JPH069512Y2 - 水中カセットへのウエハ−収納装置 - Google Patents

水中カセットへのウエハ−収納装置

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JPH069512Y2
JPH069512Y2 JP1984098160U JP9816084U JPH069512Y2 JP H069512 Y2 JPH069512 Y2 JP H069512Y2 JP 1984098160 U JP1984098160 U JP 1984098160U JP 9816084 U JP9816084 U JP 9816084U JP H069512 Y2 JPH069512 Y2 JP H069512Y2
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JP
Japan
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wafer
cassette
underwater
shooter
center line
Prior art date
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Application number
JP1984098160U
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JPS6113934U (ja
Inventor
康行 尾身
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FUJIKOSHI MACHINE INDUSTRY CO.,LTD.
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FUJIKOSHI MACHINE INDUSTRY CO.,LTD.
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Description

【考案の詳細な説明】 産業上の利用分野 本考案は水中カセットへのウエハー収納装置に関するも
のである。
従来の技術 半導体単結晶棒をスライスして得たウエハーに、ラッピ
ング、エッチング、鏡面仕上、検査等の処理を行う際
は、各工程の終了時に数十枚のウエハーをカセットに収
納して次の工程装置に送る。従来はこの収納をピンセッ
トで1枚づつ取り出してカセットにいれるか、やゝ自動
化して第1図に示すように、モーター1で動かすゴムベ
ルト2にウエハー3を載せて空気中を搬送し、カセット
4の溝5に収納する毎にモーター6によりカセットを一
ピッチづつ上昇させていれている。
考案が解決しようとする問題点 しかし各処理工程が進捗しウエハー表面のミラー化が完
成に近づくと、ウエハーが空気にふれゴムベルトやカセ
ットとこすれることによるきず等が無視できなくなると
いう欠点をもつ。これはLSI用のウエハーの場合は致
命的といってもよい。
問題点を解決するための手段 本考案は上記欠点を解消するため、ウエハーをカセット
に収納する工程をすべて水中で水力によって行い、酸
化、汚染、きずの発生を防ぐことを目的とするものであ
る。
すなわち本考案は、その表面の中心線の両側に所定間隔
で少なくとも2列に並び、該中心線に向かって15°±
5°、該表面に対し30°±5°傾斜して開口した多数
のノズルを有し、該ノズルから噴射される水の圧力によ
り、ウエハーを該中心線に沿って水中移送する水平シュ
ーターと、該シューターによって搬送されてきたウエハ
ーを収納する度に、1ピッチづつ低下させてウエハーを
収納する水中カセットを具備することを特徴とする水中
カセットへのウエハー収納装置を提供するものである。
作用 以下図面によって本考案を詳細に説明する。第2図は代
表的な鏡面研摩方法において使用する、ウエハー3を数
枚貼付したプレート7の斜視図である。作業効率をあげ
るため、ウエハーはこのようにプレートに貼付して鏡面
研摩を行う。
鏡面研摩を終了すると、第3図に示すようにプレート7
を水槽8の水中に浸漬して空気との接触を断つ。次には
がし棒(図示せず)で各ウエハーをプレートよりはがし
シューター9の上に載置する。この操作は水中で行う簡
単な作業であるから、ウエハーを汚染したりきずをつけ
るおそれはほとんどない。
シューター9は、裏面に給水管10をもつシューターベ
ース11にねじ止めまたは接着によって固定される。
第4図はシューター9の拡大平面図であるが、水平をな
すシューター表面のウエハー進行方向に向う中心線A−
A′の両側に、所定間隔で2列にならんだノズル12を
備え、各ノズルは中心線A−A′に向って15°±5°
傾斜している。傾斜がこの範囲より大きくなると、ウエ
ハーのおどりが大きくなって円滑な収納ができず、小さ
くなるとウエハーは中心線をはずれて正しく収納されな
い。第5図は第4図のB−B線を通るノズルの縦断面を
示す。図より明らかなように、ノズルはシューターの表
面に対し30°±5°傾斜し、シューター表面に達して
開口13となり裏面に達して開口14となる。傾斜がこ
の範囲より大きくなると、ウエハーは水面にふきあげら
えておどりが激しくなり円滑な収納ができず、小さくな
るとウエハーは沈下してシューター面に接触し易くな
る。第6図はシューターベース11の拡大平面図で、中
央に給水管10の開口15があり、これを中心にして日
の字型の配水溝16が各開口14の下まで達している。
したがって送水機(図示せず)より給水管10に送られ
た水は配水溝16をたどって開口14に達し、傾斜した
ノズル12を通って開口13より噴射される。ウエハー
がシューター9よりカセット4に移動する毎に、検知器
(図示せず)の信号によって駆動モーター17を働かせ
てカセットを一ピッチづつ低下させ、次のウエハーを収
納する態勢を整える。
[実施例] 直径15cm、厚さ0.3cmのシリコンウエハーを本願考
案の装置により搬送したときの状況を下表に示す。
考案の効果 以上により、ウエハーは傾斜したノズルからの新しい噴
射水により常に中心線A−A′上の水中を迅速に送られ
てカセット4に確実に収納され、空気およびゴムベルト
との接触による酸化、汚染を受けることはなく、またカ
セットに入りこむ際水膜を介しているのできずの発生も
ない。しかも装置は簡単で信頼性が高く有用な考案であ
る。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来のウエハーの搬送装置を、第2図はウエハ
ーを貼付したプレートの斜視図を、第3図は本考案によ
る水中カセットへのウエハー収納装置を、第4図は本考
案のシューターの拡大平面図を、第5図は第4図のB−
B線を通るノズルの縦断面図を、第6図はシューターベ
ースの平面図を示す。 1……モータ、2……ゴムベルト、 3……ウエハー、4……水中カセット、5……溝、 6……モーター、7……プレート、8……水槽、 9……シューター、10……給水管、 11……シューターベース、12……ノズル、 13,14,15……開口、16……配水溝、 17……モーター。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項1】その表面の中心線の両側に所定間隔で少な
    くとも2列に並び、該中心線に向かって15°±5°、
    該表面に対し30°±5°傾斜して開口した多数のノズ
    ルを有し、該ノズルから噴射される水の圧力により、ウ
    エハーを該中心線に沿って水中移送する水平シューター
    と、該シューターによって搬送されてきたウエハーを収
    納する度に、1ピッチづつ低下させてウエハーを収納す
    る水中カセットを具備することを特徴とする水中カセッ
    トへのウエハー収納装置。
JP1984098160U 1984-06-29 1984-06-29 水中カセットへのウエハ−収納装置 Expired - Lifetime JPH069512Y2 (ja)

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Publication Number Publication Date
JPS6113934U JPS6113934U (ja) 1986-01-27
JPH069512Y2 true JPH069512Y2 (ja) 1994-03-09

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Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4395165A (en) * 1980-12-19 1983-07-26 International Business Machine Corp. Chip shuttle track

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JPS6113934U (ja) 1986-01-27

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