JPS63205662A - 電子写真感光体 - Google Patents
電子写真感光体Info
- Publication number
- JPS63205662A JPS63205662A JP3757087A JP3757087A JPS63205662A JP S63205662 A JPS63205662 A JP S63205662A JP 3757087 A JP3757087 A JP 3757087A JP 3757087 A JP3757087 A JP 3757087A JP S63205662 A JPS63205662 A JP S63205662A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- diamond
- carbon film
- photoreceptor
- amorphous silicon
- photosensitive body
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 30
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 28
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 19
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims abstract description 6
- 108091008695 photoreceptors Proteins 0.000 claims description 35
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 10
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical group [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 claims description 6
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical group [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 claims description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 5
- 230000007774 longterm Effects 0.000 abstract description 4
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 abstract description 3
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 abstract description 3
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 abstract description 3
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 abstract description 2
- 238000010348 incorporation Methods 0.000 abstract 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 35
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 31
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 7
- 229910021478 group 5 element Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 6
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 4
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 4
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- -1 polyethylene Polymers 0.000 description 3
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 3
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 2
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(III) oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007737 ion beam deposition Methods 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- 239000000123 paper Substances 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N vinyl-ethylene Natural products C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/043—Photoconductive layers characterised by having two or more layers or characterised by their composite structure
- G03G5/0433—Photoconductive layers characterised by having two or more layers or characterised by their composite structure all layers being inorganic
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/08—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being inorganic
- G03G5/082—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being inorganic and not being incorporated in a bonding material, e.g. vacuum deposited
- G03G5/08285—Carbon-based
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、電子複写機、レーザープリンター、LEDプ
リンター等に使用される電子写真感光体に関する。
リンター等に使用される電子写真感光体に関する。
電子写真技術は、帯電させた感光体の表面に文字や画像
情報を露光して静電画像を生成し、これを現像して可視
像化した後に用紙に転写するものであり、電子複写機を
はじめ各種のプリンターに応用されている。
情報を露光して静電画像を生成し、これを現像して可視
像化した後に用紙に転写するものであり、電子複写機を
はじめ各種のプリンターに応用されている。
これに使用される感光体としては、従来からセレン等各
種の光導電性材料が用いられてきだが、最近では電気的
特性及び機械的強度が優れたアモルファスシリコンが広
く使用されつつある。
種の光導電性材料が用いられてきだが、最近では電気的
特性及び機械的強度が優れたアモルファスシリコンが広
く使用されつつある。
かかる感光体には長期間安定した画像が得られることが
要求されるが、アモルファスシリコンは硬度及び強度が
比較的高いとはいうものの使用中に損傷したり摩耗する
ことがあり、また帯電過程でのコロナ放電に繰返しさら
されることにより変質しやすく、このた′めアモルファ
スシリコン感光層の光感度、受容電位、暗減衰、残留電
位などの電気的特性が劣化し、印字品位が低下して寿命
が短いという欠点があった。
要求されるが、アモルファスシリコンは硬度及び強度が
比較的高いとはいうものの使用中に損傷したり摩耗する
ことがあり、また帯電過程でのコロナ放電に繰返しさら
されることにより変質しやすく、このた′めアモルファ
スシリコン感光層の光感度、受容電位、暗減衰、残留電
位などの電気的特性が劣化し、印字品位が低下して寿命
が短いという欠点があった。
この欠点を解決する手段として、例えば特開昭57−1
14146号公報には、アモルファスシリコン感光体の
表面を炭素よシなるダイヤモンド状の保護膜で覆うこと
が開示されている。
14146号公報には、アモルファスシリコン感光体の
表面を炭素よシなるダイヤモンド状の保護膜で覆うこと
が開示されている。
しかし、ダイヤモンド状保護膜によシアモルファスシリ
コン感光層の損傷や摩耗は減少し、耐コロナ放電性も改
善されるが、それでも依然として電気的特性が劣化しや
すい欠点があシ、感光体として十分な信頼性を得るに至
っていない。又、ダイヤモンド状保護膜を具えた感光体
は、この保護膜のない感光体よりも、初期の電気的特性
が低下することも判明している。これらの原因は必ずし
も明白ではないが、ダイヤモンド状保護膜の固有抵抗が
十分に大きくないためと考えられる。
コン感光層の損傷や摩耗は減少し、耐コロナ放電性も改
善されるが、それでも依然として電気的特性が劣化しや
すい欠点があシ、感光体として十分な信頼性を得るに至
っていない。又、ダイヤモンド状保護膜を具えた感光体
は、この保護膜のない感光体よりも、初期の電気的特性
が低下することも判明している。これらの原因は必ずし
も明白ではないが、ダイヤモンド状保護膜の固有抵抗が
十分に大きくないためと考えられる。
本発明は、かかる従来の事情に鑑み、アモルファスシリ
コン感光層を具えた感光体であって、初期特性に優れて
いると共に、特性の劣化が少なく長期間安定して使用で
きる信頼性の高い電子写真感光体を提供することを目的
とする。
コン感光層を具えた感光体であって、初期特性に優れて
いると共に、特性の劣化が少なく長期間安定して使用で
きる信頼性の高い電子写真感光体を提供することを目的
とする。
本発明の電子写真感光体は、導電性基体上に形成したア
モルファスシリコンの感光層を有する電子写真感光体に
おいて、該感光体の表面上に周期律表の第1族及び第V
族の両方の元素を含有させて真性化したダイヤモンド状
炭素膜を有することを特徴とする。
モルファスシリコンの感光層を有する電子写真感光体に
おいて、該感光体の表面上に周期律表の第1族及び第V
族の両方の元素を含有させて真性化したダイヤモンド状
炭素膜を有することを特徴とする。
導電性基体は、AQ 、 Cr 、 Ni 、 Mo
、 Nb 、 Ta及びステンレス等の従来から使用さ
れている金属又は合金であってよく、その形状や厚さは
使用目的により適宜選択される。また、ポリエステル、
ポリエチレン、ポリカーがネイト、Iり塩化ビニル等の
電気絶縁性高分子物質、若しくはガラス、セラミックス
、紙等の絶縁性支持体の表面に導電層を形成したものを
導電性基体とすることもできる。
、 Nb 、 Ta及びステンレス等の従来から使用さ
れている金属又は合金であってよく、その形状や厚さは
使用目的により適宜選択される。また、ポリエステル、
ポリエチレン、ポリカーがネイト、Iり塩化ビニル等の
電気絶縁性高分子物質、若しくはガラス、セラミックス
、紙等の絶縁性支持体の表面に導電層を形成したものを
導電性基体とすることもできる。
この場合、導電層は上記導電性基体と同様の金属又は合
金、ないしはIn2O3や5n02等の薄膜であり、真
空蒸着、ス・ぐツタリング、イオンシレーティング、ラ
ミネーテイング等の通常の方法で形成する。
金、ないしはIn2O3や5n02等の薄膜であり、真
空蒸着、ス・ぐツタリング、イオンシレーティング、ラ
ミネーテイング等の通常の方法で形成する。
感光層は本質的にアモルファスシリコン(a−8i)か
らなるものであればよく、製造方法によシ水素及び/ま
たはフッ素が含まれても、更に電気的又は光学的特性を
変えるためにrルマニウム又はホウ素等をドープしてい
てもよい。
らなるものであればよく、製造方法によシ水素及び/ま
たはフッ素が含まれても、更に電気的又は光学的特性を
変えるためにrルマニウム又はホウ素等をドープしてい
てもよい。
ダイヤモンド状炭素膜は別名i・カーがンとも呼ばれ、
その電気的、機械的、光学的及び化学的性質が通常の炭
素膜とは異なりダイヤモンドに近いものである。かかる
ダイヤモンド状炭素膜はプラズマCVD法、スノぞツタ
リング法、イオンビームデポジション法、レーザー蒸着
法等によシ形成でき、その特性は成膜条件にも依存する
が、従来のものは固有抵抗が108Ωα程度、光学的・
々ンドギャップが2eV程度、及びビッカース硬度が1
500以上であって、N型又はP型半導体にやや近い挙
動を示す。一方、本発明のダイヤモンド状炭素膜は硼素
等の第1族及びリン等の第V族の元素を含有させること
によりフェルミエネルギーがノ々ンドギャップの中央付
近にくるか又は暗抵抗が極大若しくは極大付近になるま
で真性化させてあシ、従って固有抵抗がほぼ1090−
以上と大きくなっている。
その電気的、機械的、光学的及び化学的性質が通常の炭
素膜とは異なりダイヤモンドに近いものである。かかる
ダイヤモンド状炭素膜はプラズマCVD法、スノぞツタ
リング法、イオンビームデポジション法、レーザー蒸着
法等によシ形成でき、その特性は成膜条件にも依存する
が、従来のものは固有抵抗が108Ωα程度、光学的・
々ンドギャップが2eV程度、及びビッカース硬度が1
500以上であって、N型又はP型半導体にやや近い挙
動を示す。一方、本発明のダイヤモンド状炭素膜は硼素
等の第1族及びリン等の第V族の元素を含有させること
によりフェルミエネルギーがノ々ンドギャップの中央付
近にくるか又は暗抵抗が極大若しくは極大付近になるま
で真性化させてあシ、従って固有抵抗がほぼ1090−
以上と大きくなっている。
又、アモルファスシリコ/感光層と導電性基体との間に
、キャリヤ注入防止層として窒素や炭素を含むアモルフ
ァスシリコンの層を設けることが好ましい。かかるアモ
ルファスシリコンはa−8iNH又はa−8iCHで表
わされ、窒素又は炭素の添加量は0.7≦(C又はN)
/Si≦165となる範囲が好ましい。更に、ダイヤモ
ンド状炭素膜はアモルファスシリコン感光層の表面上に
直接形成する必要はなく、感光層とダイヤモンド状炭素
膜の間に、中間層としてケイ素原子と炭素原子及び/又
は窒素原子とからなるアモルファスの層を設けることが
望ましい。この中間層はアモルファスシリコン感光層と
ダイヤモンド状炭素膜との中間的な組成及び性質を具え
ており、光学的・々ンドギャツプ(Eg)は2.0〜3
.OeVであることが好ましく、また膜厚は0.03〜
0.5μmであることが好ましい。
、キャリヤ注入防止層として窒素や炭素を含むアモルフ
ァスシリコンの層を設けることが好ましい。かかるアモ
ルファスシリコンはa−8iNH又はa−8iCHで表
わされ、窒素又は炭素の添加量は0.7≦(C又はN)
/Si≦165となる範囲が好ましい。更に、ダイヤモ
ンド状炭素膜はアモルファスシリコン感光層の表面上に
直接形成する必要はなく、感光層とダイヤモンド状炭素
膜の間に、中間層としてケイ素原子と炭素原子及び/又
は窒素原子とからなるアモルファスの層を設けることが
望ましい。この中間層はアモルファスシリコン感光層と
ダイヤモンド状炭素膜との中間的な組成及び性質を具え
ており、光学的・々ンドギャツプ(Eg)は2.0〜3
.OeVであることが好ましく、また膜厚は0.03〜
0.5μmであることが好ましい。
尚、アモルファスシリコン感光層、キャリヤ注入防止層
及び中間層は、プラズマCVD法、光CVD法、スノぞ
ツタリング法、イオンブレーティング法などの常法に従
って形成できる。
及び中間層は、プラズマCVD法、光CVD法、スノぞ
ツタリング法、イオンブレーティング法などの常法に従
って形成できる。
本発明の電子写真感光体においては、アモルファスシリ
コン感光体の表面上に形成するダイヤモンド状炭素膜が
、第1族及び第V族の両方の元素の同時添加により真性
化されているので、固有抵抗が大きくなっている。その
結果、感光体表面の電荷保持機能が大きくなり、初期特
性が改善されると共に、長期間使用しても光感度、受容
電位、暗減衰、残留電位などの特性が劣化することがな
い。かかる作用を果たすダイヤモンド状炭素膜の固有抵
抗は109Ωの以上であることが好ましく、これよシ小
さければ特性が低下して画像流れ現象が発生しやすい。
コン感光体の表面上に形成するダイヤモンド状炭素膜が
、第1族及び第V族の両方の元素の同時添加により真性
化されているので、固有抵抗が大きくなっている。その
結果、感光体表面の電荷保持機能が大きくなり、初期特
性が改善されると共に、長期間使用しても光感度、受容
電位、暗減衰、残留電位などの特性が劣化することがな
い。かかる作用を果たすダイヤモンド状炭素膜の固有抵
抗は109Ωの以上であることが好ましく、これよシ小
さければ特性が低下して画像流れ現象が発生しやすい。
第1族及び第V族元素は、いずれか片方のみを添加して
もダイヤモンド状炭素膜を真性化できるが、両方を同時
に含有させた方が感光体の特性改善が顕著である。これ
らの元素の添加量はダイヤモンド状炭素膜の性質にもよ
るが、通常は膜中の濃度として第1族及び第V族元素が
夫々0.1〜1105ppの範囲が好ましい。この下限
未満では特性の改善効果がみられず、上限をこえれば欠
陥の状態密度を増加させ良好な特性が得られなくなる。
もダイヤモンド状炭素膜を真性化できるが、両方を同時
に含有させた方が感光体の特性改善が顕著である。これ
らの元素の添加量はダイヤモンド状炭素膜の性質にもよ
るが、通常は膜中の濃度として第1族及び第V族元素が
夫々0.1〜1105ppの範囲が好ましい。この下限
未満では特性の改善効果がみられず、上限をこえれば欠
陥の状態密度を増加させ良好な特性が得られなくなる。
又、第1族のなかで硼素を、及び第V族のなかでリンを
同時に用いた場合に特に著しい特性の改善が得られる。
同時に用いた場合に特に著しい特性の改善が得られる。
かかる作用を果たすダイヤモンド状炭素膜の光学的・々
ンドギャップ(Eg)は2.0〜5. Oe Vが好ま
しく、2.OeV未満では長波長光の吸収が多くなるた
め感度が低下し、5.OeVをこえると物理的特性が感
光層等と異なるため剥離しやすくなるからである。又、
ダイヤモンド状炭素膜は保護層であるから、0.05〜
1.0μmの膜厚があれば十分であり、0.05μm未
満では機械的強度が十分ではなく、逆に1,0μmを超
えると入射光の吸収が大きくなり感度の低下を招く。
ンドギャップ(Eg)は2.0〜5. Oe Vが好ま
しく、2.OeV未満では長波長光の吸収が多くなるた
め感度が低下し、5.OeVをこえると物理的特性が感
光層等と異なるため剥離しやすくなるからである。又、
ダイヤモンド状炭素膜は保護層であるから、0.05〜
1.0μmの膜厚があれば十分であり、0.05μm未
満では機械的強度が十分ではなく、逆に1,0μmを超
えると入射光の吸収が大きくなり感度の低下を招く。
本発明の電子写真感光体を、図面に示す一具体例によシ
以下に詳しく説明する。
以下に詳しく説明する。
図面に示す構成の感光体を、アルミニウムの導電性基体
1上に各層をプラズマCVD法により連続的に形成して
製造した。尚、各層の形成において、基板温度は220
Cとし、RF周波数は13.56MHzとした。
1上に各層をプラズマCVD法により連続的に形成して
製造した。尚、各層の形成において、基板温度は220
Cとし、RF周波数は13.56MHzとした。
まず、導電性基体1上にキャリヤ注入防止層2として、
SiH4(Zoo sccm)とNH3(200sec
m )を圧力0.2 Torr及びRF電力100Wで
グロー放電分解するプラズマCVD法によシ、膜厚0.
15μmのa−8iNHを形成し、その上にSiH4(
150secm )を圧力O115Torr及びRF電
力200Wでグロー放電分解するプラズマCVD法によ
シ膜厚15μmのa−81感光層3を形成した。更に、
a−8i悪感光3上にSiH4(100secm )と
C2H4(Zoo sccm )を圧力0.2Torr
及びRF電力100Wでグロー放電分解するプラズマC
VD法により膜厚0.2μmで光学的ノ々ンドギャップ
が2,5eVのa−8i−C中間層4を形成した。
SiH4(Zoo sccm)とNH3(200sec
m )を圧力0.2 Torr及びRF電力100Wで
グロー放電分解するプラズマCVD法によシ、膜厚0.
15μmのa−8iNHを形成し、その上にSiH4(
150secm )を圧力O115Torr及びRF電
力200Wでグロー放電分解するプラズマCVD法によ
シ膜厚15μmのa−81感光層3を形成した。更に、
a−8i悪感光3上にSiH4(100secm )と
C2H4(Zoo sccm )を圧力0.2Torr
及びRF電力100Wでグロー放電分解するプラズマC
VD法により膜厚0.2μmで光学的ノ々ンドギャップ
が2,5eVのa−8i−C中間層4を形成した。
最後に、最外層としてダイヤモンド状炭素膜5をCH4
(20secm )及びB2H6(500ppm 、
Hヘー ス、5 secm )及びPH3(500pp
m 、 82ベース、3 secm )を圧力0.IT
orr及びRF電力500Wでグロー放電分解するプラ
ズマCVD法により膜厚0.2μmに形成した。このダ
イヤモンド状炭素膜5には膜中濃度で硼素0.6ppm
及びリン0.1 ppmが含有され、固有抵抗は6X1
09Ω副で、光学的・々ンドギャップは3,5eVであ
った。
(20secm )及びB2H6(500ppm 、
Hヘー ス、5 secm )及びPH3(500pp
m 、 82ベース、3 secm )を圧力0.IT
orr及びRF電力500Wでグロー放電分解するプラ
ズマCVD法により膜厚0.2μmに形成した。このダ
イヤモンド状炭素膜5には膜中濃度で硼素0.6ppm
及びリン0.1 ppmが含有され、固有抵抗は6X1
09Ω副で、光学的・々ンドギャップは3,5eVであ
った。
得られた本発明の感光体と、第1族及び第V族元素をま
ったく添加しない通常のダイヤモンド状炭素膜を有する
従来の感光体を用いて、複写耐久試験を実施した。その
結果、本発明の感光体は初期画像のコントラストが従来
の感光体よりも優れているうえ、従来の感光体は50万
回の複写で画像のコントラストが悪化し鮮明度も低下し
たが、本発明の感光体では190万回の複写の後でも鮮
明な画像が得られ、また複写が可能であった。
ったく添加しない通常のダイヤモンド状炭素膜を有する
従来の感光体を用いて、複写耐久試験を実施した。その
結果、本発明の感光体は初期画像のコントラストが従来
の感光体よりも優れているうえ、従来の感光体は50万
回の複写で画像のコントラストが悪化し鮮明度も低下し
たが、本発明の感光体では190万回の複写の後でも鮮
明な画像が得られ、また複写が可能であった。
又、硼素以外の第■族元素及びリン以外の第V族元素を
添加し真性化させたダイヤモンド状炭素膜を有する感光
体についても同様の複写耐久試験を実施したところ、約
150万回の複写で大きな問題とならない程度ではある
が、画像流れ現象がみられた。
添加し真性化させたダイヤモンド状炭素膜を有する感光
体についても同様の複写耐久試験を実施したところ、約
150万回の複写で大きな問題とならない程度ではある
が、画像流れ現象がみられた。
本発明によれば、アモルファスシリコン感光体の表面上
に形成するダイヤモンド状炭素膜に周期律表の第■族及
び第V族の両方の元素を添加して真性化するので、その
固有抵抗が大きくできる結果、初期特性に優れ、長期間
使用しても特性が劣化せず、信頼性の高い電子写真感光
体を提供することができる。
に形成するダイヤモンド状炭素膜に周期律表の第■族及
び第V族の両方の元素を添加して真性化するので、その
固有抵抗が大きくできる結果、初期特性に優れ、長期間
使用しても特性が劣化せず、信頼性の高い電子写真感光
体を提供することができる。
図面は本発明の電子写真感光体の、−具体例の概略断面
図である。 1・・・導電性基体、2・・・キャリヤ注入防止層、3
・・・感光層、4・・・中間層、5・・・ダイヤモンド
状炭素膜。
図である。 1・・・導電性基体、2・・・キャリヤ注入防止層、3
・・・感光層、4・・・中間層、5・・・ダイヤモンド
状炭素膜。
Claims (4)
- (1)導電性基体上に形成したアモルファスシリコンの
感光層を有する電子写真感光体において、該感光体の表
面上に周期律表の第III族及び第V族の両方の元素を含
有させて真性化したダイヤモンド状炭素膜を有すること
を特徴とする電子写真感光体。 - (2)周期律表の第III族元素が硼素であることを特徴
とする、特許請求の範囲(1)項に記載の電子写真感光
体。 - (3)周期律表の第V族がリンであることを特徴とする
、特許請求の範囲(1)項に記載の電子写真感光体。 - (4)ダイヤモンド状炭素膜の固有抵抗が10^9Ωc
m以上であることを特徴とする、特許請求の範囲(1)
項に記載の電子写真感光体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3757087A JPS63205662A (ja) | 1987-02-20 | 1987-02-20 | 電子写真感光体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3757087A JPS63205662A (ja) | 1987-02-20 | 1987-02-20 | 電子写真感光体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63205662A true JPS63205662A (ja) | 1988-08-25 |
Family
ID=12501184
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3757087A Pending JPS63205662A (ja) | 1987-02-20 | 1987-02-20 | 電子写真感光体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63205662A (ja) |
-
1987
- 1987-02-20 JP JP3757087A patent/JPS63205662A/ja active Pending
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP0219982B1 (en) | Overcoated amorphous silicon imaging members | |
US4760005A (en) | Amorphous silicon imaging members with barrier layers | |
EP0217623B1 (en) | Overcoated amorphous silicon imaging members | |
US5262262A (en) | Electrophotographic photoreceptor having conductive layer and amorphous carbon overlayer | |
JPS6061761A (ja) | 電子写真用感光体 | |
US4932859A (en) | Electrophotographic photoreceptor having doped and/or bilayer amorphous silicon photosensitive layer | |
JPH0711706B2 (ja) | 電子写真感光体 | |
JPH0572783A (ja) | 電子写真感光体 | |
JP3279926B2 (ja) | 電子写真感光体および画像形成装置 | |
JPH06250425A (ja) | 電子写真感光体 | |
JPS61159657A (ja) | 感光体 | |
JPH07120953A (ja) | 電子写真感光体およびそれを用いた画像形成方法 | |
JPS63205662A (ja) | 電子写真感光体 | |
JPS63205661A (ja) | 電子写真感光体 | |
JPS6125154A (ja) | 電子写真感光体 | |
JPS63143559A (ja) | 電子写真感光体 | |
JP2887830B2 (ja) | 電子写真感光体および電子写真方法 | |
JPS63205663A (ja) | 電子写真感光体 | |
JP2887828B2 (ja) | 電子写真感光体と電子写真法 | |
JPS61183661A (ja) | 感光体 | |
US5462827A (en) | Electrophotographic photoreceptor and electrophotographic process | |
JPS63284558A (ja) | 電子写真感光体 | |
JPH03288861A (ja) | 電子写真用感光体 | |
JPS628161A (ja) | 感光体 | |
JPH01277243A (ja) | 感光体 |