JPS63201152A - シクロヘキサンジオン及びその製造方法並びに該化合物を含有する農薬組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、除草及び植物生長調節作用を有する新規表シ
クロヘキナンジオン、上記フクロヘキサンジオンを含有
する農薬組成物、望ましくない植物の生長を防除するた
めの及び植物の生長を調節するためのそれらの使用方法
並びに本発明による化合物の製造方法に関する。更に本
発明は、新規な中ｌ４体並びにその製造方法にも関する
。

除草作用を有する多数の２．５−ジ置換ンクロヘキサン
ー１．５−ジオンは公知である。これらの化合物は作用
の強さ、作用期間、施用選択性及び施用範囲に関して必
らずしも満足なものではなかった。それに対して驚くべ
きことに一般式１で表わされる新規な２．５−ジ置換シ
クロヘキサン−１，５−ジオンは良好な除草及び種物調
節作用を有しているという仁とを見い出した。

本発明は、次式１： 〔式中、 几は水素原子もしくは炭素原子数１ないし６のアルキル
基を表わし、 ＡはＲ，、ＯＲｓもしくはＮＢｓＬｔ表わし、Ｒ意は未
置換または炭素原子数１な−し４のアルコキン基によっ
て一置換された炭素原子ｉ！ｌないし６のアルキル基、
またはハロゲン原子によって一置換もしくは多置換され
た炭素原子数１ないし６のアルキル基、または炭素原子
数３ないしるのシクロアルキル基を表わし、Ｒｓは炭素
原子数１ないし６のアルキル基、炭素原子数５ないし６
の７クロアルキル基、マタは未置換もしく唸ｉ個までの
ＲＩＫよって一置換、二置換または三置換されたフェニ
ル基もしくはベンジル基を表わし、 Ｂ４は水素原子、炭素原子ａ１ないし６のアルキル基、
炭素原子数１ないし４のアルコキシ基もしくは炭素原子
ｉａ３ないしるのシクロアルキル基を表わし、 ［Ｋ　Ｒ，及びＢ４はそれらが結合している窒素原子と
一緒和なってピロリジン基、モルホリン基もしくはピペ
リジン基を表わし、 ”Ｂは次式： （式中、 ｍは０，１．２もしくは３ｔ−表わし、馬はハロゲン原
子、ニトロ基、シアノ基、炭素原子数１ないし４のアル
キル基、炭素原子数１ないし４のアルコキシ基、炭素原
子数１なｈし４のアルキルチオ基、炭素原子数１ないし
４のハロアルキル基、炭素原子数１ないし４のアルキル
スルフィニル基もしくは炭素原子ｌ！ｌないし４のアル
キルスルホニル基を表わし、几６は炭素原子数１ないし
６のアルキル基もしくは炭素原子数３ないし６の７クロ
アルキル基を表わし、 Ｒ７＃ｉ水素原子、炭素原子数１なＩ、ｑし６のアルキ
ル基、炭素原子数１ないし６のハロアルキル基、炭；ｌ
ｃ原子数３ないし６のアルケニル基、炭ｘｉ子ｃｘｓな
いし６のハロアルケニル基もしくは炭素原子数３ないし
６のアルキニル基を表わす。）で表わされる基のうちの
ひとつを表わす、〕で表わされる新規なシクロヘキサン
−１，３−ジオン並びに酸、塩基もしくは錯体形成体と
式■で表わされる化合物の塩に関する。

ここで指示した発明の範囲内で一般■の定義は、例えば
以下に記載した個々の置換基を包含するが、この記載は
本発明を制限するものではない。

アルキル基とは直鎖もしくは枝分れ鎖炭素原子数１ない
し６のアルキル基を包含し、例えばメチル基、エチル基
、ｎ−プロピル基、イングロビルｓ、ｎ−ブチル基、イ
ンブチル基、第三ブチル基並びにペンチル基及びヘキフ
ル基の異性体である。

ハロゲン原子とはフッ素原子、塩素原子、臭素及びコク
Ｘ：原子を表わし、特にフッ素原子及び塩素原子である
。

炭素原子数１ないし４のアルコキシ基とはメトキシ基、
エトキシ基、ｎ−プロピルオキ°シ基、イノプロピルオ
キン基及びメトキシ基の異性体である。メトキシ基及び
エトキシ基が好ましい。

炭素原子数１ないし４のアルコキシ−炭素原子数１ない
し４のアルキル基は上記の範囲内のアルコキシ基及びア
ルキル基から誘導しうるアルコキ７アルキル基の異性体
を包含する。エトキシメチル基、エトキシメチル基、２
−エトキシメチル基、１−メトキシエチル基もしくは２
−エトキシメチル基のような炭素原子数１もしくは２の
アルコキシ−炭素原子数１もしくは２のアルキル基が好
ましか。

ハロアルキル基とはそれぞれの場合に定義した範囲内で
同一もしくは異なったハロゲン原子によって完全にまた
は部分的に置換されているアルキル基として理解された
い。；例えばトリフルオロメチル基、トリクロロメチル
基、クロロメチル基、ジクロロメチル基、２，２．２−
トリフルオロエチル基等である。

炭素原子数３ないし６のアルケニル基、炭素原子数５な
いし６のハロアルケニル基及び炭素原子数５ないし６の
アルキニル基は飽和炭素原子によってオキシム基の酸素
原子く結合している。アリル基及びプロパギル基並びに
５−クロロプロペ−２−エン−１−イル＆カ好１Ｌ、イ
。

炭素原子数３な１ｍｌ、６のシクロアルキル基とはシク
ロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチルＮ及び
シクロヘキシル基である。トシわけシクロプロピル基及
びシクロヘキシル基である。

Ｒ，のように置換基が多数表わされるとき、その意味は
その置換基に指定された基から自由に選択しうる。

他の置換基の定義の範囲を遵守する一方、それらの構造
に関して式１で表わされる化合物は以下に示したものと
して理解される。

ａ）　　シクロヘキシル　フェニル　ケトン（式中Ｂ　
ニーｃ−ａ、及びＲ，＝Ｃ１−Ｃ，−アルキル、ｉ）、
Ｃ）　　シクロヘキシル　シクロアルキル　ケトンｎ ｃ式中　Ｂ　＝−Ｃ−ｋＬ６及びＲ，＝　ｃ、−ｃ、−
シフ。

アルキル基）、 ｅ）尿素（式中Ａ　＝　ＮＲ，Ｒ４）、ｆ）ウレタン（
式中Ａ：ＯＲ，）またはｇ）カルバはド（式中Ａ　＝：
　Ｒ１）特に次式［： （式中、 Ｒが水素原子もしくは炭素原子数１ないし４のアルキル
基を表わし、 人が几ト０凡１もしく　ｕ　ＮＲ３Ｒ４ｋ表わし、几、
が７クロプロビル基、７クロベンチル基、シクロヘキシ
ル基、未置換または炭素原子ｌｆ１ないし４のアルコキ
シ基またはハロゲン原子によって一置換もしくは多置換
された炭素原子数１ないし４のアルコキシ基を表わし、 Ｒ３が炭素原子数１ないし４のアルキル基、シクロプロ
ピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、未置換
または島によって一置換もしくは二置換されたフェニル
基もしくはベンジル基を表わし、 Ｒ４が水素原子、炭素原子数１ないし４のアルキル基、
メトキシ基、シクロプロプル基、シクロヘンチル基もし
くはシクロヘキシル基ｔ−ａワし、 更に几３及びＲ４がそれらと結合′している窒素原子と
一緒になってピロリシフ基、モルホリン基もしくはピペ
リジ７基を表わし、 Ｂは次式： （式中、 ｍが０．１もしくは２を表わし、 Ｒｓがフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ニトロ基、シ
アノ基、炭素原子数１ないし４のアルキル基、炭素原子
数１ないし４のアルコキシ基、炭素原子数１ないし４の
アルキルチオ基、トリフルオロメチル基、炭素原子数１
ないし４のアルキルスルフィニル基もしくは炭素原子数
１１にいし４のアルキルスルホニル基を表わし、Ｒ６が
炭素原子数１ないし４のアルキル基、シクロプロピル基
、シクロペンチル基もしくはシクロヘキシル基を表わし
、並びに Ｒ，が水素原子、炭素原子数１ないし４のアルキル基、
炭素原子ｌ５Ｃ１ないし４のノ〜ロアルキル基、炭素原
子数３もしくは４のアルケニル基、炭素原子数３もしく
は４のハロアルケニル基または炭素原子数６もしくは４
０アルキニル基を表わす。）で表わされる基うちのひと
つを表わす化合物である。

好ましい化合物は、次式［： （式中、 Ｒが水素原子もしくは炭素原子数１ないし３のアルキル
基を表わし、 ＡがＢ２．０几３もしくはＮＲ，几４を表わし、Ｒ，が
炭素原子数１ないし４のアルキル基、メトキシメチル基
もしくはトリフルオロメチル基を表わし、 Ｂ３が炭素原子数１ないし４のアルキル基、シクロプロ
ピル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、または未置換
または塩素原子、メトキシ基もしくはメチル基によって
置換されたフェニル基を表わし、 Ｒ４が水素原子、メチル基、メトキシ基もしくはエチル
基を表わし、 Ｒ，及びＲ４がそれらが詰合している窒素原子と−緒に
なってピロリジン基もしくはピペリジ７基を表わし、 Ｂは次式： （式中、 ｍが０．１もしくは２を表わし、 几Ｓがフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ニトロ基、メ
チル基、メトキシ基もしくはトリフルオロメチル基を表
わし、 几６が炭素原子数１ないし６のアルキル基、シクロプロ
ピル基もしくはシクロプロピル基を表わし、並びに Ｒ，がメチル基、エチル基、アリル基、プロパギル基モ
ジくは５−クロロ−プロペ−２−工ン−１−イル基を表
わす。）で表わされる基のうちのひとつを表わす化合物
である。

特に好ましい化合物は次式Ｉ： （式中、 凡が水素原子もしくは炭素原子数１ないし３のアルキル
基を表わし、 Ａが几、　、　ＯＲｓもしくはＮ几３８４を表わし、Ｒ
３がメトキシメチル基もしくは炭素原子数１ないし４の
アルキル基を表わし、 Ｒ３が炭素原子数１ないし４のアルキル基、または未置
換または塩素原子もしくはメチル基によって置換された
フェニル基を表わし、Ｒ４が水素原子もしくはメチル基
を表わし、Ｒ３及びＲ４がそれらが結合している窒素原
子と一緒になってピロリジン基を形成し、Ｂが次式： Ｃ式中、 ｍが０．１もしくは２１に表わし、 Ｒ，が塩素原子、ニトロ基、トリフルオロメチル基、メ
チルチオ基、メチルスルフィニル基もしくはメチルスル
ホニル基を表わし、 Ｒ６が炭素原子数１ないし５のアルキル基もしくはンク
ロプロビル基金表わし、並びに凡γがメチル基、アリル
基、エチル基もしくは５−クロロ−プロペ−２−二ンー
１−イル基ヲ表わす。）で表わされる基のうちのひとつ
を表わす化合物である。

それらの除草及び植物調節作用の点で以下の化合物をそ
れぞれ挙げるべきである。

２−ブタノイル−５−エトキシカルボニルアミノンクロ
ヘキチン−１，３−ジオン、２−プロパノイル−５−（
Ｎ’、Ｎ’−ジメチルウレイド）−７クロヘキサンー１
．５−ジオン、２−ブタノイル−５−（Ｎ’、Ｎ’−ジ
メチルウレイド）−７クロヘキサンー１．ｓ−ジオン、
５−アセトアミド−２−プロパノイル−シクロヘキサン
−１，３−ジオン、 ２−（２，４−ジクロロベンゾイル）−５−エトキシカ
ルボニルアミノ−７クロヘキサンー１．３−ジオン、 ２−（２，４−ジクロロベンゾイル）−５−（Ｎ′−イ
ングロビルウレイド）−７クロヘキサンー１．３−ジオ
ン、 ２−（２，４−ジクロロベンゾイル）−５−（Ｎ’、　
Ｎ’−ジメチルウレイド）−シクロヘ−？サンー１．５
−ジオン、 ５−　（Ｎ’−第三ブチルウレイド）　−２−（１−ア
リルオキシイミノブチル）−７クロヘキサンー１．５−
ジオン ５−（Ｎ’、Ｎ’−ジメチルウレイド）　−２−（１エ
トキシイミノプロビル）−シクロヘキサン−１，５−ジ
オン、 ５−（Ｎ’−７エニルウレイド）−２−（１−エトキシ
イミノブチル）−７クロヘキサンー１゜５−ジオン、 ５−　（Ｎ’−フェニルフレイド）−２−（１−（３−
クロロアリル）オキシイミノブチル〕−シクロヘキサン
−１，３−ジオン、 ５−　（Ｎ’−フェニルウレイド）−２−（１−エトキ
シイミノエチル）−７クロヘキサンー１゜３−ジオン、 ５−　（Ｎ’−フェニルウレイド）−２−（１−メトキ
シイミノブチル）−７クロヘキサンー１゜５−ジオン、 ５−　（Ｎ’−（２−メチルフェニル）−ウレイド）−
２−（１−エトキンイミノブチル）−７クロヘキ丈ンー
１．３−ジオンもしくは５−　（Ｎ’−（３−クロロフ
ェニル）−ルイド）−２−（１−エトキンイミノブチル
）−７クロヘキサンー１．３−ジオン。

式■で表わされるシクロヘキサンジオンは以式１で表わ
されるジケトンは比較的弱い塩基とでさえ塩を形成する
。そ仁から得られる塩において式Ｉで表わされる化合物
はアニオン部分を形成する。適当なカチオンは、アルカ
リ土類金属、アルカリ金属及びアンモニウムイオンであ
る。未置換アンモニウムイオンとは別に、アンモニウム
イオンは種々の七ノー、ジー、トリー及びテトラアルキ
ルアンモニウムイオンであると理解すべきである。適当
な垣の形成＃ｉ特ｆ式■の化合物の水溶解性、概して産
物学的有用性並びに作用範囲に影＃を与える。

弐■で表わされる化合物は以下のようにして製造するこ
とができる。

ａ）式璽で表わされるシクロヘキサンジオ／と弐■で表
わされる化合物を反応させて弐■で表わされる化合物を
形成し、その後塩基の存在下で該化合物を熱的に転位さ
せて式！で表わされる化合物を形成する （式中、Ａ、Ｂ及び几は上記で定義した意味で表わされ
るオキシムエーテル基を表わさない。

そしてＹは反応条件下で除去することのできる塩素原子
、臭素原子もしくは炭素原子数１ないし４のアルコキシ
基のような脱離求核基を表わす、）か、 ｂ）式１で表わされるシクロヘキサンジオンと式！で表
わされる化合物を塩基及びＺｎＣ４５の存在下で反応さ
せて弐■で表わされる化合物を形成する （式中、 は Ｃ）弐１ａで表わされるシクロヘキシルケトンと弐■で
表わされるヒドロキシルアミンを反応すせて式Ｉｂで表
わされるオキシムを形成する（式中、 Ａ　、　Ｒ、Ｒ，及びＲ，は上記で定義した意味を表わ
す。）ことよりなる。

中間体として使用される弐Ｉ及び■で表わされるシクロ
ヘキサンもまた新規である。それは式■で表わされる化
合物の製造のための重要な反応体である。

それ故更に本発明は次式に＝ 几 （式中、 八及び几は式■で定義した意味を表わす、）で表わされ
る新規なシクロヘキサノン及び次式： （式中、 るオキシムエーテルを表わさない。）で表わされる新規
なシクロヘキサノンに関スる。

弐■で表わされる化合物は以下のようにして製造するこ
とができる。

ａ）式Ｖで表わされるレゾルシノールを公知の方法に従
い水素化する （式中、 Ａ及び凡は上記で定義した意味を表わす。）か、または ｂ）式■で表わされるイン７アネートと式■もしくは弐
鴇で表わされるアルコールもしくはアミ／をそれぞれ反
応させて式！で表わされるウレタンもしくは尿素を形成
する （ＶＤ　　　　　＠　　　　　　（ロ）Ｃ） （式中、 凡は水素原子上表わし、 ＡはｏｆＬ、ま九はＮＲ，Ｒ４を表わし、並びにＲ３及
び凡、は上記で定義した意味を表わす。）ことよりなる
。

出発化合物としての式Ｖで表わされるレゾルシノールは
、弐匡で表わされるフロログル７ノールと式Ｘで表わさ
れるアミンを反応させることによシ式１で表わされるア
ミルゾルシノールを形成するような公知の方法［Ｊ、　
Ｏｒｇ、Ｃｈｅｍ。

１ｉ（１９７５）、　１５５６：　Ｈｅ１ｖ、　Ｃｈｉ
ｎ、　Ａｃｔａ」工（１９７３）５１０　］　　と同様
にして製造できる。式夏で表わされるアミルゾルシノー
ルから出発して式Ｖで表わされるＮ−アシル化化合物は
、式■と反応させることによシ容易に得られる。

（７）　　　　　（Ｘ）　　　　　　　　　（蜀（式中
、 Ｒ及び人は式！で定義した意味を表わし、Ｙは反応条件
下で除去しうるハロゲン原子、炭素原子数１ないし４の
アルコキシ基もしくはフェノキシ基のような脱離求核基
を表わす、）式璽で表わされるウレタン及び尿素Ｃ式中
、Ａ　ｌｌ１ＯｆＬ、もしくはＮＲ３Ｒ４を表わす。）
は式■で表わされるシクロヘキサンカルボン酸から出発
する合成の別の方法によシ製造できる。

その用途のためにモノエーテルＭｖＣ式中、Ａｌｋは炭
素原子数１ないし４のアルキル基を表わす。）がまず第
一にＸＩから製造され、そしてその後クルチウス法（Ｃ
ｕｒｔｉｕｓ　）に従ってアジＶを経由してイノシアネ
ートＷに変換する。

＠　　　　　　　　　（ロ）　　　　　　　　　　　　
（届）厘 その後化合物Ｗはアルコール■もしくはアミンＮｔ−添
加することによシ式ｘ■から容易に得ることができる。

所望の最終生成物■はエーテルを分解することによシ弐
■から得られる。

弐厘で表わされる新規化合物はへ以下に示すジケトａ（
を形成する互変異性平衡＊　ｄ　Ｉ　’＃　Ｚで存在す
る。

〕 式１で表わされる化合物は適当な施用率で有用な植物の
栽培滝での雑草を防除するための選択的な除草剤として
＄に適当である高活性植物生長調節剤である。すなわち
、該施用率で式Ｉで表わされる化合物は雑草に対する良
好な選択的除草特性によ４７Ｉ＃徴ずけられる。ライ、
大麦、オート麦、上口；シ、トウそロコン、ｉｌ、綿及
び大豆６ような栽培植物は、低施用率で使用したとき実
際上損纒されない、栽培植物の生長は施用率を増加させ
た場合、無視しうる程［（Ｄ影＋＃ヲ受けるだけである
。非常に高い施用率で使用したとき、式！の化合物は完
全な除草特性を示す。

本発明くよる化合物の選択的除草作用は発芽前及び発芽
後の使用の両方に観察される。それ故該化合物は雑草を
選択的に防除するための発芽前方法及び発芽後方法にお
いて非常に有効に使用することができる。

更に式１で表わされる化合物は生長調節特性、特に生長
抑制特性を挙げることができる。単子葉植物及び双子業
植物の両方の生長を抑制する。

従って、例えば式Ｉで表わされる化合物は熱帯地方で間
作物としてしばしば植えられているマメ科の植物の主長
を抑制するので、栽培植物間の土壌浸食を紡ぐ一方、間
作物は栽培植物と競合することができない。

多くの栽培植物の草丈生長を抑制すると、多数の植物を
作地に播種することができ、そのため単位面積当シで得
られる収量が増す。

さらに生長調節剤を使用して収量を増加する仕組みは草
丈生長が抑制されるので、栄養素は花の形成および結実
をよシ大きく促進することができるという事実による。

高比率で施用した場合には、総ての試験植物がその生長
に大きな損傷を受けて枯れた。

本発明はまた式！で表わされる新規化合物を含む除草お
よび生長抑制剤組成物、並びに発芽前および発芽後の雑
草の防除、および単子葉植物および双子葉植物特に牧草
、熱炎間作および煙草植物の吸枝の生成防止の方法にも
また関するものである。

式！の化合物はそのままの形態で、或いは好ましくは製
剤技術で慣用の補助剤と共に組成物として使用され、公
知の方法によシ乳剤原液、直接噴霧可能なまたは希釈可
能な溶液、希釈乳剤、水和剤、水溶剤、粉剤、粒剤、お
よび例えばポリマー物質によるカプセル化剤に製剤化さ
れる。組成物の性質と同様、噴霧、散水または注水のよ
うな適用法は、目的とする対象および使用環境に依存し
て選ばれる。

製剤、即ち式Ｉの化合物および適当な場合には固体また
は液体の補助剤を含む組成物は、公知の方法により、例
えば有効成分ｔ−溶媒、固体担体および適当な場合には
表面活性化合物（界面活性剤）のような増量剤と均一に
混合および／または摩砕することにより、製造される。

適当な溶媒は次のものである：芳香族炭化水素、好まし
くは炭素原子数８なりし１２の部分、例えばキシレン混
合物または置換ナフタレン：ジブチルフタレートマたは
ジオクチルフタレートのようなフタレート；シクロヘキ
サンまたはパラフィンのような脂肪族炭化水素；エタノ
ール、エチレングリコールモノメチルまたはモノエチル
エーテルのようなアルコールおよびグリコール並びにそ
れらのエーテルおよびエステル；シクロヘキサノンのよ
りなケトン；Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ジメチルス
ルホキ７ド筐たはジメチルホルムアミドのような強極性
溶媒；並びにエポキシ化ココナツツ油または大豆油のよ
うなエポキシ化植物油：または水。

例えば粉剤および分散性粉末に使用できる固体担体は通
常、方解石、メルク、カオリン、モンモリロナイトまた
はアタパルジャイトのような天然鉱物充填剤である。物
性を改良するためＫ、高分散ケイ酸または高分散吸収性
ポリマーを加えることも可能である。適当な粒状化吸収
性担体は多孔性型のもので、例えば軽石、破砕レンガ、
セビオライトまたはベントナイトであシ；そして適当な
非吸収性担体は方解石または砂のような物質である。更
に非常く多くの予備粒状化した無機質および有機質の物
質、特にドロマイトまたは粉状化植物残骸、が使用し得
る。

製剤化すべき弐藍の化合物の性質によるが、適当な表面
活性化合物は良好な乳化性、分散性および湿潤性を有す
る非イオン性、カオチン性および／またはアニオン性界
面活性剤である。

”界面活性剤°の用語は界面活性剤の混合物をも含むも
のと理解されたい。

適当なアニオン性界面活性剤は、水溶性石ケンおよび水
溶性合成表面活性化合物の両者であり得る。

適当な石鹸は高級脂肪酸（ＣＩ。〜Ｃｍ）のアルカリ金
属塩、アルカリ土類金属塩、または非置換または置換の
アンモニウム塩、例えばオレイン酸またはステアリン酸
、或いは例えばココナツツ油または獣脂から得られる天
然脂肪酸混合物のナトリウムまたはカリウム塩である。

脂肪酸メチルタウリン塩もまた用い得る。

しかしながら、−わゆる合成界面活性剤、特に脂肪族ス
ルホネート、脂肪族サルフェート、スルホン化ベンズイ
ミダゾール誘導体またはアルキルアリールスルホネート
、が更に頻繁に使用される。

脂肪族スルホネートまたはプルフェートは通常アルカリ
金属塩、アルカリ土類金属塩或いは非置換または置換の
アンモニウム塩の形態にあシ、そしてアシル基のアルキ
ル部分をも含む炭素原子数８ないし２２のアルキル基を
含み、例えばリグノスルホン酸、ドデシルサルフェート
または天然脂肪酸から得られる脂肪族アルコールサルフ
ェートの混合物のナトリウムまたはカルシウム塩である
。これらの化合物には硫酸エステルの塩および脂肪族ア
ルコール／エチレンオキシド付加物のスルホン酸の塩も
含まれる。

スルホン化ベノズイきダゾール縛導体は、好ましくは二
つのスルホン酸基と８にいし２２個の炭素原子を含む一
つの脂訪酸基とを含む。アルキルアリールスルホネート
の例は、ナフタレｌスルホン酸／ホルムアルデヒド縮合
生成物のナトリウム、カルシウムまたはトリエタノール
アミン塩である。対応するホスフェート、例えば４ない
し１４モルのエチレン　オキシド　を含むｐ−ノニルフ
ェノール付別物のリン酸エステルの塩、もまた適当であ
る。

非イオン性界面活性剤は、好ましくは脂肪族または脂環
式アルコール、または飽和または不飽和脂肪酸およびア
ルキルフェノールのポリグリコール　エーテル誘導体で
あり、該誘導体は３ないし５０個のグリコール　エーテ
ル基、（脂肪族）炭化水素部分に８ないし２０個の炭素
原子、そしてアルキルフェノールのアルキル部分に６な
りし１８個の炭素原子を含む。

他の適当な非イオン性界面活性剤は、ポリエチレン　オ
キシドとポリプロピレン　グリコール、エチレンジアミ
ンポリプロピレン　／　ＩＪコールおよびアルキル鎖中
に１ないし１０個の炭素原子を含むアルキルポリプロピ
レン　グリコールとの水溶性付加物であり、その付加物
は２０ないし２５０個のエチレン　グリコール　エーテ
ル基および１０ないし１００個のプロピレングリコール
　エーテル基を含む。これらの化合物は通常プロピレン
　グリコール単位当＃）１な込し５個のエチレングリコ
ール単位を含む。

非イオン性界Ｅ１１ｉｔ８性剤の代表的例は、ノニルフ
ェノール−ポリエトキシエタノール、ヒマン油ポリグリ
コール　エーテル、ポリプロピレン／ポリエチレン　オ
キノド付加物、トリブチルフェノキ７ボリエトキシエタ
ノール、ポリエチレン　グリコールおよびオクチルフェ
ノキ７エトキンエタノールである。ポリオキシエチレン
ソルビタンおよびポリオキシエチレン　ソルビタン　ト
リオレートの脂肪酸エステルもまた適当な非イオン性界
面活性剤である。

カチオン性界面活性剤は、好ましくはＮ−置換基として
少なくとも一つの炭素原子数８ないし２２０アルキル基
と、他の置換基として低級非置換またはハロゲン化アル
キル基、ベンジル基または低級ヒドロキシアルキル基と
を含む第四アンモニウム塩である。該塩は好ましくはハ
四ゲン化物、メチル硫酸塩またはエチル硫酸塩の形態に
あシ、例えばステアリルトリメチルアンモニウム　クロ
リドまたはベンジル　ジー（２−クロロエチル）エチル
アンモニウム　プロミドである。

製剤業界で慣用の界面活性剤は例えば下記の刊行物に記
載されてｂる。： １９８５　インターナン目ナル　マッグ　カッチャンズ
　エフルジフテイアーズ　アフト°　デタージｘｙｙ、
（ＩｎｔｅｒｎａＮｏｎａｌ　Ｍｃ　Ｃｕｔｃｈｅｏｎ
’ｓＥｍｕｌｓｉｆｉｅｒｓ　ａｎｄ　Ｄｅｔｅｒｇｅ
ｎｔｓ　）　、　　グｖン　ａ−ｙり（Ｇｌｅｎ　Ｒｏ
ｃｋ　）　、　　Ｎ、　Ｊ、ＵＳＡ　；”　−、シ＆り
７ヒ：ｃ　（Ｈ，８ｔａｃｈｅ　）　、　”テｙシフド
ータ７７　ｘ　ンプーｙ、　（’ｆ’ｅｎｓｉｄ−Ｔａ
ｓｈｅｎｂｕｃｈ　）　’。

！２［ニジ−、ハンザ−フェルラーク（Ｃ。

Ｈａｎｓｅｒ　Ｖｅｒｌａｇ　）　、　　ミ＆　ンヘｙ
　ｋよびｆ）　４−７゜１９８１年； エム、およびジェー、アツｙ　！　（Ｍ、　ａｎｄ　Ｊ
。

Ａｓｈ）、”工ンナイクロベディア　オプ　サーフ丁り
ｐ　ｙ　：ｙ　（Ｅｎｃｙｃｌｏｐｅｄｉａ　ｏｆ　５
ｕｒｆａｃｔａｎｔｓ　）″。

第１−１巻、ケミカル出版社、二息−ヨーク１９８０〜
１９８１年。

除草剤組成物は通常、式！の化合物α１ないし９５　％
、好ましくはα１ないし８０慢、固体または液体補助剤
１ないし９９．９％、および界面活性剤０ないし２５　
％、好ましくはα１なｈし２５憾を含む。

好ましい製剤としては特に下記の成分よりなるものが挙
げられる（％は重電百分率を示す。）：乳剤原液 有効成分：１０表いし２０％、好ましくは５ないし１０
ＬＩＩ 界面活性剤＝５ないし５０％、好ましくは１０ないし２
０ 液体担体：５０ないし９４％、好まし′くは７０ないし
８５憾 粉　　　剤 有効成分：［Ｌｌないし１０壬、好ましくはα１ないし
１％ 固体担体：　９９．９ないし９０％、好ましくは９９．
９なりし９９％ 通温原液 有効成分：５ないし７５優、好ましくは１０ないし５０
蒼 水　　：９４ないし２５％、好ましくは９０ないし３０
憾 界面活性剤：１ないし４０囁、好ましくは２なりし３０
％ 水利剤 有効成分：ＣＬ５ないし９０％、好ましくは１ないし８
０％ 界面活性剤：１５ないし２０″４、好ましくは１ないし
１５蒼 固体担体：５ないし９０％、好ましくは１５ないし９０
優 粒　　　剤 有効成分：α５ないし３０％、好ましくは３ないし１５
易 固体担体：　９９．５ないし７０％、好ましくは９７な
いし８５影 市販品は好ましくは濃厚物として製剤化されるが、消費
者は通常希釈製剤を使用する。製剤は（ＬＯＯ１％のよ
うな低濃度に希釈することができる。施用比率は通常Ｃ
ＬＯ１ないし４　ｋｇ有効成分（ａ、ｉ、　）／ｈａ　
、好ましくはＱ、Ｏ０５ないし１すａ、ｉ、　／ｈａ　
　である。

この組成物はまた他の成分例えば安定剤、消泡剤、粘度
調節剤、結合剤、粘着付与剤並びに肥料、または特別な
効果のための他の有効成分を含有してもよい。

フｏｃｔグルシノール５００　ｇ　（４ｍｏｌ　）　ｆ
ｔ５０壬アンモニア水溶液４１中に滴下し、その後４０
分かけてＮＨ，ガスを導入する。室温で２４時間攪拌し
た後、得られた透明な褐色の溶液を水流真空下で４５℃
で濃縮する。残留した固体をトルエン及び少量のアセ−
トンと共に粉砕し吸引ろ過し、そして真空中４５℃で乾
燥させる。

次式： で表わされる標記化合物４６４　＃　（９２，８Ｌ）！
融点が１５０℃である結晶形状で単離する。

）１，０，２．５−　（メチルアミノ　−レゾルシノー
ー＆二 ４０蒼メチルアミン溶液１４０ｄをジメチルホルムアミ
ド１５００ａｊ及び水１０００ａＪ中の７０ログルシノ
ール１８９．９（１，５ｍ０１）の溶液に２５℃で滴下
する。その後全体を続けて室温で２０時間攪拌し、次い
で真空中７０℃で該溶液を留去して、そして高真空で乾
燥を実施する。

その後残留物をジエチルエーテルと共に粉砕して乾燥さ
せる。

次式二 で表わされる標記化合物１７５ｇ（８５％）を融点１３
０℃の結晶形状で単離する。

メタノール３１中のシクロヘキサン−５，５−ジオン−
カルボｙ＠　１５６０９　（１０ｍｏｌ　）の溶液に浸
硫ｌ−１！１０ＩＩ７を添加し、更に全体を攪拌しなか
ら２０−２５℃に３時間保つ。　その後ジエチルエーテ
ル５１ｆ添加し、そして沈殿生成物を吸引ろ過する。

次式： で表わされる標記化合物１ｓｏａｇ（ａａｙｌ）を単離
する。

ジオキサ７１０００ｄ中の５−アミルゾルシノール６２
．５Ｉｉ（ｌｌＬ５ｍｏｌ）の溶液にイノグロビルイソ
シアネー）５２％ｇ（（１５５ｍｏｌ）を２０分かけて
滴下し、内部温度は３５℃に上昇する。

全体を室温で５時間攪拌して石油エーテル１０００ａｌ
ｔ−添加すると標記化合物が細かい結晶形状で沈殿する
。

次式： で表わされる標記化合物１６２１（８４％＞　　を融７
点２２１０℃（分解点）である結晶形状で単離する。：
標記化合物の結晶体は２モル当量のジオキサンを含有す
る（化合物番号１．０４）。

尿素 実施例Ｈ６１，１，と同様にすると、５−メチルアミル
ゾル７ノールＡ９．５　ｇ　（［１５ｍｏｌ　）及びイ
ソプロピルイソシアネート５２ｄ（０，５５モル）から
次式： で表わされる標記化合物１１３ｇ（８４多）を融点〉２
５０℃（分解点）である結晶形状で得る。：標記化合物
の結晶体はＣＬ５モル当量のジオキサンを含有する（化
合物番号ｔ０２２）。

Ｈｏｌｊ、　　５°−アセ　　ぐ　°し・ルシノールジ
オキサン１００ｄ中の５−アミルゾルシノール１２．５
ｊｌ　（ａｌｍｏｌ）の溶液に内部温度が５０℃を越え
ないよう和して無水酢酸１１４ｄ（１１１ｍｏｌ　）を
滴下する。続けて全体１に２時間攪拌して次に石油エー
テル２００ｄｔ−添加すると生成物が沈殿する。

で表わされる標記イＬ合物１５４ＩＩ（９１，７％）を
融点ン２００℃（分解点）である結晶形状で単離する（
化合物番号１．０１’１）。

？１１下１ｓ−２ｏ℃でフェニルクロロホルメート４１
０ａｊをジオキサン３Ｉ！中の５−アミルゾルシノール
３７５７７、酢酸ナトリウム２７０７７及びジメチルホ
ルムアミド５０ｊ１１の混合物に滴下する。その後２０
℃で１時間攪拌し、酢酸エチル３１で希釈して塩化ナト
リウム沈殿物からろ過する。溶媒を留去した後、残留物
を石油エーテルから結晶化させる。

次式： で表わされる標記化合物８６８ｇ（８７％）ｔ−融点が
１７６℃（分解点）である結晶形状で単離する（化金物
番号１．０５１）。

エタノール２−５Ｉ中のＮ−（３，５−ジヒドロキシフ
ェニル）カルバミン酸フェニルエステル８４０Ｆの溶液
にエタノール中のジメチルアミン３３％溶液９００１１
１４ｔ−添加する。２０な込し２５℃で１０時間攪拌し
た後、眼溶媒を真空中で留去する。

得られたスラリーをジエチルエーテルで数回浸漬し、そ
の後吸引ろ過する。

次式： で表わされる標記化合物４６９ｇ（９５％）ｔ−融点が
２５０℃である結晶形状で単離する（化合物番号１．０
１４）。

以下に示す表１の化合物を同様の方法で得ることができ
る。

Ｈ０２式…で表わされる化合物の製造 素 ＩＮ水酸化ナトリクム４４０ｄ中のＮ−イングロビルー
Ｎ’−（４５−ジヒドロキシフェニル）尿素（実施例Ｈ
，ＬＬで得た化合物１５４Ｆ）１１ｍｏｌの溶液ｔ−Ｒ
ａ−Ｎｉ　−）１１０３０ｆの存在下で６０−６５℃７
１０パールで１８時間水素化する。触媒ｔろ過した後ｈ
ｃｔでｐＨ１４ｃ酸性化し、５℃に冷却すると生成物が
沈殿する。

生成物を吸引ろ過後水で洗浄し、６０℃／　（Ｌ　１バ
ールで乾燥させる。

で表わされる標記化合物７６ｔ（９０％”）”？：融点
〉１００℃（分解点）である結晶形状で単離する（化合
物番号２．００４）。

Ｌ２１　　Ｎ−イソ１ｃ１ピ＃　−Ｎ’−メチ＃−Ｎ’
−実施例Ｈ，２１，と同様にしてＮ−イングロビル−Ｎ
’−（＆５−ジヒドロキシフェニル）尿素（実施例Ｈ，
１，１で得た化合物１．０２２，１００Ｆ）１００Ｆ）
１３７水素化することにより次式：で表わされる標記化
合物５ａ２Ｆ＠融点９５−９５℃（低速分解）である結
晶形状で得る（化合物番号１０２２）。

ｃＬ１Ｎ水酸化ナトリワム１１０ａＪ中の５−７セトア
ミドレゾルシノール１＆７ｐ（α１ｍｏｌ）の溶液ｔ−
Ｒａ　−Ｎ　ｉ　−Ｈｍ　０　Ｏ存在下−１：６Ｇ−６
５℃７１０／；−ルにして５０時間水素添加する。触媒
をろ過して、水溶液ｔ−酸性化し次後５０℃で濃縮し乾
燥させる。エタノール２００ｄと濃硫酸α１ｄを残留物
に添加し、沈殿した塩化ナトリ９ムを分離し、る液を乾
燥するまで濃縮する。残留物をテトラヒドロツブ７２０
０ｍ１及びＩＮ塩酸１０１１１中に吸収させ、全体管室
温で１５時間放置して。

得られた懸濁液ｔモルキエラーシープ上で乾燥させて、
セしてモルキ為う−シープ七分離した後、再び乾燥する
まで濃縮する。

で表わされる標記化合物１１．５ｆ（６８％）　ｔ−融
点が１８１−１８３℃である結晶形状で単離する（化合
物番号１０１１　）。

以下の表２で示し良化合物は同様にして得る。

トリメチルアニリン１１１５ａ４！及び酢酸エチルエス
テル７０ｇＪ中のＮ、　Ｎ−ジメチル−Ｎ′−（シクロ
ヘキサン−４５−ジオン−１−イル）　−ＪＲ素１３５
Ｆ（６３ｍｍｏｌ）の溶液に冷却しながら２〇−２５℃
で７ａピオン酸りＱリド＆　４ａｄ（７１ｍｍｏｌ）を
添加し、全体を室温で１５時間攪拌する。その後沈殿し
たトリエチルアミン塩＊＊ｔ−ろ遇して、ろ液を乾燥す
るまで濃縮する。

で表わされる標記化合物１＆８ｐ（９７％）を融点が６
９−７４℃であるワックス様固体形状で単離する。

Ｈ１五ＩＮ−フェニル−Ｎ’−（５−メトキシシ゛＼・
りｈキセー・３−：ノーシーオン−１−イル）−尿素 ）ルｚｙ５００ｄ中の３−メトキシーシクローキセー５
−二ン−５−オン−カルボン酸３４（１２ｍｏｌ）の懸
濁液にトリエチルアミン３ａ７１Ｌｌ（α２２ｍｏｌ）
ｔ−添加すると透明な溶液が形成する。

この溶液に０−５５℃でクロロギｌ１２１５ｍ（α２７
ｍｏ　ｌ　）を滴下する。続けて該溶液ｖｉ−０−５℃
で時間攪拌し、その後形成した懸濁液に水１００ＪＩＬ
ｌ中ノナトリウＡ７ジド１４２５ｆ（ａ２５ｍｏｌ）の
溶液を滴下する。更に全体ｔ−ｎ−５℃で１時間攪拌し
て七の後トルエン２００ａｆｌ添加する。

有機相を炭酸水素ナトリタム溶液（５０％）２００ＩＬ
ｌで洗浄してモルキーラーシーブ（４Ｘ）で乾燥させる
。モルキ乳う−シーブを取り除いた後、アニリン２０ａ
Ｊｌ添加する。該溶液を９０℃にゆっくりと暖める。８
０℃を越える窒素が発生しはじめ。溶ｗＬを２時間９０
℃で置し、七の後生成物にヘキサン七添加して沈させる
。

次式： で員わされる標記化合物５１Ｆ（６０％）を融点が１８
３−１８５℃である結晶形状で単離する。

Ｎ−７ｚ＝ルーＮ’　−（５−１）キシシクロヘキセ−
５−工ン−５−オン−１−イル）−尿素ｓａｙ＠テトラ
ヒドロフラン２５０ｄｌ、水１１．５ＪＩＡ’及び５７
％塩酸１ｄ中で室温において１２時間攪拌する。その後
全体を水流真壁下で乾燥するまで濃縮し、残留物をジエ
チルエーテルと共に摩砕し、吸引ろ過し、そして乾燥す
る。

次式： で衆わされる標記化合物２Ｂｆ（９ａ９チ）ｔ−融点１
８８℃（分解点）である結晶形状で単離する。

３−ジオン ジクロロエタン１００ｄ中のＮ’Ｎ−ジメチル−ＮＬ　
−（５−グロピオニルオキシシクロヘキセ−３−エン−
５−オンー１−イル）−尿素１２．７ｆ　（５０ｍｍｏ
ｌ　）の溶液１！−４−ジメチルアミノビリジｙ＆１ｆ
（５０ｍｍｏｌ）と共に室温で１５時間攪拌する。その
後全体を［１５Ｎ塩酸（ｔｏａｄ）で中和し、七して有
機相をＭｇ８０４で乾燥させて乾燥するまで濃縮する。

で表わされる標記化合物ａ２ｆ（６４，６％）を融点が
１３６−１３８℃である結晶形状で単離する（化合物番
号４．０２９）。

）ｉ、４２．Ｎ−イングロビルート／−（４−（４−ク
ロロ−２−二トロベンゾイル）−シ ルク−尿素 ４−クロロ−２−二トロベンゾイルクロリドａｌＨＦ（
４０ｍｍｏｌ）　ｔ−冷却しながらジクロロメタン８０
ｄ及びトリエチルアミン２５１Ｌｔ（α１６ｍｏｌ）中
のＮ−イングロビルーＮ’−（３−ヒドロキシシクロヘ
キセ−３−エン−５−オン−１−イル）−尿素１４０　
ｍｍｏｌの溶液に滴下し、その後全体を室温で１時間攪
拌する。次にアセトンシアノ上１９フ１ 時間攪拌する。反応混合物を蒸発により濃縮して（Ｌ５
Ｎ塩ａ１４００ｄと共に攪拌する。沈殿した生成物含分
離し，水で洗浄して乾燥させる。検収量は１７４２であ
る。精製するために２該生成物をナトリウム塩に変換し
て酸を添加することにより再び沈殿させる。

次式： で表わされる標記化合物７．７Ｆ（５１５％）ｔ−融点
〉１６０℃（分解点）である結晶形状で単離する（化合
物番号４０　１　０　）。

表５及び４中の化合物は，同様の方法で得ることができ
る。

Ｈ４式Ｉで表わされるオキシムエーテルの製エタノール
２４ＩＬｌ中の５−（Ｎ、Ｎ−ジメチル９レイド）−２
−グロピオニルーシクロヘキサｙ−１，５−ジオン五０
５ｆ（１２ｍｍｏｌ）、０−エチルヒドロキシルアミン
塩酸塩１．３　ｆ　（Ｉ　Ａｍ　ｍｏｌ）及びｔ８−シ
アサビシクロ（ａｔＯ）クンデセ−７−ｘン２ｊｌｊ（
１３ｍｍｏｌ）　ｔ−室温で１５時間攪拌する。その後
反応混合物を酢酸エチル２００ｄで希釈して、０−５℃
に冷却しながら１Ｎ塩酸でｐＨを１−２に調節し、水で
数回洗浄し。

そしてＭｇＳＯ４で乾燥した後、蒸発により乾燥するま
で濃縮する。得られた粗精製物を酢酸エチル／エタノー
ル（１０：１　）ｔ−使用してシリカゲル上で精製する
。

次式： で表すされるｌｌ記化合物Ｌ４ｆ（６７，５％＞’ｋｒ
が９４−９７℃であるワックス様の結晶形状ｌ離する（
化合物番号１０２　Ｂ　）。

実施例Ｆ、６： 配合実施例 表わす） ａ）乳剤原液 ａ）　　　ｂ）　　　Ｃ） シトＳ６モル） シクロヘキサノン　　　　　　　　−１５憾　　２０係
キシレン混合物　　　　　　　７０憾　２５嘔　　２０
％このような原液を水で稀釈することによって所望濃度
の乳剤を作ることができる。

ｂ）溶　液 ａ）　　　　ｂ）　　　　ｃ） ルエーテル Ｎ−メチル−２−ピロリドン　　　−２（１％　　　　
５チエポキシ化ヤシ油　　　　　　　　　　　　−９Ｑ
％これらの溶液は微小滴の形で施用するのに適している
。

Ｃ）顆　粒 ａ）　　ｂ） カオリン　　　　　　　　９４チ　　−高分散ケイ酸　
　　　　　１チ　　− アタパルジャイト　　　　−９０チ 有効成分をメチレンクロライドに溶解させ、溶液を担体
に噴霧し、続いて溶媒を真空留去する。

ｄ）粉　剤 ａｌ　　　　ｂ）　　　　ｃ） 高分散ケイ酸　　　　　　１係　　５チ　　５％タルク
　　　　　　　　　９７チ　　−１０ｔｓカオリン　　
　　　　　　−　　９０％　　７７％有効成分と担体と
を十分混合することによってそのまま使用することので
きる粉剤が得られる。

ｅ）水利剤 ａ）　　　ｂ） リグニンスルホン酸ナトリウム　　５壬　　５係ラウリ
ル硫酸ナトリウム　　　　　５％　　　６チ高分散ケイ
酸　　　　　　５％　２７チカオリン　　　　　　　　
６７％　　−有効成分を助剤と十分に混合し、混合物を
適当な微粉砕機中で十分に磨砕し、水で稀釈して所望濃
度の懸濁液を与える水利剤を得る。

ｆ）押出顆粒 製造実施例４もしくは５による化合物　　　ＩＱ％リク
ニンスルホン酸ナトリウム　　　　２憾カルボキシメチ
ルセルローズ　　　　　１俤カオリン　　　　　　　　
　　　　８７チ有効成分を助剤と混合して磨砕し、得ら
れた混合物を水で湿らせる。混合物を押出して空気流中
で乾燥する。

ｇ）被覆顆粒 製造実施例４もしくは５による化合物　　　　３ｑＩＪ
ポリエチレングリコール（ｍｏｌ、　ｗｔ、　２叩）　
　　３％カオリン　　　　　　　　　　　　９４％微粉
砕した有効成分を、混合機中で、ポリエチレングリコー
ルで湿らせたカオリンに均一に施用した。このようにし
て無粉塵性の被覆顆粒を得た。

ｈ）懸濁剤原液 製造実施例４もしくは５による化合物　　　４０チエチ
レングリコール　　　　　　　　１０％リクニンスルホ
ン酸ナトリウム　　　　　　１０％カルボキシメチルセ
ルロース　　　　　　　　１憾３７俤ホルムアルデヒド
水溶液　　　　　　０．２％シリコーン油＋７５４水性
エマルジツン）　　　（Ｌｌｌ１９６水　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　３２％微粉砕した有効成分
と助剤とを十分に混会し、水で稀釈して所望濃度の懸濁
液とすることのできる懸濁剤原液を得た。

実施例Ｂ、７゜ 温室中で、皿に試験植物の糧子をまいた後すぐに、土壌
の表面を２５係乳剤原液から得られた水性有効成分分散
剤で処理する。１ヘクタール当り４　ｋｇの有効成分に
相当する濃度が用いられる。皿は２２ないし２５℃、相
対湿度５０ないし７０％の温室中で保ち、試験結果は３
週間後に判定する。除草活性は、１が完全な破壊（除草
作用１ｏｏ１Ｇ）　　で９が作用しない（試験植物は未
処理対照物と同様に生長する）を表わす直線の９段階基
準を使用して評価する。

個々の結果を表６に示す。

表６：１ヘクタール轟り４神の施用率での発芽前の除草
作用 実施例ｚ２：発芽後の除草作用（接触除草作用）温室中
の種々の雑草、単子葉植物及び双子葉植物を発芽後４な
いし６葉期で、１ヘクタール当り４卿の施用比率で水性
有効成分分散剤を噴霧し、温度を２４−２６℃及び相対
湿度を４５−６０−に保つ。

１５日後に試験を評価する。

製造実施例４及び５による化合物は、この試験において
良好ないし非常に良好な除草作用を示しえ。

実施例７．５＝野生稲での除草作用（水稲）エチノクロ
ア　クルス　ガリ（Ｅｃｈｉｎｏｃｈｌｏａｃｒｕｓ　
ｇａｌｌｉ　）及びモノカリアバグ、　（ＭＯｎＯＣｈ
ａ　−ｒｉａｗａｇ、　）の水性雑草をプラスチック容
器（表面積６０−１容量５００ｄ）　　にまく。種をま
いた後、土壌の表面まで水を加える。程をまいてから５
日後、水平面を土壌よりわずかに（５−５ｍ）上ける６
種まき後５６目に容器に噴霧することによシ試験物質の
水性乳濁液の施用がなされる。

施用量は、１ヘクタール当６　（Ｌ５ないし４に４Ｆの
有効物質量の濃度に相当する。その後、植物容器を２５
ないし５０℃、高相対湿度の水稲にとって最適な育成状
態の温室で保つ。

試験結果の評価は試験物質の施用後３週間で行なう。

個々の結果を表７に記載した。

表７ 試験植物（セントロセマ　プルミエリ（ＣｅＣｅｎ−１
ｒｏｓｅ　ｐｌｕｍｉｅｒｉ　）及びセットｏ４−ｒ　
　プペセンス（Ｃｅｎｔｒｏｓｅｍａ　ｐｕｂｅｓｃｅ
ｎｓ　）を完全な生育状態まで栽培し、その後６０５Ｉ
の高さに切りそろえる。７日後、有効成分を水性乳濁液
の状態で噴霧する。試験植物は、相対湿度７０％、１日
当シ１４時間６００ルックスの人工光をあて、日中は、
２７℃、夜間は２１℃の温度に保つ。

試験結果は、乳濁液の施用後４週間で、対照植物と比較
して新しい成長を評価し重さを量り、植物毒性を決定す
ることにより評価する。この試験において、製造実施例
４及び５の化合物で処理した植物は、１ヘクタール当６
５０００　ｔまでの濃度の施用量で被害を受けた植物な
しでこの試験における新しい成長に明確な減少を示した
。

実施例７．５二大豆の成長の調整 一ハルク（Ｈａｒｋ　）　”種の大豆をプラスチック容
器の土壌／泥炭／砂の混合物（６：３：１）中にまき、
大気制御室に置く。最適な温度、照明、肥料及び水の供
給を選ぶことにより、植物は、約５週間後５ないし６葉
期まで成長した。この時点での植物に、完全に湿るまで
式■で表わされる化合物の水性混合物を噴霧する。濃度
は、１ヘクタ一ル当シ有効成分１００１までである。

評価は施用後、約５週間で行なわれる。

本発明の製造実施例４及び５の化合物は、未処理対照植
物での測定値と比較して主な若枝におけるさやの数と重
量を着るしく増加させる。

実施例Ｚ６：穀物の成長減少 夏大麦（ホルデウム　プルガレ（Ｈｏｒｄｅｕｍｖｕｌ
ｇａｒｅ）　　ｌ及び夏ライ麦（セカレ］種を温室中の
滅菌土壌を有するプラスチ・ツク容器にまき、必要なだ
け水を与える。製造実施例４もしくは５の化合物の水性
噴霧混合物を種まき後約２１日で若枝に噴霧する。濃度
は、１ヘクタール当り有効成分量１ｏｏｔｔでに相当す
る。穀類の成長の評価は、施用後２１日して行なう。

未処理対照植物と比較して処理植物は新しい成長の減少
を示し、（対照植物の６０ないし９０チ）、及びいくつ
かの場合においては、茎の直径にも増加を示す。

実施例７．７：草の成長抑制 ホソムギ（Ｌｏｌｉｕｍ　ｐｅｒｅｎｎｅ　）ボアプラ
テンシス（Ｐｏａ　ｐｒａｔｅｎｓｉｓ）、７ｚスツカ
オヒｆ（Ｆｅ５ｔｕｃａ　ｏｖｉｎａ　）　、ダクｆ　
４　リスクロヲラｆ（Ｄａｃｔｙｌｉｓ　ｇｌｏｍｅｒ
ａｔｅ　）及びシノドンダクチロｙ　（Ｃｙｎｏｄｏｎ
　ｄａｃｔｙｌｏｎ　）を温室中でプラスチック皿の土
壌／洗炭／砂の混合物（６：３：１）　　にまき、必要
表だけ水を与える。成長する葉を毎週、約４ｃＰＲの高
さに切りそろえ、′Ｉｇまき後約５０日及び最後に切り
そろえた次の日に第１表の化合物の水性噴霧混合物を噴
霧する。製造実施例４もしくは５による化合物の濃度は
、１ヘクタール当り５００ｇまでの施用率に相当する。

草の成長は分散剤施用後、２１日で評価する。

製造実施例４及び５による化合物は、未処理対照植物の
新しい減少を示す。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （１）次式 I ： ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） 〔式中、 Ｒは水素原子もしくは炭素原子数１ないし ６のアルキル基を表わし、 ＡはＲ＿２、ＯＲ＿３もしくはＮＲ＿３Ｒ＿４を表わし
   、Ｒ＿２は未置換または炭素原子数１ないし４のアルコ
   キシ基によって一置換された炭素原子数１ないし６のア
   ルキル基、またはハロゲン原子によって一置換もしくは
   多置換された炭素原子数１ないし６のアルキル基、また
   は炭素原子数５ないし６のシクロアルキル基を表わし、 Ｒ＿３は炭素原子数１ないし６のアルキル基、炭素原子
   数３ないし６のシクロアルキル基、または未置換または
   ３個までのＲ＿５によって一置換、二置換もしくは三置
   換されたフェニル基もしくはベンジル基を表わし、 Ｒ＿４は水素原子、炭素原子数１ないし６のアルキル基
   、炭素原子数１ないし４のアルコキシ基もしくは炭素原
   子数３ないし６のシクロアルキル基を表わし、 更にＲ＿３及びＲ＿４はそれらが結合している窒素原子
   と一緒になつてピロリジン基、モルホリン基もしくはピ
   ペリジン基を表わし、 Ｂは次式： ▲数式、化学式、表等があります▼もしくは▲数式、化
   学式、表等があります▼ （式中、 ｍは０、１、２もしくは３を表わし、 Ｒ＿５はハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、炭素原子
   数１ないし４のアルキル基、炭素原子数１ないし４のア
   ルコキシ基、炭素原子数１ないし４のアルキルチオ基、
   炭素原子数１ないし４のハロアルキル基、炭素原子数１
   ないし４のアルキルスルフィニル基もしくは炭素原子数
   １ないし４のアルキルスルホニル基を表わし、 Ｒ＿６は炭素原子数１ないし６のアルキル基もしくは炭
   素原子数３ないし６のシクロアルキル基を表わし、 Ｒ＿７は水素原子、炭素原子数１ないし６のアルキル基
   、炭素原子数１ないし６のハロアルキル基、炭素原子数
   ３ないし６のアルケニル基、炭素原子数３ないし６のハ
   ロアルケニル基もしくは炭素原子数３ないし６のアルキ
   ニル基を表わす。）で表わされる基のうちのひとつを表
   わす。〕で表わされる化合物、並びに酸、塩基もしくは
   錯体形成体との式 I で表わされる化合物の塩。 （２）上記式 I 中、 Ｒが水素原子もしくは炭素原子数１ないし ４のアルキル基を表わし、 ＡがＲ＿２、ＯＲ＿３もしくはＮＲ＿３Ｒ＿４を表わし
   、Ｒ＿２がシクロプロピル基、シクロペンチル基、シク
   ロヘキシル基、未置換または炭素原子数１ないし４のア
   ルコキシ基により一置換されたまたはハロゲン原子によ
   って一置もしくは多置換された炭素原子数１ないし４の
   アルキル基を表わし、 Ｒ＿３が炭素原子数１ないし４のアルキル基、シクロプ
   ロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、未置
   換またはＲ＿５によって一置換もしくは二置換されたフ
   ェニル基もしくはベンジル基を表わし、 Ｒ＿４が水素原子、炭素原子数１ないし４のアルキル基
   、メトキシ基、シクロプロピル基、シクロペンチル基も
   しくはシクロヘキシル基を表わし、 更にＲ＿３及びＲ＿４がそれらと結合している窒素原子
   と一緒になってピロリジン基、モルホリン基もしくはピ
   ペリジン基を表わし、 Ｂは次式： ▲数式、化学式、表等があります▼もしくは▲数式、化
   学式、表等があります▼ （式中、 ｍが０、１、２もしくは３を表わし、 Ｒ＿５がフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ニトロ基、
   シアノ基、炭素原子数１ないし４のアルキル基、炭素原
   子数１ないし４のアルコキシ基、炭素原子数１ないし４
   のアルキルチオ基、トリフルオロメチル基、炭素原子数
   １ないし４のアルキルスルフィニル基もしくは炭素原子
   数１ないし４のアルキルスルホニル基を表わし、 Ｒ＿６が炭素原子数１ないし４のアルキル基、シクロプ
   ロピル基、シクロペンチル基もしくはシクロヘキシル基
   を表わし、並びに Ｒ＿７が水素原子、炭素原子数１ないし４のアルキル基
   、炭素原子数１ないし４のハロアルキル基、炭素原子数
   ３もしくは４のアルケニル基、炭素原子数３もしくは４
   のハロアルケニル基または炭素原子数３もしくは４のア
   ルキニル基を表わす。）で表わされる基のうちのひとつ
   を表わす請求項１記載の化合物。 （３）上記式 I 中、 Ｒが水素原子もしくは炭素原子数１ないし ３のアルキル基を表わし、 ＡがＲ＿２、ＯＲ＿３もしくはＮＲ＿３Ｒ＿４を表わし
   、Ｒ＿２が炭素原子数１ないし４のアルキル基、メトキ
   シメチル基もしくはトリフルオロメチル基を表わし、 Ｒ＿３が炭素原子数１ないし４のアルキル基、シクロプ
   ロピル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、または未置
   換または塩素原子、メトキシ基もしくはメチル基によっ
   て置換されたフェニル基を表わし、 Ｒ＿４が水素原子、メチル基、メトキシ基もしくはエチ
   ル基を表わし、 Ｒ＿３及びＲ＿４がそれらが結合している窒素原子と一
   緒になつてピロリジン基もしくはピペリジン基を表わし
   、 Ｂは次式： ▲数式、化学式、表等があります▼もしくは▲数式、化
   学式、表等があります▼ （式中、 ｍが０、１、２もしくは３を表わし、 Ｒ＿５がフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ニトロ基、
   メチル基、メトキシ基もしくはトリフルオロメチル基、
   炭素原子数１ないし４のアルキルチオ基、炭素原子数１
   ないし４のアルキルスルフィニル基または炭素原子数１
   ないし４のアルキルスルホニル基を表わし、 Ｒ＿６が炭素原子数１ないし６のアルキル基、シクロプ
   ロピル基もしくはシクロヘキシル基を表わし、並びに Ｒ＿７がメチル基、エチル基、アリル基、プロパギル基
   もしくは３−クロロ−プロペ−２−エン−１−イル基を
   表わす。）で表わされる基のうちのひとつを表わす請求
   項１もしくは２記載の化合物。 （４）上記式 I 中、 Ｒが水素原子もしくは炭素原子数１ないし ３のアルキル基を表わし、 ＡがＲ＿２、ＯＢ＿３もしくはＮＲ＿３Ｒ＿４を表わし
   、Ｒ＿２がメトキシメチル基もしくは炭素原子数１ない
   し４のアルキル基を表わし、 Ｒ＿３が炭素原子数１ないし４のアルキル基、または未
   置換または塩素原子もしくはメチル基によって置換され
   たフェニル基を表わし、Ｒ＿４が水素原子もしくはメチ
   ル基を表わし、Ｒ＿３及びＲ＿４がそれらが結合してい
   る窒素原子と一緒になつてピロリジン基を形成し、 Ｂが次式： ▲数式、化学式、表等があります▼もしくは▲数式、化
   学式、表等があります▼ （式中、 ｍが０、１、２もしくは３を表わし、 Ｒ＿３が塩素原子、ニトロ基、トリフルオロメチル基、
   メチルチオ基、メチルスルフィニル基もしくはメチルス
   ルホニル基を表わし、 Ｒ＿６が炭素原子数１ないし３のアルキル基もしくはシ
   クロプロピル基を表わし、並びに Ｒ＿７がメチル基、アリル基、エチル基もしくは３−ク
   ロロ−プロペ−２−エン−１−イル基を表わす。）で表
   わされる基のうちのひとつを表わす請求項１ないし３記
   載の化合物。 （５）上記式中、 Ｂが次式： ▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされる基を表わす請求項１ないし４のいずれか１
   項記載の化合物。 （６）上記式 I 中、 Ｂが次式： ▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされる基を表わす請求項１ないし４のいずれか１
   項記載の化合物。 （７）上記式 I 中、 Ｂが次式： ▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされる基を表わす請求項１ないし４のいずれか１
   項記載の化合物。 （８）上記式 I 中、 ＡがＮＲ＿３Ｒ＿４を表わす請求項１ないし７のいずれ
   か１項記載の化合物。 （９）上記式 I 中、 ＡがＯＲ＿３を表わす請求項１ないし７のいずれか１項
   記載の化合物。 （１０）上記式 I 中、 ＡがＲ＿２を表わす請求項１ないし７のいずれか１項記
   載の化合物。 （１１）２−ブタノイル−５−エトキシカルボニルアミ
   ノシクロヘキサン−１，３−ジオン、 ２−プロパノイル−５−（Ｎ′，Ｎ′−ジメチルウレイ
   ド）−シクロヘキサン−１，３−ジオン、 ２−ブタノイル−５−（Ｎ′，Ｎ′−ジメチルウレイド
   ）−シクロヘキサン−１，３−ジオン、 ５−アセトアミド−２−プロパノイル−シ クロヘキサン−１，３−ジオン、 ２−（２，４−ジクロロベンゾイル）−５ −エトキシカルボニルアミノ−シクロヘキサン−１，３
   −ジオン、 ２−（２，４−ジクロロベンゾイル）−５ −（Ｎ′−イソプロピルウレイド）−シクロヘキサン−
   １，３−ジオン、 ２−（２，４−ジクロロベンゾイル）−５ −（Ｎ′，Ｎ′−ジメチルウレイド）−シクロヘキサン
   −１，３−ジオン、 ５−（Ｎ′−第三ブチルウレイド）−２−（１−アリル
   オキシイミノブチル）−シクロヘキサン−１，３−ジオ
   ン、 ５−（Ｎ′，Ｎ′−ジメチルウレイド）−２−（１−エ
   トキシイミノプロピル）−シクロヘキサン−１，３−ジ
   オン、 ５−（Ｎ′−フェニルウレイド）−２−（１−エトキシ
   イミノブチル）−シクロヘキサン−１，３−ジオン、 ５−（Ｎ′−フェニルウレイド）−２−〔１−（３−ク
   ロロアリル）オキシイミノブチル〕−シクロヘキサン−
   １，３−ジオン、 ５−（Ｎ′−フェニルムレイド）−２−（１−エトキシ
   イミノエチル）−シクロヘキサン−１，３−ジオン、 ５−（Ｎ′−フェニルウレイド）−２−（１−メトキシ
   イミノブチル）−シクロヘキサン−１，３−ジオン、 ５−〔Ｎ′−（２−メチルフェニル）ウレイド〕−２−
   （１−エトキシイミノブチル）−シクロヘキサン−１，
   ３−ジオンもしくは ５−〔Ｎ′−（３−クロロフェニル）−ウレイド〕−２
   −（１−エトキシイミノブチル）−シクロヘキサン−１
   ，３−ジオンである請求項１記載の化合物。 （１２）ａ）式IIで表わされるシクロヘキサンジオンと
   式IIIで表わされる化合物を反応させて式IVで表わされ
   る化合物を形成し、 その後塩基の存在下で該化合物を熱的に転 位させて式 I で表わされる化合物を形成する▲数式、
   化学式、表等があります▼▲数式、化学式、表等があり
   ます▼▲数式、化学式、表等があります▼ （II）（III）（IV） ▲数式、化学式、表等があります▼ （ I ） （式中、Ａ、Ｂ及びＲは上記で定義した意 味を表わすが、ただしＢは次式：▲数式、化学式、表等
   があります▼で 表わされるオキシムエーテル基を表わさない。 そしてＹは反応条件下で除去することのできる塩基原子
   、臭素原子もしくは炭素原子数１ないし４のアルコキシ
   基のような脱離求核基を表わす。）か、 ｂ）式IIで表わされるシクロヘキサンジオンと式IIIで
   表わされる化合物を塩基及びＺｎＣｌ＿２の存在下で反
   応させて式 I で表わされる化合物を形成する ▲数式、化学式、表等があります▼▲数式、化学式、表
   等があります▼▲数式、化学式、表等があります▼ （II）（III）（ I ） （式中、 Ａ、Ｒ及びＢは上記で定義した意味を表わ すが、ただしＢは次式：▲数式、化学式、表等がありま
   す▼で表わされ るオキシムエーテル基を表わさない。）か、または ｃ）式 I ａで表わされるシクロヘキシルケトンと式IV
   で表わされるヒドロキシルアミンを反応させて式 I ｂ
   で表わされるオキシムを形成する ▲数式、化学式、表等があります▼▲数式、化学式、表
   等があります▼▲数式、化学式、表等があります▼ （ I ａ）（IV）（ I ｂ） （式中、 Ａ、Ｒ、Ｒ＿６及びＲ＿７は上記で定義した意味を表わ
   す。）ことよりなる請求項１ないし１１記載の化合物の
   製造方法。 （１３）次式II： ▲数式、化学式、表等があります▼II （式中、 Ｒは水素原子もしくは炭素原子数１ないし ６のアルキル基を表わし、 ＡはＲ＿２、ＯＲ＿３もしくはＮＲ＿３Ｒ＿４を表わし
   、Ｒ＿２は炭素原子数１ないし６のアルキル基もしくは
   炭素原子数３ないし６のシクロアルキル基を表わし、 Ｒ＿３は炭素原子数１ないし６のアルキル基、炭素原子
   数３ないし６のシクロアルキル基、または未置換または
   Ｒ＿５によりそれぞれ一置換、二置換もしくは三置換さ
   れたフェニル基もしくはベンジル基を表わし、 Ｒ＿４は水素原子、炭素原子数１ないし６のアルキル基
   もしくは炭素原子数３ないし６のシクロアルキル基を表
   わし、 Ｒ＿３及びＲ＿４は更にそれらが結合している窒素原子
   と一緒になつてピロリジン基、モルホリン基もしくはピ
   ペリジン基を表わし、並びに Ｒ＿５はハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、炭素原子
   数１ないし４のアルキル基、炭素原子数１ないし４のア
   ルコキシ基、炭素原子数１ないし４のアルキルチオ基、
   炭素原子数１ないし４のハロアルキル基、炭素原子数１
   ないし４のアルキルスルフィニル基もしくは炭素原子数
   １ないし４のアルキルスルホニル基を表わす。）で表わ
   される化合物。 （１３）ａ）式Ｖで表わされるレゾルシノールを公知の
   方法に従い水素化する ▲数式、化学式、表等があります▼▲数式、化学式、表
   等があります▼ （Ｖ）（II） （式中、 Ａ及びＲは上記で定義した意味を表わす。）か、または ｂ）式VIで表わされるイソシアネートと式VIIもしくは
   式VIIIで表わされるアルコールもしくはアミンをそれぞ
   れ反応させて式IIで表わされるウレタンもしくは尿素を
   形成する ▲数式、化学式、表等があります▼（VI）▲数式、化学
   式、表等があります▼（VII）もしくは▲数式、化学式
   、表等があります▼（VIII）　　　　▲数式、化学式、
   表等があります▼（II） （式中、 Ｒは水素原子を表わし、 ＡはＯＲ＿３またはＮＲ＿３Ｒ＿４を表わし、並びにＲ
   ＿３及びＲ＿４は上記で定義した意味を表わす。）こと
   よりなる請求項１３記載の式IIで表わされる化合物の製
   造方法。 （１４）次式IV： ▲数式、化学式、表等があります▼ （IV） （式中、 Ｒ＿は水素原子もしくは炭素原子数１ないし６のアルキ
   ル基を表わし、 ＡはＲ＿２、ＯＲ＿３もしくはＮＲ＿３Ｒ＿４を表わし
   、Ｒ＿２は未置換または炭素原子数１ないし４のアルコ
   キシ基によって一置換されたまたはハロゲン原子によっ
   て一置換もしくは多置換された炭素原子数１ないし６の
   アルキル基、または炭素原子数３ないし６のシクロアル
   キル基を表わし、 Ｒ＿３は炭素原子数１ないし６のアルキル基、炭素原子
   数３ないし６のシクロアルキル基、または未置換もしく
   は３個までのＲ＿５によって一置換、二置換もしくは三
   置換されたフェニル基もしくはベンジル基を表わし、 Ｒ＿４は水素原子、炭素原子数１ないし６のアルキル基
   、炭素原子数１ないし４のアルコキシ基もしくは炭素原
   子数３ないし６のシクロアルキル基を表わし、 更にＲ＿３及びＲ＿４はそれらが結合している窒素原子
   と一緒になつてピロリジン基、モルホリン基もしくはピ
   ペリジン基を表わし、 Ｂは次式： ▲数式、化学式、表等があります▼もしくは▲数式、化
   学式、表等があります▼ （式中、 ｍは０、１、２もしくは３を表わし、 Ｒ＿５はハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、炭素原子
   数１ないし４のアルキル基、炭素原子数１ないし４のア
   ルコキシ基、炭素原子数１ないし４のアルキルチオ基、
   炭素原子数１ないし４のハロアルキル基、炭素原子数１
   ないし４のアルキルスルフィニル基もしくは炭素原子数
   １ないし４のアルキルスルホニル基を表わし、 Ｒ＿６は炭素原子数１ないし６のアルキル基もしくは炭
   素原子数３ないし６のシクロアルキル基を表わし、 Ｒ＿７は水素原子、炭素原子数１ないし６のアルキル基
   、炭素原子数１ないし６のハロアルキル基、炭素原子数
   ３ないし６のアルケニル基、炭素原子数３ないし６のハ
   ロアルケニル基もしくは炭素原子数３ないし６のアルキ
   ニル基を表わす。）で表わされる基のうちのひとつを表
   わす。〕で表わされる化合物。 （１６）ａ）式IIで表わされるシクロヘキサジオンと式
   IIIで表わされる化合物を反応させて式IVで表わされる
   化合物を形成する ▲数式、化学式、表等があります▼▲数式、化学式、表
   等があります▼▲数式、化学式、表等があります▼ （II）（III）（IV） （式中、 Ａ、Ｂ及びＲは上記で定義した意味を表わ すが、ただしＢは次式：▲数式、化学式、表等がありま
   す▼で表わされ るオキシムエーテル基は表わさない。そしてＹは反応条
   件下で除去しうる塩素原子、臭 素原子もしくは炭素原子数１ないし４のアルコキシ基の
   ような脱離求核基を表わす。）ことからなる請求項１５
   記載の式IVで表わされる化合物の製造方法。 （１７）請求項１ないし１０記載の式 I で表わされる
   化合物の少なくともひとつを有効成分として担体及び／
   または他の補助剤と共に含有することを特徴とする除草
   もしくは植物生長調節組成物。 （１８）請求項１７記載の除草組成物。 （１９）請求項１７記載の植物生長調節組成物。 （２０）望ましくない植物の生長を防除するための請求
   項１ないし１１のいずれか１項記載の化合物の使用方法
   。 （２１）望ましくない植物の生長を防除するための請求
   項１７もしくは１８記載の組成物の使用方法。 （２２）植物の生長に影響を与えるための請求項１ない
   し１１のいずれか１項記載の化合物の使用方法。 （２３）植物の生長に影響を与えるための請求項１７な
   いし１９記載の組成物の使用方法。 （２４）請求項１ないし１１のいずれか１項記載の式
   I で表わされる化合物の除草有効量で防除すべき植物ま
   たはそれらの生育地を処理することよりなる望ましくな
   い植物の生長を防除するための方法。 （２５）雑草を選択的に防除するための請求項２４記載
   の方法。 （２６）有用植物の栽培地で発芽前もしくは発芽後の雑
   草を選択的に防除する請求項２４もしくは２５記載の方
   法。 （２７）大豆、綿、オート麦、ライ麦、モロコシ、トウ
   モロコシ、小麦、大麦及び稲の作物に使用する請求項２
   ４ないし２６のいずれか１項記載の方法。 （２８）植物生長調節しうる量の請求項１ないし１１の
   いずれか１項記載の式 I で表わされる化合物で植物体
   またはそれらの生育地を処理することよりなる栽培植物
   の生育に影響させる方法。 （２９）間作物の生長の調節のための請求項２２記載の
   化合物もしくは請求項２３記載の組成物の使用方法。