JPS63199414A - 基板の熱処理装置 - Google Patents
基板の熱処理装置Info
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- JPS63199414A JPS63199414A JP3207087A JP3207087A JPS63199414A JP S63199414 A JPS63199414 A JP S63199414A JP 3207087 A JP3207087 A JP 3207087A JP 3207087 A JP3207087 A JP 3207087A JP S63199414 A JPS63199414 A JP S63199414A
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Landscapes
- Furnace Details (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
、この発明は、例えば酸化炉や拡散炉、CVD(che
mical vapor deposition)
装置の反応炉など半導体基板(以下単に基板と称する)
を加熱するのに用いられる基板の熱処理装置に関するも
のである。
mical vapor deposition)
装置の反応炉など半導体基板(以下単に基板と称する)
を加熱するのに用いられる基板の熱処理装置に関するも
のである。
〈従来技術〉
この種の熱処理装置としては従来より、例えば第5図に
示すものが知られている(特開昭60−148124号
公報)。
示すものが知られている(特開昭60−148124号
公報)。
それは基板101を収容する炉芯管102と、炉芯管1
02の周囲を電熱体104が囲むように、当該電熱体1
0・1を絶縁性耐熱支持部材105で支持して成る加熱
手段103と、炉芯管102及び加熱手段103を内嵌
収容する外筒炉本体110とを備えて成り、絶縁性耐熱
支持部材105は断熱材より成る筒状体で、その内周面
に螺旋状の溝105aを形成し、その溝105aに電熱
体104を埋設して支持するように構成したものである
。
02の周囲を電熱体104が囲むように、当該電熱体1
0・1を絶縁性耐熱支持部材105で支持して成る加熱
手段103と、炉芯管102及び加熱手段103を内嵌
収容する外筒炉本体110とを備えて成り、絶縁性耐熱
支持部材105は断熱材より成る筒状体で、その内周面
に螺旋状の溝105aを形成し、その溝105aに電熱
体104を埋設して支持するように構成したものである
。
〈発明が解決しようとする問題点〉
上記従来例のものは電熱体であるヒータ1.04が断熱
性筒状体105の内周面に埋設支持されていることから
、放熱による熱損失の防止には有効であるが、輻射熱の
有効な利用を図る上で問題かあり、しかもその支持部材
である断熱性筒状体105は必然的に熱容器が大きいこ
とが呟昇温時間や降温時間を短縮するのに不都合である
。その上埋設支持されているヒータは、その埋設部分の
蓄熱に伴う過熱による劣化を誘発して断線を生じ易く、
このような断線に際してヒータ104のみを交換するこ
とは、溝105a内に埋設支持させている都合上容易で
はない。このため加熱手段103全体を交換することに
なるが、断熱性筒状体105はセラミックスファイバ等
にて構成されているか呟多量の汚染粒子を発生する問題
がある。
性筒状体105の内周面に埋設支持されていることから
、放熱による熱損失の防止には有効であるが、輻射熱の
有効な利用を図る上で問題かあり、しかもその支持部材
である断熱性筒状体105は必然的に熱容器が大きいこ
とが呟昇温時間や降温時間を短縮するのに不都合である
。その上埋設支持されているヒータは、その埋設部分の
蓄熱に伴う過熱による劣化を誘発して断線を生じ易く、
このような断線に際してヒータ104のみを交換するこ
とは、溝105a内に埋設支持させている都合上容易で
はない。このため加熱手段103全体を交換することに
なるが、断熱性筒状体105はセラミックスファイバ等
にて構成されているか呟多量の汚染粒子を発生する問題
がある。
〈問題点を解決するための手段〉
本発明は上記従来例の問題点を解決することを技術課題
とするもので、上記従来の熱処理装置を以下のように改
良したものである。
とするもので、上記従来の熱処理装置を以下のように改
良したものである。
即ち、絶縁性耐熱支持部材は棒状支持部材を炉芯管の周
囲にその軸心と平行をなすように複数本配設して成り、
外筒炉本体の加熱手段と対面する局面には赤外線を反射
する反射膜を被着形成したことを特徴とするものである
。
囲にその軸心と平行をなすように複数本配設して成り、
外筒炉本体の加熱手段と対面する局面には赤外線を反射
する反射膜を被着形成したことを特徴とするものである
。
〈作 用〉
本発明は、炉芯管の周囲を電熱体が囲むように、炉芯管
の軸心と平行をなすように配設した棒状支持部材でその
電熱体を支持することにより、電熱体からの赤外線(熱
線)の放射を促進させながら、外筒炉本体側へ向けて放
射される当該熱線を、外筒炉本体の周面に被着形成した
赤外線反射膜で反射して炉芯管内の昇温を促進させるこ
とができる。
の軸心と平行をなすように配設した棒状支持部材でその
電熱体を支持することにより、電熱体からの赤外線(熱
線)の放射を促進させながら、外筒炉本体側へ向けて放
射される当該熱線を、外筒炉本体の周面に被着形成した
赤外線反射膜で反射して炉芯管内の昇温を促進させるこ
とができる。
また、上記棒状支持部材は熱容量も小さく蓄熱作用はほ
とんど無視し得る。これにより、降温のスピードもはや
くすることができ、かつ蓄熱に伴う過熱に起因する電熱
体の劣化断線を防止することもできる。
とんど無視し得る。これにより、降温のスピードもはや
くすることができ、かつ蓄熱に伴う過熱に起因する電熱
体の劣化断線を防止することもできる。
また、電熱体を交換する際には、棒状支持部材に沿って
、または棒状支持部材と一体で、電熱体を炉芯管の軸心
と平行な方向へ容易に移動させることが可能である。
、または棒状支持部材と一体で、電熱体を炉芯管の軸心
と平行な方向へ容易に移動させることが可能である。
〈実 施 例〉
以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明する。
第1図は本発明に係る熱処理装置の概要を示す縦断側面
図、第2図は第1図の■−■線矢視縦断正面図である。
図、第2図は第1図の■−■線矢視縦断正面図である。
この熱処理装置は、基板1を収容する石英ガラス製の炉
芯管2と、炉芯管2に外嵌した加熱手段3と、炉芯管2
及び加熱手段3を内嵌収容する外筒炉本体10と、炉芯
管2と外筒炉本体10との間隙内にこれらの軸心と平行
をなす方向へ冷却気体を流通させる強制冷却手段(ブロ
ア)13とを具備して成る。
芯管2と、炉芯管2に外嵌した加熱手段3と、炉芯管2
及び加熱手段3を内嵌収容する外筒炉本体10と、炉芯
管2と外筒炉本体10との間隙内にこれらの軸心と平行
をなす方向へ冷却気体を流通させる強制冷却手段(ブロ
ア)13とを具備して成る。
石英製炉芯管2は外筒炉本体10内に遊嵌状に挿通され
、その両端部は一対の外筒用7ランジ11a・1.1b
を貫通した状態で当該7ランン11a・11.bによっ
て支持されている。
、その両端部は一対の外筒用7ランジ11a・1.1b
を貫通した状態で当該7ランン11a・11.bによっ
て支持されている。
加熱手段3は炉芯管2の周囲を螺旋状に巻トっ=4−
けたニクロム製で帯のように長くて所要の形状に曲げ加
工できる帯状電熱体4と電熱体4を支持するために炉芯
管2の周囲にその軸心と平行をなすように配設した多数
の棒状支持部材5とを備え、棒状支持部材5の両端を固
定7ランジ6a・6bで固定支持して成り、炉芯管2と
外筒炉本体10との間隙内に挿入自在に設けられている
。
工できる帯状電熱体4と電熱体4を支持するために炉芯
管2の周囲にその軸心と平行をなすように配設した多数
の棒状支持部材5とを備え、棒状支持部材5の両端を固
定7ランジ6a・6bで固定支持して成り、炉芯管2と
外筒炉本体10との間隙内に挿入自在に設けられている
。
この棒状支持部材5は酸化アルミニウムを主成分とする
セラミック材料で形成されており、熱容量を小さくして
蓄熱作用を生じさせないように構成されている。なお、
これらの図中符号8は電熱体4を所定の等ピッチで保持
するためのスペーサであり、これらスペーサ8も同様に
セラミック材料等で形成される。
セラミック材料で形成されており、熱容量を小さくして
蓄熱作用を生じさせないように構成されている。なお、
これらの図中符号8は電熱体4を所定の等ピッチで保持
するためのスペーサであり、これらスペーサ8も同様に
セラミック材料等で形成される。
なお、棒状支持部材5を固定支持する固定フラン76a
・6bには後述する強制冷却手段13による冷却気体を
流通させるように開ロアが形成されるとともに、加熱手
段3を取り出して一方の固定7ランジ6aを取り外すこ
とにより電熱体4を棒状支持部材5に沿って、または棒
状支持部材と−体で着脱交換することができるように構
成されている。
・6bには後述する強制冷却手段13による冷却気体を
流通させるように開ロアが形成されるとともに、加熱手
段3を取り出して一方の固定7ランジ6aを取り外すこ
とにより電熱体4を棒状支持部材5に沿って、または棒
状支持部材と−体で着脱交換することができるように構
成されている。
一対の外筒用7ランジ11a・11bにはそれぞれ外筒
炉本体10の両端面が臨むように吸・排気ポー) 12
a・12bが形成されており、吸気ボート12aに連通
したブロア13により冷却用に空気を送り込んで炉芯管
2と外筒炉本体10との間隙内を流通させ、加熱手段3
及び炉芯管2を冷却した空気を排気ポー)121)より
排気するように構成されている。
炉本体10の両端面が臨むように吸・排気ポー) 12
a・12bが形成されており、吸気ボート12aに連通
したブロア13により冷却用に空気を送り込んで炉芯管
2と外筒炉本体10との間隙内を流通させ、加熱手段3
及び炉芯管2を冷却した空気を排気ポー)121)より
排気するように構成されている。
なお、上記のように炉芯管2を冷却することは、例えば
第5図に示すような従来装置では絶縁性耐熱支持部材1
05の割れや、粒子汚染の発生等の問題があって容易に
は実現できなかった。
第5図に示すような従来装置では絶縁性耐熱支持部材1
05の割れや、粒子汚染の発生等の問題があって容易に
は実現できなかった。
なお、第1図及び第2図に示す帯状電熱体4は帯状の両
側面を2本−組の棒状支持部材5・5で挟持されている
。
側面を2本−組の棒状支持部材5・5で挟持されている
。
外筒炉本体10は、耐熱性石英ガラスで形成され、その
内周面に赤外線反射膜10aか被着形成されている。
内周面に赤外線反射膜10aか被着形成されている。
従って、炉内を昇温して基板1の加熱処理をする際には
、この赤外線反射膜1.0aが一種の断熱効果を奏して
外筒炉本体10がら熱の放出を阻止しながら、加熱手段
3から放射される輻射熱を反射して炉芯管2内の昇温を
促進させる。また、炉内温度を常温付近まで降下させる
際には、炉芯管2と外筒炉本体10との間隙内に冷却用
空気を流通させることにより、加熱手段3及び炉芯管2
を直接冷却して、降温を促進させる。この際、加熱手段
3の棒状支持部材5は数本の棒状体で構成されているに
すぎず、その蓄熱作用も無視し得る程度であることから
、降温促進に支障とはならない。
、この赤外線反射膜1.0aが一種の断熱効果を奏して
外筒炉本体10がら熱の放出を阻止しながら、加熱手段
3から放射される輻射熱を反射して炉芯管2内の昇温を
促進させる。また、炉内温度を常温付近まで降下させる
際には、炉芯管2と外筒炉本体10との間隙内に冷却用
空気を流通させることにより、加熱手段3及び炉芯管2
を直接冷却して、降温を促進させる。この際、加熱手段
3の棒状支持部材5は数本の棒状体で構成されているに
すぎず、その蓄熱作用も無視し得る程度であることから
、降温促進に支障とはならない。
第3図は加熱手段の別実流側を示す要部縦断正面図であ
り、帯状電熱体4を支持具9を介して棒状支持部材5に
支持した点が第2図のものと異なる。なお螺旋状に巻き
付けた帯状電熱体4はその帯状の表裏面がそれぞれ炉芯
管2及び外筒炉本体10に対面するように支持され、図
示しないスペーサで所定の等ピッチ間隔を維持するよう
に構成されている。
り、帯状電熱体4を支持具9を介して棒状支持部材5に
支持した点が第2図のものと異なる。なお螺旋状に巻き
付けた帯状電熱体4はその帯状の表裏面がそれぞれ炉芯
管2及び外筒炉本体10に対面するように支持され、図
示しないスペーサで所定の等ピッチ間隔を維持するよう
に構成されている。
−第4図は加熱手段のさらに別の実施例を示す要部縦断
正面図であり、帯状電熱体4を波形状に形成して螺旋状
に巻きつけ、その凹凸部数ケ所を2本−組の棒状支持部
材5・5で支持した点が第2図のものと異なる。なお、
帯状電熱体4の表裏面がそれぞれ炉芯管2及び外筒炉本
体10に対面するように支持され、図示しないスペーサ
を介して支持される点は第3図のものと同様である。
正面図であり、帯状電熱体4を波形状に形成して螺旋状
に巻きつけ、その凹凸部数ケ所を2本−組の棒状支持部
材5・5で支持した点が第2図のものと異なる。なお、
帯状電熱体4の表裏面がそれぞれ炉芯管2及び外筒炉本
体10に対面するように支持され、図示しないスペーサ
を介して支持される点は第3図のものと同様である。
また、第3図及び第4図に示す加熱手段はいずれも第1
図に示すものと同様、外筒用7ランジ11aを外して取
り出し可能に設けられ、かつ一方の固定7ランジ6aを
取り外して電熱体4を棒状支持部材5に沿って引と出す
かまたは棒状支持部材5と一体で着脱交換可能に構成さ
れている。なお、棒状支持部材5がセラミック棒で形r
Ii、されているので、従来例のように断熱性支持部材
の破損・摩耗に起因する発塵のおそれを解消上かつ断線
時の電熱体の交換等、そのメンテナンス作業も容易であ
る。また、電熱体4のみを交換すれば良く、メンテナン
スコストが低減できる。
図に示すものと同様、外筒用7ランジ11aを外して取
り出し可能に設けられ、かつ一方の固定7ランジ6aを
取り外して電熱体4を棒状支持部材5に沿って引と出す
かまたは棒状支持部材5と一体で着脱交換可能に構成さ
れている。なお、棒状支持部材5がセラミック棒で形r
Ii、されているので、従来例のように断熱性支持部材
の破損・摩耗に起因する発塵のおそれを解消上かつ断線
時の電熱体の交換等、そのメンテナンス作業も容易であ
る。また、電熱体4のみを交換すれば良く、メンテナン
スコストが低減できる。
上記実施例では、電熱体をニクロム製の帯状電熱体で構
成し、炉芯管の周囲を螺旋状に巻きつけたものについて
説明したが、これに限るものではなく、例えば断面中空
状の電熱体で構成してもよく、また、棒状電熱体を棒状
支持部材と平行に多数配置してもよい。またさらには、
電熱体をいわゆるセラミックヒータで構成したものでも
よい。
成し、炉芯管の周囲を螺旋状に巻きつけたものについて
説明したが、これに限るものではなく、例えば断面中空
状の電熱体で構成してもよく、また、棒状電熱体を棒状
支持部材と平行に多数配置してもよい。またさらには、
電熱体をいわゆるセラミックヒータで構成したものでも
よい。
〈発明の効果〉
以上の説明によって明らかなように、本発明では絶縁性
耐熱支持部材を棒状支持部材で構成するとともに、外筒
炉本体の周面に赤外線反射膜を被着形成したことにより
、以下のように秀れた効果を奏する。
耐熱支持部材を棒状支持部材で構成するとともに、外筒
炉本体の周面に赤外線反射膜を被着形成したことにより
、以下のように秀れた効果を奏する。
(伺 棒状の支持部材で支持された電熱体から放射され
る輻射熱は、当該支持部材によって蓄熱される量も少な
く、また外筒炉本体に向けて放射される熱線は赤外線反
射膜で反射され、輻射熱の有効な利用か図られる。これ
により、炉内の昇温を一層促進して昇温時間の短縮を図
るとともに、降温に際しても、支持部材の蓄熱量が少な
いことから、降温を妨げることが少なく降温時間の短縮
を図ることができる。
る輻射熱は、当該支持部材によって蓄熱される量も少な
く、また外筒炉本体に向けて放射される熱線は赤外線反
射膜で反射され、輻射熱の有効な利用か図られる。これ
により、炉内の昇温を一層促進して昇温時間の短縮を図
るとともに、降温に際しても、支持部材の蓄熱量が少な
いことから、降温を妨げることが少なく降温時間の短縮
を図ることができる。
(ロ)電熱体は棒状の支持部材で支持されるので、支持
部での蓄熱に伴う過熱現象を生ずることもない。これに
より、従来例のような電熱体の劣化、断線を防止するこ
とが可能となる。
部での蓄熱に伴う過熱現象を生ずることもない。これに
より、従来例のような電熱体の劣化、断線を防止するこ
とが可能となる。
(ハ)殊に棒状支持部材をセラミック材料で形成した場
合には破損や摩耗による発塵を防止することができる。
合には破損や摩耗による発塵を防止することができる。
(ニ) また、電熱体を帯状電熱体で構成し、棒状支持
部材に沿って、または棒状支持部材と一体で着脱交換可
能に構成した場合には、断線時の電熱体の交換作業等が
容易になる。
部材に沿って、または棒状支持部材と一体で着脱交換可
能に構成した場合には、断線時の電熱体の交換作業等が
容易になる。
第1図は本発明に係る熱処理装置の概要を示す縦断側面
図、第2図は第1図の■−■線矢視縦断正面図、第3図
及び第4図はそれぞれ加熱手段の別実流側を示す要部縦
断面図、第5図は従来例による熱処理装置の要部縦断側
面図である。 l・・・基板、 2・・・炉芯管、 3・・・加熱手
段、4・・・電熱体、 5・・・棒状支持部材、 1
0・・・外筒炉本体、 10a・・・赤外線反射膜。
図、第2図は第1図の■−■線矢視縦断正面図、第3図
及び第4図はそれぞれ加熱手段の別実流側を示す要部縦
断面図、第5図は従来例による熱処理装置の要部縦断側
面図である。 l・・・基板、 2・・・炉芯管、 3・・・加熱手
段、4・・・電熱体、 5・・・棒状支持部材、 1
0・・・外筒炉本体、 10a・・・赤外線反射膜。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、基板を収容する炉芯管と、炉芯管の周囲を電熱体が
囲むようにその電熱体を絶縁性耐熱支持部材で支持して
成る加熱手段と、炉芯管及び加熱手段を内嵌収容する外
筒炉本体とを備えて成り、炉芯管内に収容した被処理基
板を熱処理するように構成した基板の熱処理装置におい
て、 絶縁性耐熱支持部材は棒状支持部材を炉芯 管の周囲にその軸心と平行をなすように複数本配設して
成り、外筒炉本体の加熱手段と対面する周面には赤外線
を反射する反射膜を被着形成したことを特徴とする基板
の熱処理装置 2、電熱体を帯状電熱体で構成するとともに、棒状支持
部材に沿つて着脱交換可能に構成した特許請求の範囲第
1項に記載の基板の熱処理装置
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62032070A JPH06103671B2 (ja) | 1987-02-14 | 1987-02-14 | 基板の熱処理装置 |
US07/159,404 US4849608A (en) | 1987-02-14 | 1988-02-11 | Apparatus for heat-treating wafers |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62032070A JPH06103671B2 (ja) | 1987-02-14 | 1987-02-14 | 基板の熱処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63199414A true JPS63199414A (ja) | 1988-08-17 |
JPH06103671B2 JPH06103671B2 (ja) | 1994-12-14 |
Family
ID=12348616
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62032070A Expired - Fee Related JPH06103671B2 (ja) | 1987-02-14 | 1987-02-14 | 基板の熱処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH06103671B2 (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04215423A (ja) * | 1990-12-14 | 1992-08-06 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 半導体基板の熱処理方法 |
JP2006284077A (ja) * | 2005-03-31 | 2006-10-19 | Kumamoto Technology & Industry Foundation | 熱輻射反射炉 |
JP2008263170A (ja) * | 2007-03-20 | 2008-10-30 | Tokyo Electron Ltd | 熱処理炉及び縦型熱処理装置 |
CN102410733A (zh) * | 2010-09-23 | 2012-04-11 | 辽宁科技大学 | 节能型低温循环加热炉 |
CN104320868A (zh) * | 2014-09-29 | 2015-01-28 | 绵阳力洋英伦科技有限公司 | 椭圆面聚焦型管式加热装置 |
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