JPS63198685A - ピリミドベンズイミダゾ−ル誘導体 - Google Patents

ピリミドベンズイミダゾ−ル誘導体

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JPS63198685A
JPS63198685A JP3213087A JP3213087A JPS63198685A JP S63198685 A JPS63198685 A JP S63198685A JP 3213087 A JP3213087 A JP 3213087A JP 3213087 A JP3213087 A JP 3213087A JP S63198685 A JPS63198685 A JP S63198685A
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JP
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compound
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lower alkyl
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JP3213087A
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Kiyoto Goto
清人 後藤
Kinji Hashimoto
謹治 橋本
Kenichi Kanai
健一 金井
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Otsuka Pharmaceutical Co Ltd
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Otsuka Pharmaceutical Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、ピリミドベンズイミダゾール誘導体に関する
炙米圀返恭 本発明に係わる化合物は、文献未載の新規化合物でおる
明が解決しようとする問題点 本発明は、後記するように医薬品として有用な化合物を
提供することを目的とする。
問題点を解決するための手段 本発明によれば、下記一般式(1)で表わされるピリミ
ドベンズイミダゾール誘導体が提供される。
R1 〔式中R1は水素原子、低級アルキル基、低級アルコキ
シカルボニル基、カルボキシル基又はフェニル基を、R
2は水素原子又は低級アルキル基を、R3は水素原子、
低級アルキル基又は低級アルカノイル基を、R4は低級
アルキル基をそれぞれ示す。〕 本明細書において、低級アルキル基としては、例えばメ
チル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソ
ブチル、tert−ブチル、ペンチル、ヘキシル基等を
例示できる。
低級アルコキシカルボニル基としては、例えばメトキシ
カルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニ
ル、イソプロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、
tert−ブトキシカルボニル、ペンチルオキシカルボ
ニル、ヘキシルオキシカルボニル基等を例示できる。
低級アルカノイル基としては、例えばアセチル、プロピ
オニル、ブチリル、インブチリル、バレリル、イソバレ
リル、ピバロイル、ヘキサノイル基等を例示できる。
上記一般式(1)で表わされる本発明の化合物は、例え
ば抗炎症、抗リウマチ、抗アレルギー等の薬理作用を示
し、従って抗炎症剤、抗リウマチ剤、抗アレルギー剤等
の医薬品として有用である。
本発明のピリミドベンズイミダゾール誘導体は、各種の
方法により製造することができる。その具体例を下記反
応工程式に示す。
く反応工程式−1〉 H (1a) 〔式中、R+ 、R2及びR4は前記に同じ。
R5′、R5“及びR5″′はそれぞれ低級アルキル基
を示す。〕 上記反応工程式−1に示す縮合反応は、公知の方法、例
えばライカーら(A、 Re1ker et at、)
によるテトラヘドロン[T etrahedron、 
23 。
3723 (1967)]に記載の方法や、フイグエラ
スら(J、 Figueras et al、)による
ジャーナル オブ オーガニック ケミストリー[J。
Org、  Chem、、  36. 3497  (
1971)  コ に記載の方法に準じて実施すること
ができる。より詳細には、上記縮合反応は、例えば酢酸
、三弗化硼素・エチルエーテル錯体(BF3 ・Et2
0>等を触媒として用い、化合物(2)に対して化合物
(3)を約1〜′5倍モル量使用して、無溶媒で、もし
くはテトラヒドロフラン(THF> 、ジエチルエーテ
ル、ジオキサン等のエーテル類、クロロホルム、1.2
−ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、ベンゼン
、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類等の適当な
溶媒中で、約30〜200″Cの温度範囲で実施できる
上記により得られる化合物(4)は、これを反応系内よ
り単離することなく、引続く還元反応に供することがで
きるが、勿論単離してもよい。
上記に引続く化合物(4)の還元反応は、通常の方法に
従い、例えば上記反応生成物を水中に移し、約2〜50
倍モル量のハイドロサルファイドナトリウム(Na23
204 )水溶液を添加反応させることにより実施でき
る。また上記還元反応は酢酸中で亜鉛末を用いる方法や
、酢酸エチル、アルコール、THF、水等の適当な溶媒
中で、パラジウム−炭素、白金(PiO2)等を触媒と
して接触水添する方法等によっても実施することができ
る。かくして、化合物(5)を収得できる。
得られる化合物(5)は、これに化合物(6)を反応さ
せることにより化合物(7)に誘導できる。この反応は
、化合物(5)に対して約1〜2倍モル量の化合物(6
)を用いて、THF、ジオキサン等のエーテル類、ベン
ゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、メタ
ノール、エタノール、プロパツール等の低級アルコール
類等の適当な溶媒中、室温〜速流温度範囲で、両者を撹
拌することにより実施できる。
上記反応により得られる化合物(7)から化合物(8)
を導く反応は、塩酸水溶液、硫酸水溶液等の適当な酸溶
媒中で実施できる。該反応の温度条件としては、空温〜
溶媒の沸点付近の温度が採用できる。
かくして得られる化合物(8)と化合物(9)との反応
は、前者に対して後者を約1〜2倍モル量用い、メタノ
ール、エタノール等の低級アルコール類、ジメチルホル
ムアミド(DMF>等の適当な溶媒中で、室温〜速流温
度付近の温度で撹拌することにより実施され、この反応
により所望の化合物(1a)を収得できる。
く反応工程式−2〉 RI             R1 (lc)(1d> 〔式中、R1、R2及びR4は前記に同じ。R6及びR
7はそれぞれ低級アルキル基を示す。〕反応工程式−2
によれば、化合物(1a)のアルキル化反応により化合
物(1b)を、アシル化反応により化合物(1C)を、
加水分解反応(但しR1がCO2R5′でおる化合物(
1a)の場合)により化合物(1d)をそれぞれ収得で
きる。
上記アルキル化反応は、通常の方法に従い、例えばDM
F、THF等の適当な溶媒中で、−78〜O′Cの温度
条件下に、化合物(1a)に対して当モル量の水素化ナ
トリウム、リチウムジイソプロピルアミン等の塩基を反
応させて、該化合物(1a)の水酸基プロトンを脱プロ
トンし、次いで反応系内に上記化合物(1a)に対して
当モル量のアルキルハライドを添加して反応させること
により実施される。
上記アシル化反応も、通常の方法に従い、例えば化合物
(1a)を無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸等の
適当な酸無水物中で、塩酸、硫酸等の通常の酸触媒の存
在下に、空温〜約100’Cの温度範囲で反応させるこ
とにより実施できる。
また、上記加水分解反応も、常法に従い実施でき、特に
アルカリ金属の水酸化物を用いたアルカリ加水分解法に
よるのが好ましい。このアルカリ金属水酸化物は、化合
物(1a)に対して通常等モル〜約20倍モル量程度用
いられるのが好ましく、反応はアルコール類、水、之等
の混合溶媒中で、通常室温下に実施され得る。
上記各反応工程式に示す反応により得られる本発明化合
物は、慣用の分離手段により容易に単離精製することが
できる。該分離手段としては、例えば溶媒抽出法、再結
晶法、カラムクロマトグラフィー等を例示できる。
また、本発明化合物はこれに常法に従い適当な酸性化合
物を付加反応させることにより、容易に医薬的に許容さ
れる酸付加塩とすることができ、該酸付加塩は遊離形態
の本発明化合物と同様の薬理活性を有しており、本発明
はかかる酸付加塩をも包含する。上記酸付加塩を形成し
得る酸性化合物としては、例えば塩酸、硫酸、リン酸、
臭化水素酸等の無@酸及びシュウ酸、マレイン酸、フマ
ール酸、リンゴ酸、酒石酸、クエン酸、安息香酸、ベン
ゼンスルホン酸等の有機酸を例示できる。更に本発明化
合物中、遊離のカルボキシル基を有するものは、これを
常法に従いアルカリ金腐塩、例えばナトリウム塩、カリ
ウム塩等、アルカリ土類金屈塩、例えばカルシウム塩、
マグネシウム塩等、その他銅塩等とすることができ、之
等も遊離形態の本発明化合物と同様の薬理活性を有して
おり、本発明範囲内に包含される。
X−一厘一一1 以下、本発明を更に詳しく説明するため、本発明化合物
の製造例を実施例として挙げる。
実施例1 4−フェニル−10−(3,5−ジーtert−7チル
ー4−ヒドロキシフェニル)−2−オキソ−2日−ピリ
ミド(2,1−b)ベンズイミダゾールの製造 2.6−シーtert−ブチル−1,4−ベンゾキノン
37及びO−フェニレンジアミン2.5qをTHF 7
0rllf2に溶解し、これに三弗化硼素・エーテル錯
体[BF3 ・Et20] 0.3mQを加え、15時
間遠濃させた。濃縮して得られる粗生成物をカラムクロ
マトグラフィー(展開溶媒;ジエチルエーテル:ヘキサ
ン=1=10)で精製して、赤紫色結晶を得た。
これをTHF130mQに溶かし、得られた液に室温下
にNa2320415Qの水溶液130mGを加え、1
0分間撹拌した。その後、水を加え、ジエチルエーテル
にて抽出し、有機層を乾燥(MgS04)し、濃縮した
。得られた結晶5.3gをエタノール100n+(2に
溶解し、1,3−ジ(カルボエトキシ>−S−メチルイ
ソチオウレア1.95gを加え、211時間還流た。反
応液に水を加え、クロロホルム抽出し、濃縮後、カラム
クロマトグラフィー(展開溶媒:クロロホルム:酢酸エ
チル−30:1)で精製して、2.50の結晶を得た。
得られた結晶2.5gを、製塩1150m12中で3.
5時間還流し、冷接、水散化ナトリウム水溶液を加えて
アルカリ性とし、クロロホルムで抽出した。乾燥濃縮後
、カラムクロマトグラフィー(展開溶媒;クロロホルム
:メタノール−50:1)で精製して、’I−(3,5
−ジーtert−ブチルー4−ヒドロキシフェニル)−
3−アミノ−ベンズイミダゾール1.OO及び1− (
3−tert −ブチル−4−ヒドロキシフェニル)−
3−アミノ−ベンズイミダゾール300mgの各々を得
た。
上記で得られた1−(3,5−ジーtert−ブチルー
4−ヒドロキシフェニル)−3−アミノ−ベンズイミダ
ゾール1gと共に、フェニルプロピオン酸エチル567
mgをDMF21回に溶解し、125℃で18時間撹拌
した。水を加えた後、酢酸エチルで抽出した。乾燥濃縮
後、カラムクロマトグラフィー(展開溶媒;クロロホル
ム:メタノール−25:1)で精製して、目的化合物6
00mgを得た。
得られた化合物の構造及び物性(融点及び1日−NMR
値)を第1表にN011として示す。
実施例2〜6 実施例1と同様にして、第1表に示す各化合物(化合物
No、2〜化合物No、6>を製造した。
各化合物の物性を第1表に併記する。
実施例7 4−メチル−10−(4−アセトキシ−3,5−ジーt
ert−ブチルフェニル)−2−オキソ−2H−ピリミ
ド(2,1−b)ベンズイミダゾールの製造 4−メチル−10−(3,5−ジーtert−ブチルー
4−ヒドロキシフェニル)−2−オキソ−2日−ピリミ
ド(2,1−b)ベンズイミダゾール300m1llに
、無水酢酸1脱及び濃硫酸3滴を加え、80’Cで3時
間撹拌した。冷接、NaHCO3水溶液を加え、クロロ
ホルムにて抽出した。乾燥濃縮後、カラムクロマトグラ
フィー(展開溶媒;クロロホルム:メタノール=25:
1)にて精製して、目的化合物280mpを得た。
得られた化合物の構造及び物性を第1表にNo。
7として示す。
実施例8 実施例7と同様にして、第1表に示す化合物を製造した
。その物性を第1表に併記する。
実施例9 4−ヒドロキシカルボニル−10−(3,5−ジー t
ert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)−2−オキ
ソ−2日−ピリミド(2,1−b)ベンズイミダゾール
の製造 4−メトキシカルボニル−10−(3,5−ジー te
rt−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)−2−オキソ
−2日−ピリミド(2,1−b)ベンズイミダゾール1
00m(lをメタノール1四に溶解し、1N  NaO
H水溶液3滴を加え、空温にて3時間撹拌した。冷接、
酢酸を加えて中性とし、濃縮した。これをカラムクロマ
トグラフィー(展開溶媒;クロロホルムニメタノール−
5:1〉にT精製して、目的化合物80mgを得た。
得られた化合物の構造及び物性を第1表にNo。
9として示す。
実施例10 4−フェニル−10−(3,5−ジーtert−ブチル
ー4−メトキシフェニル)−2−オキソ−2H−ピリミ
ド(2,1−b)ベンズイミダゾールの製造 水素化ナトリウム’15m(Jを含むDMF懸濁液0.
5鵬に、DMF2.5m2に溶解させた4−)1二ルー
1O−(3,5−ジーtert−ブチル、−4−ヒドロ
キシフェニル)−2−オキソ−2日−ピリミド(2,1
−b)ベンズイミダゾール465mgを、水冷下に加え
、室温にて15分間撹拌した。
これにヨウ化メチル83mgを加え、室温で5時間撹拌
した。水を加え、酢酸エチルで抽出し、乾燥後、濃縮し
た。これをカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:クロ
ロホルム:メタノール−25:1)にて精製して、目的
化合物380maを得た。
得られた化合物の構造及び物性を第1表にNo。
10として示す。
第  1  表

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中R^1は水素原子、低級アルキル基、低級アルコ
    キシカルボニル基、カルボキシル基又はフェニル基を、
    R^2は水素原子又は低級アルキル基を、R^3は水素
    原子、低級アルキル基又は低級アルカノイル基を、R^
    4は低級アルキル基をそれぞれ示す。〕 で表わされるビリミドベンズイミダゾール誘導体。
JP3213087A 1987-02-13 1987-02-13 ピリミドベンズイミダゾ−ル誘導体 Granted JPS63198685A (ja)

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JPH0476993B2 JPH0476993B2 (ja) 1992-12-07

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