の内側には多数のホルダ用溝２
がボート１の長さ方向に等間隔に設けられてい
る。各ホルダ用溝２間には一時、ウエーハ４を載
せる載置部５が形成されている。
面図で、ボート１の内側には多数のホルダ用溝２
がボート１の長さ方向に等間隔に設けられてい
る。各ホルダ用溝２間には一時、ウエーハ４を載
せる載置部５が形成されている。
各本体ウエーハホルダ部３ａとウエーハ搬送用
ウエーハホルダ部３ｂよりなるウエーハホルダ３
は第３図ａ示のようにボート１の各ホルダ用溝２
内に支持されている。また、７はウエーハ４とウ
エーハ搬送用ウエーハホルダ部３ｂを水平移動さ
せる動作、上下動させる動作及び回転する動作を
行うロボツトで、この実施例の場合、ロボツト本
体８より突出するロツド９に固定されたガイド部
１０と、このガイド部１０に案内されて水平方向
に移動せしめられる吸着用アーム１１とを備えて
いる。吸着用アーム１１の移動を行う機構と、吸
着用アーム１１に吸着動作をさせるための真空装
置が設けられていることは勿論である。ロボツト
７による上下動はロツド９を上下動させるかある
いはロボツト本体８を上下動させることにより達
成する。またロボツト７による回転動作はロツド
９を回転させるかあるいはロボツト本体８を回転
させることにより達成する。本例の場合はロボツ
ト本体８を別設された上下動機構（図示せず）に
より上下動させ、ロツド９を回転機構（図示せ
ず）により回転させるようなつている。
ウエーハホルダ部３ｂよりなるウエーハホルダ３
は第３図ａ示のようにボート１の各ホルダ用溝２
内に支持されている。また、７はウエーハ４とウ
エーハ搬送用ウエーハホルダ部３ｂを水平移動さ
せる動作、上下動させる動作及び回転する動作を
行うロボツトで、この実施例の場合、ロボツト本
体８より突出するロツド９に固定されたガイド部
１０と、このガイド部１０に案内されて水平方向
に移動せしめられる吸着用アーム１１とを備えて
いる。吸着用アーム１１の移動を行う機構と、吸
着用アーム１１に吸着動作をさせるための真空装
置が設けられていることは勿論である。ロボツト
７による上下動はロツド９を上下動させるかある
いはロボツト本体８を上下動させることにより達
成する。またロボツト７による回転動作はロツド
９を回転させるかあるいはロボツト本体８を回転
させることにより達成する。本例の場合はロボツ
ト本体８を別設された上下動機構（図示せず）に
より上下動させ、ロツド９を回転機構（図示せ
ず）により回転させるようなつている。
上記の構成においてロボツト７の吸着用アーム
１１を伸ばし、カセツト（図示せず）から１枚の
ウエーハ４を吸着用アーム１１によりすくい上げ
て吸着し、当該アーム１１を引つ込めて取り出
す。吸着用アーム１１をボート１に対向する位置
まで回転させると共に伸ばして吸着を解除させ少
し下動させて所望の載置部５上にウエーハ４を一
旦載せ、吸着用アーム１１を引つ込める（第３図
ａ参照）。
１１を伸ばし、カセツト（図示せず）から１枚の
ウエーハ４を吸着用アーム１１によりすくい上げ
て吸着し、当該アーム１１を引つ込めて取り出
す。吸着用アーム１１をボート１に対向する位置
まで回転させると共に伸ばして吸着を解除させ少
し下動させて所望の載置部５上にウエーハ４を一
旦載せ、吸着用アーム１１を引つ込める（第３図
ａ参照）。
次いでロボツト本体８を少し下動させ吸着用ア
ーム１１を伸ばして本体ウエーハホルダ３ａの切
欠部６に載置されているウエーハ搬送用ウエーハ
ホルダ部３ｂを吸着させて上動させ（第３図ｂ参
照）、更に上動させた後、少し引つ込めてこのホ
ルダ部３ｂ上に載置部５上のウエーハ４を移す。
しかる後、吸着用アーム１１を下動した後（第３
図ｃ参照）、少し伸ばし、下動してウエーハ搬送
用ウエーハホルダ部３ｂを、ホルダ用溝２に支持
された本体ウエーハホルダ部３ａの切欠部６に嵌
合して支持する（第３図ｄ参照）。その結果、ウ
エーハ４は本体ウエーハホルダ部３ａとウエーハ
搬送用ウエーハホルダ部３ｂの上面、換言すれば
ウエーハホルダ３上に載置されることになる。
ーム１１を伸ばして本体ウエーハホルダ３ａの切
欠部６に載置されているウエーハ搬送用ウエーハ
ホルダ部３ｂを吸着させて上動させ（第３図ｂ参
照）、更に上動させた後、少し引つ込めてこのホ
ルダ部３ｂ上に載置部５上のウエーハ４を移す。
しかる後、吸着用アーム１１を下動した後（第３
図ｃ参照）、少し伸ばし、下動してウエーハ搬送
用ウエーハホルダ部３ｂを、ホルダ用溝２に支持
された本体ウエーハホルダ部３ａの切欠部６に嵌
合して支持する（第３図ｄ参照）。その結果、ウ
エーハ４は本体ウエーハホルダ部３ａとウエーハ
搬送用ウエーハホルダ部３ｂの上面、換言すれば
ウエーハホルダ３上に載置されることになる。
この場合、吸着用アーム１１がＵ字状切欠部６
を通過できるように吸着用アーム１１の幅はＵ字
状切欠部６の幅より小さく設定しておくことは勿
論である。
を通過できるように吸着用アーム１１の幅はＵ字
状切欠部６の幅より小さく設定しておくことは勿
論である。
上記の動作を繰り返すことによりウエーハ４を
カセツトから順次取出し、ウエーハホルダ３上に
次々と載置することができる。また、上記の動作
順序と逆の順序をたどれば、ウエーハ４をウエー
ハホルダ３から離脱させてカセツトに戻すことが
できる。
カセツトから順次取出し、ウエーハホルダ３上に
次々と載置することができる。また、上記の動作
順序と逆の順序をたどれば、ウエーハ４をウエー
ハホルダ３から離脱させてカセツトに戻すことが
できる。
なお、本考案におけるロボツト７としては、掴
み式のものでもよく、実施例のものに限定されな
い。要はウエーハ４及びウエーハ搬送用ウエーハ
ホルダ部３ｂを水平移動させる動作、上下動させ
る動作及び回転させる動作を行うロボツトであれ
ばよい。
み式のものでもよく、実施例のものに限定されな
い。要はウエーハ４及びウエーハ搬送用ウエーハ
ホルダ部３ｂを水平移動させる動作、上下動させ
る動作及び回転させる動作を行うロボツトであれ
ばよい。
上述の説明より明らかなように本考案によれ
ば、ボート１の内側に、多数のホルダ用溝２をボ
ート１の長さ方向に等間隔に設け、この各ホルダ
用溝２内にウエーハホルダ３を支持させ、各ウエ
ーハホルダ３上にウエーハ４を載置し、これらの
ウエーハ４の表面にCVD膜を生成する縦型CVD
装置において、前記各ホルダ用溝２間に一時、ウ
エーハ４を載せる載置部５を設け、前記各ウエー
ハホルダ３は各ホルダ用溝２に支持される、切欠
部６を有する本体ウエーハホルダ部３ａと、切欠
部６の周縁部に嵌合して支持されるウエーハ搬送
用ウエーハホルダ部３ｂとよりなり、ウエーハ４
及びウエーハ搬送用ウエーハホルダ部３ｂを水平
移動させる動作、上下動させる動作及び回転させ
る動作を行うロボツト７を設置してなるので、ロ
ボツト７の操作だけでウエーハホルダ３へのウエ
ーハ４の着脱を自動的に行うことができ、時間の
短縮、作業性・生産性の向上を図ることができる
ばかりでなく、均一な膜を生成することができ
る。
ば、ボート１の内側に、多数のホルダ用溝２をボ
ート１の長さ方向に等間隔に設け、この各ホルダ
用溝２内にウエーハホルダ３を支持させ、各ウエ
ーハホルダ３上にウエーハ４を載置し、これらの
ウエーハ４の表面にCVD膜を生成する縦型CVD
装置において、前記各ホルダ用溝２間に一時、ウ
エーハ４を載せる載置部５を設け、前記各ウエー
ハホルダ３は各ホルダ用溝２に支持される、切欠
部６を有する本体ウエーハホルダ部３ａと、切欠
部６の周縁部に嵌合して支持されるウエーハ搬送
用ウエーハホルダ部３ｂとよりなり、ウエーハ４
及びウエーハ搬送用ウエーハホルダ部３ｂを水平
移動させる動作、上下動させる動作及び回転させ
る動作を行うロボツト７を設置してなるので、ロ
ボツト７の操作だけでウエーハホルダ３へのウエ
ーハ４の着脱を自動的に行うことができ、時間の
短縮、作業性・生産性の向上を図ることができる
ばかりでなく、均一な膜を生成することができ
る。
第１図ａ，ｂはそれぞれ本考案におけるウエー
ハホルダを構成する本体ウエーハホルダ部とウエ
ーハ搬送用ウエーハホルダ部の一例を示す正面図
及び平面図、第２図は本考案におけるボートの一
例を示す正面図、第３図ａ〜ｄは本考案装置の一
実施例の動作説明図、第４図ａ，ｂはそれぞれ従
来におけるウエーハホルダにウエーハを載置した
状態を示した正面図及び平面図、第５図は従来に
おけるボートの一例を示す正面図である。 １……ボート、２……ホルダ用溝、３……ウエ
ーハホルダ、３ａ……本体ウエーハホルダ部、３
ｂ……ウエーハ搬送用ウエーハホルダ部、４……
ウエーハ、５……載置部、６……（Ｕ字状）切欠
部、６ａ……周縁部、７……ロボツト。
ハホルダを構成する本体ウエーハホルダ部とウエ
ーハ搬送用ウエーハホルダ部の一例を示す正面図
及び平面図、第２図は本考案におけるボートの一
例を示す正面図、第３図ａ〜ｄは本考案装置の一
実施例の動作説明図、第４図ａ，ｂはそれぞれ従
来におけるウエーハホルダにウエーハを載置した
状態を示した正面図及び平面図、第５図は従来に
おけるボートの一例を示す正面図である。 １……ボート、２……ホルダ用溝、３……ウエ
ーハホルダ、３ａ……本体ウエーハホルダ部、３
ｂ……ウエーハ搬送用ウエーハホルダ部、４……
ウエーハ、５……載置部、６……（Ｕ字状）切欠
部、６ａ……周縁部、７……ロボツト。
Claims (1)
- ボートの内側に、多数のホルダ用溝をボートの
長さ方向に等間隔に設け、この各ホルダ用溝内に
ウエーハホルダを支持させ、各ウエーハホルダ上
にウエーハを載置し、これらのウエーハの表面に
CVD膜を生成する縦型CVD装置において、前記
各ホルダ用溝間に一時、ウエーハを載せる載置部
を設け、前記各ウエーハホルダは、各ホルダ用溝
に支持される、切欠部を有する本体ウエーハホル
ダ部と、切欠部の周縁部に嵌合して支持されるウ
エーハ搬送用ウエーハホルダ部とよりなり、ウエ
ーハ及びウエーハ搬送用ウエーハホルダ部を水平
移動させる動作、上下動させる動作及び回転させ
る動作を行うロボツトを設置してなるウエーハ着
脱装置を有する縦型CVD装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6168887U JPH0441173Y2 (ja) | 1987-04-22 | 1987-04-22 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6168887U JPH0441173Y2 (ja) | 1987-04-22 | 1987-04-22 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63170464U JPS63170464U (ja) | 1988-11-07 |
| JPH0441173Y2 true JPH0441173Y2 (ja) | 1992-09-28 |
Family
ID=30895261
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6168887U Expired JPH0441173Y2 (ja) | 1987-04-22 | 1987-04-22 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0441173Y2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0648859Y2 (ja) * | 1989-03-03 | 1994-12-12 | ラムコ株式会社 | ウエハー支持具 |
| US6585823B1 (en) * | 2000-07-07 | 2003-07-01 | Asm International, N.V. | Atomic layer deposition |
-
1987
- 1987-04-22 JP JP6168887U patent/JPH0441173Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63170464U (ja) | 1988-11-07 |
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