JPS62201861A - アミノフエノ−ル誘導体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 腹１ユ１日＋ｉｍ旦Ｉ一 本発明は、新規なアミンフェノール誘導体及びその塩に
関する。

来　　の　　技　　術 本発明に係わる化合物は、文献未記載の新規化合物であ
る。

発明が解決しようとする問題点 本発明は、後記するように医薬品として有用な化合物を
提供することを目的とする。

問題点を解決するための手段 本発明によれば、下記一般式（１）で表わされる化合物
及びその塩が提供される。

（０）　ｎ 〔式中Ｒ１は置換基として低級アルキル基、ハロゲン原
子、カルボキシル基、低級アルコキシカルボニル基、ヒ
ドロキシ低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、
低級アルコキシカルボニル低級アルキル基、基 す）、シクロアルキルカルバモイル基、低級アルコキシ
基及び低級アルキルカルボニルアミノ基から選ばれる基
を有することのあるフェニル基、フェニル低級アルキル
基、ピリジル基又は置換基としτ低級アルキル基を有す
るイミダゾリル基を示す。Ｒ２及びＲ３はそれぞれ水素
原子を示すか又は両者が結合して〉Ｃ−０基を示す。ｎ
は０．１又は２を示す。

但しＲ２及びＲ３が同時に水素原子で且つｎがＯの場合
、Ｒ管は４位メチル基を有するフェニル基であってはな
らない。〕 本明細書において、低級アルキル基としては、例えばメ
チル、エチル、プロピル、イソブＯビル、ブチル、イソ
ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル基等の
直鎖又は分枝鎖状アルキル基を例示できる。

ヒドロキシ低級アルキル基としては、例えばヒドロキシ
メチル、１−ヒドロキシエチル、２−ヒドロキシエチル
、３−ヒドロキシプロピル、２−ヒドロキシブチル、３
−ヒドロキシブチル、４−ヒドロキシブチル、５−ヒド
ロキシペンチル、２−ヒドロキシペンチル、３−ヒドロ
キシペンチル、４−ヒドロキシペンチル、６ローヒドロ
キシヘキシル、２−ヒドロキシヘキシル、３−ヒドロキ
シヘキシル、４−ヒドロキシヘキシル、１−メチル−２
−ヒドロキシエチル、２−ヒドロキシプロピル、１．１
−ジメチル−２−とドロキシエチル、１゜２−ジヒドロ
キシエチル、２．２−ジヒドロキシエチル、１．３−ジ
ヒドロキシプロピル、２．３−ジヒドロキシプロピル、
１．２．３−トリヒドロキシプロピル、１．４−ジヒド
ロキシブチル、２．４−ジヒドロキシブチル、３．４−
ジヒドロキシブチル、１．２−ジヒドロキシブチル、２
゜３−ジヒドロジブチル、１．３−ジヒドロキシブチル
、２，２−ジヒドロキシブチル、１．２．３−トリヒド
ロキシブチル、２，３−ジヒドロキシヘキシル、２．５
−ジヒドロキシヘキシル、２゜６−ジヒドロキシヘキシ
ル、３．４−ジヒドロキシヘキシル、４．５−ジヒドロ
キシヘキシル、４゜６−ジヒドロキシヘキシル、２．３
．４−トリヒドロキシヘキシル、３．４．５−トリヒド
ロキシへキシル、４．５．６−トリヒドロキシへキシル
基等を例示できる。

カルボキシ低級アルキル基としては、例えばカルボキシ
メチル、１−カルボキシエチル、２−力ルボキシエチル
、３−カルボキシプロピル、２−カルボキシブチル、３
−カルボキシブチル、４−カルボキシブチル、５−カル
ボキシペンチル、２−カルボキシペンチル ４−カルボキシペンチル、６−カルボキシヘキシル、２
−カルボキシヘキシル、３−カルボキシヘキシル、４−
カルボキシヘキシル、１−メチル−２−カルボキシエチ
ル、２−カルボキシプロピル、１、１−ジメチル−２−
カルボキシエチル、１。

２−ジカルボキシエチル エチル、１．３−ジカルボキシプロビル、２．３−ジカ
ルボキシプロピル、１，２．３−トリカルボキシプロピ
ル ２、４−ジカルボキシブチ６ル キシブチル、１，２−ジカルボキシブチル、２。

３−ジカルボキシブチル ブチル、２．２−ジカルボキシブチル ３−トリカルボキシブチル ヘキシル ６−ジカルボキシヘキシル、３，４−ジカルボキシヘキ
シル、４．５−ジカルボキシヘキシル６−ジカルボキシ
ヘキシル、２．３．４４リカルボキシヘキシル、３，４
．５−トリカルボキシヘキシル、４．５．６−ドリカル
ボキシヘキシル基等を例示できる。

ハロゲン原子としては、例えば弗素、塩素、臭素及び沃
素原子を例示できる。

低級アルコキシ基としては、例えばメトキシ、エトキシ
、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、ｔｅｒｔ−
ブ１へキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ基等を例
示できる。

低級アルコキシカルボニル基としては、例えばメトキシ
カルボニル ポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、７１−
キシカルボニル ペンチルオキシカルボニル、ヘキシルオキシカルボニル
基等を例示できる。

低級アルコキシカルボニル低級アルキル基としては、例
えばメトキシカルボニルメチル、エトキシカルボニルメ
チル、プロポキシカルボニルメチル、イソプロポキシカ
ルボニルメチル ルボニルメチル チル、ペンチルオキシカルボニルメチルルオキシカルボ
ニルメチル、メトキシカルボニルエチル、１−メトキシ
カルボニルエチルシカルボニルエチル、１−エトキシカ
ルボニルエチル、プロポキシカルボニルエチル、イソブ
ロボキシ力．ルポニルエチル、ブトキシカルボニルエチ
ル、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルエチル、１　−　ｔ
ｅｒｔーブトキシ力ルポニルエチル、ペンチルオキシカ
ルボニルエチル、ヘキシルオキシカルボニルエチル、メ
トキシカルボニルプロピル、エトキシカルボニルプロビ
ル、プロポキシカルボニルブチル、イソブロボキシカル
ボニルブロビル、ブトキシカルボニルプロビル、ｔｅｒ
ｔ−ブトキシカルボニルプロビル、ペンチルオキシカル
ボニルプロビルキシルオキシカルボニルプロビル、メト
キシカルボニルイソプロビル、エトキシ力ルポニルイソ
ブロビル、プロボキシカルポ二ルイソブロビル、イソブ
ロボキシカルボニルイソブロビル、ブトキシカルボ二ル
イソブＯビル、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルイソブロ
ビル、ペンチルオキシカルボニルイソプロビル、ヘキシ
ルオキシカルボニルイソプロビル、メトキシカルボニル
ブチル、１−メトキシカルボニルブチル、２−メトキシ
カルボニルブチル、エトキシカルボニルブチル ルボニルブチル、２−エトキシカルボニルブチル、３−
エトキシカルボニルブチル ボニルブチル、インプロポキシカルボニルブチル、ブト
キシカルボニルブチル、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル
ブチル、ペンチルオキシカルボニルブチル、さキシルオ
キシカルボニルブチル ボニルペンチル、エトキシカルボニルペンチル、プロポ
キシカルボニルベンチル カルボニルベンチル、ブトキシカルボニルペンチル、ｔ
ｅｒｔ−ブトキシカルボニルペンチル、ペンチルオキシ
カルボニルペンチル ルボニルペンチル、メトキシカルボニルヘキシル、エト
キシカルボニルヘキシル ボニルヘキシル、２−工１−キシカルボニルヘキシル、
３−エトキシカルボニルヘキシル、４−エトキシカルボ
ニルヘキシル、プロポキシカルボニルヘキシル、イソプ
ロポキシカルボニルヘキシルブトキシカルボニルヘキシ
ル、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルヘキシル、ペンチル
オキシカルボニルヘキシル、ヘキシルオキシカルボニル
ヘキシル基等を例示できる。

低級アルキレン基としては、例えばトリメチレン、テト
ラメチレン、ペンタメチレン、ヘキサメチレン基を例示
できる。

シクロアルキルカルバモイル基としては、例えばシクロ
プロピルカルバモイル、シクＯブチルカルバモイル、シ
クロペンチルカルバモイル、Ｎ。

Ｎ−ジシクロペンチルカルバモイル、シクロヘキシルカ
ルバモイル、Ｎ、Ｎ−ジシクロへキシルカルバモイル、
シクロヘプチルカルバモイル、シクロオクチルカルバモ
イル基を例示できる。

低級アルキルカルボニルアミノ基としては、例えばメチ
ルカルボニルアミノ、エチルカルボニルアミノ、プロピ
ルカルボニルアミノ、イソブチルカルボニルアミノ、ブ
チルカルボニルアミノ、イソブチルカルボニルアミノ、
ｔｅｒｔ−ブチルカルボニルアミノ、ペンチルカルボニ
ルアミノ、ヘキシルカルボニルアミノを例示できる。

フェニル低級アルキル基としては、例えばベンジル、フ
ェネチル、１−フェニルプロピル、２−フェニルプロピ
ル、３−フェニルプロピル、３−フェニルブチル、４−
フェニルブチル、２−メチル−３−フェニルプロピル、
５−フェニルペンチル、６−フェニルヘキシル基等を例
示できる。

置換基として低級アルキル基を有するイミダゾリル基と
しては、例えばメチルイミダゾリル、エチルイミダゾリ
ル、ブチルイミダゾリル、イソプロピルイミダゾリル、
ブチルイミダゾリル、イソブチルイミダゾリル、ｔｅｒ
ｔ−ブチルイミダゾリル、ペンチルイミダゾリル、ヘキ
シルイミダゾリル基等を例示できる。

上記一般式（１）で表わされる本発明の化合物及びその
塩は、動物、とりわけ哺乳動物に対して、例えば抗腎炎
、抗慢性関節リウマチ等の抗自己免疫疾患作用の他、抗
アレルギー、抗炎症、解熱、鎮痛、利尿、血小板凝集阻
止、血圧降下等の薬理作用を示し、従って、これは例え
ば腎炎治療剤、抗慢性関節リウマチ剤等の自己免疫疾患
の予防及び治療剤として、また抗アレルギー剤、抗炎症
剤、解熱鎮痛剤、利尿剤、抗血栓剤、脳循環器系改善剤
、降圧剤等の医薬として有用である。

本発明のアミノフェノール誘導体は、例えば下記反応工
程式に示す方法により製造することができる。

〈反応工程式−１〉 Ｒ 〔式中Ｒ１は前記に同じ。Ｒは低級アルキル基を示す。

〕 反応工程式−１によれば、公知の化合物（２）、例えば
５−り０ｏ−２−ニトロアニソールと、チオール類（３
）との縮合反応により、化合物（４）を製造できる。該
反応は、通常塩基の存在下、適当な溶媒中で実施される
。塩基としては、例えば水素化ナトリウム等のアルカリ
金属水素化物、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエト
キシド、カリウム第三級ブトキシド等のアルカリ金属ア
ルコキシド、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素
ナトリウム、炭酸水素カリウム、酢酸ナトリウム、酢酸
カリウム等のアルカリ金属の炭酸塩又は酢酸塩等及びピ
リジン、トリエチルアミン等のアジン類を使用できる。

之等の塩基は化合物（２）に対して通常約１〜１０倍モ
ル量、好ましくは約１〜２倍モル量の範囲で用いられる
のが望ましい。

溶媒としては、例えばＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド（
ＤＭＦ）、ピリジン、リン酸へキサメチルトリアミド（
ＨＭＰＡ）、テトラヒドロフラン？ＴＨＦ）　、メタノ
ール、エタノール、水等を使用できる。チオール類（３
）は、化合物（２）に対して、通常約１〜５倍モル量の
範囲で用いられるのがよく、反応は、空温〜溶媒の沸点
範囲の温度で進行する。

〈反応工程式−２〉 Ｈ （１ａ　） 〔式中Ｒ及びＲ１は前記に同じ。〕 上記反応工程式−２によれば、化合物（４）を脱アルキ
ル（脱メチル）化して隼合物（５）を得、次いで該化合
物（５）のニトロ基の還元反応により化合物（１ａ）を
製造できる。

上記脱アルキル化反応は、例えば三臭化ホウ素（ＢＢｒ
３）、三塩化ホウ素（ＢｅＯ２）等のトリハロゲノボラ
ンを用いる通常の方法により実施できる。具体的には、
例えばジクロルメタン、クロロホルム等の溶媒中で、化
合物（４）と、該化合物（４）に対して約１／３〜６倍
モル量のトリハロゲノボランとを、約−８０℃〜３０℃
の温度範囲で反応させる方法を例示できる。

上記反応により得られる化合物（５）のニトロ基の還元
反応は、例えばハイドロサルファイドナトリウム（Ｎａ
　２８２０＆　）を、化合物（５）に対して約１〜５０
倍モル量溶解した水溶液と、化４合物（５）とを、エー
テル、ＴＨＦ、ジオキサン、エタノール、メタノール等
の適当な溶媒と共に撹拌することにより行なわれる。本
反応は、所望によりアンモニア水を加えても好適に実施
することができる。

ぐ反応工程式−３〉 Ｒ （式中Ｒは前記に同じ。Ｌはカルボキシル基、カルボキ
シ低級アルキル基又はアミノ基を示す。Ｍは低級アルコ
キシカルボニル基、低級アルコキシカルボニル低級アル
キル基、基〆一＼ Ｚ　　Ｎ−Ｇｏ−（Ｚは低級アルキレン基を示１＼−〕
′ す）、低級アルキル力ルポニルアミムＬカルバモイル基
又はシクロアルキルカルバモイル基を示す。〕 反応工程式−３は、前記した化合物（４）の内で、Ｒ１
基が上記し又はＭで示される各置換基を有するフェニル
基である各化合物（４′）及び麺（４″）が、該置換基
相互の変換反応によっても毎々製造できることを示すも
のである。

化合物（４′）のエステル化反応は、Ｌがカルボキシル
基又はカルボキシ低級アルキル基である化合物（４′）
につき行なわれるものである。該エステル化反応は、通
常の方法、例えば塩酸、硫酸、ｐ−トルエンスルホン酸
、三弗化硼素エーテＡｔ錯体（ＢＦ３　・（０２Ｈ５）
２０）等の酸触媒の存在下に低級アルコールと共に加熱
反応させる方法、或いは化合物（４′）に対して約１〜
１０倍モル量の塩基性化合物、例えばピリジン、トリエ
チルアミン、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、
炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、酢酸ナトリウム、酢酸
カリウム等の存在下に、不活性溶媒、例えばＤＭＦ、Ｈ
ＭＰＡ１ジメチルスルボキシド（ＤＭＳＯ）、ピリジン
、クロロホルム、ジクロルメタン、ＴＨＦ、酢酸エチル
、ベンゼン、トルエン等の溶媒中で、低級アルキルハラ
イドの１〜１０倍モル量（対化合物（４’））を反応さ
する方法等により実施できる。

アシル化反応は、Ｌが７ミノ基である化合物（４′）に
ついて通常の方法に従い実施される。

例えば、化合物（４′）に対して約１〜１０倍モル量の
塩基性化合物、例えばピリジン、トリエチルアミン、炭
酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸ナトリウム
、炭酸カリウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム等の存
在下に、不活性溶媒、例えばピリジン、クロロホルム、
ジクロルメタン、ＴＨＦ、酢酸エチル、ベンゼン、トル
エン等の溶媒中で、無水酢酸、無水プロピオン酸等の低
級アルキルカルボン酸無水物又は対応する低級アルキル
カルボン酸ハライドの１〜１０倍モル量（対化合物（４
’））を反応させる方法等により実施できる。

アミド化反応は、Ｌがカルボキシル基又はカルボキシ低
級アルキル基である化合物（４′）について、通常のア
ミド結合形成反応に従い実施できる。即ち、該反応は、
例えば酸りＯライド法、混合酸無水物法、活性エステル
法、Ｎ、Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣ
Ｃ）法、アジド法、シアンリン酸ジエチル法等に従い実
施できる。

上記シアノリン酸ジエチル法につき詳述すれば、該方法
は、例えばＤＭＦｌＴＨＦ、酢酸エチル等の反応溶媒中
、化合物（４′）に対して約１〜１．５倍モル量の対応
するアミン、約１〜１．２倍モル量のシアノリン酸ジエ
チル及び約１〜５倍モル量の有機アミン、例えばトリエ
チルアミン、ピリジン等を用いて行なわれる。

また化合物（４”）の加水分解反応は、常法に従い例え
ば塩酸、ｆＲ酸等の鉱酸水溶液中で加熱する方法、又は
例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の水酸化ア
ルカリ水溶液中、メタノール、エタノール等の溶媒の存
在下に、約り℃〜溶媒の沸点範囲の温度で処理する方法
により実施できる。

〈反応工程式−４〕 （式中Ｌ′はカルボキシル基又はカルボキシ低級アルキ
ル基を示す。Ｍ′は低級アルコキシカルボニル基又は低
級アルコキシカルボニル低級アルキル基を示す。Ｐはと
ドロキシ低級アルキル基を示す。） 反応工程式−４に示す方法によれば、化合物遣（５）の
内、Ｒ１が上記Ｍ′又はＬ′で示される置換基を有する
フェニル基である化合物（５′）又は（５“）の還元反
応により、化合物（１ｂ）が製造される。

上記化合物〈５′）及び（５″）の還元反応は、通常の
カルボン酸及びエステルの還元反応に利用されるＬｉＡ
ＱＨａを用いる方法に従い容易に実施できる。即ち、エ
ーテル、ＴＨＦ等の溶媒中で約１〜１０倍モル量の上記
Ｌ！ＡＱＨｔを用いて原料化合物を０℃〜溶媒の沸点範
囲の温度で還元処理し、次いでＮａ２５２ＯＡ水溶液を
加えることにより行ない得る。

また化合物（５′　）から化合物（５”　）を誘導する
加水分解反応は、前記反応工程式−３で述べた化合物（
４“）の加水分解反応と同様にして実施できる。

く反応工程式−５〉 （５”’）　　　　　　　　　　　　（ＩＣ）（式中Ｒ
１は前記に同じ。ｍは１又は２を示す。〕反応工程式−
５に示す方法によれば、化合物−（５）又は化合物（１
ａ）を酸化反応させることにより、各々対応するスルフ
ィニル体（ｍ−ｉ）及びスルホニル体（Ｒ−２）である
化合物（５”’　）及び化合物（１Ｃ）を製造すること
ができる。

上記酸化反応は、例えばクロロホルム、ジクロルメタン
、四塩化炭素、酢酸、水及び之等の混合溶媒等の溶媒中
、ｍ−クロル過安息香酸、過酢酸等の有機過酸、過酸化
水素水等の無機過酸を用いて実施できる。過酸の使用思
は目的化合物のｍが１であるか２であるかにより、原料
化合物に対して等モル量〜約３倍モル量の範囲から、適
宜選択される。

上記により得られる化合物（５”　’）は、またこれを
前記したＮａ　２３２０を水溶液を用いたニトロ基の還
元反応に供することによって、化合物（１Ｃ）に変換す
ることができる。

〈反応工程式−６〉 （１）　　　　　　Ｙ’　　　（６） Ｈ（１ｄ） 〔式中Ｒ１は前記に同じ。Ｙ及びＹ′は同−又は異なっ
てハロゲン原子、低級アルコキシ基又はハロゲノ置換低
級アルコキシ基を示す。〕反反応工程−６によれば、化
合物（１）に化合物（６）を反応させることにより、化
合物（１ｄ）を製造できる。ここで用いられる化合物（
６）としては、通常ホスゲン、クロロギ酸トリクロロメ
チル、りＯロギ酸メチル、クロロギ酸エチル等を例示で
きる。反応は通常不活性溶媒中、化合物（１ｄ）に対し
て約１〜５倍モル量の塩基及び約１〜５倍モルｍの化合
物（６）を用いて行なわれる。溶媒としては、例えばア
セトン、クロロホルム、ジクロルメタン、ＴＨＦ、ベン
ゼン、酢酸エチル、ピリジン、トリエチルアミン等を、
塩基としては、例えば炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、
炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、酢酸ナトリウ
ム、酢酸カリウム、トリエチルアミン、ピリジン等をそ
れぞれ例示できる。反応温度としては、一般に一り０℃
〜溶媒の沸点範囲の温度が採用できる。

上記各反応工程式に示す反応により得られる目的化合物
及び本発明化合物は、慣用の分離手段により容易に単ｍ
精製できる。該分離手段としては、例えば溶媒抽出、再
結晶、カラムクロマトグラフィー等を例示できる。

またかくして得られる本発明化合物は、容易に医薬的に
許容される酸付加塩とすることができ、該酸付加塩は遊
離形態の本発明化合物と同様の薬理活性を有しており、
本発明はかかる酸付加塩をも包含する。上記酸付加塩を
形成する酸性化合物としては、例えば塩酸、硫酸、リン
酸、臭化水素酸等の無機酸及びマレイン酸、フマール酸
、リンゴ酸、酒石酸、クエン酸、安息香酸等の有ａｍを
例示できる。

！−一」Ｌ−−」− 以下、本発明化合物の製造のための原料化合物の製造例
を参考例として挙げ、次いで本発明化合物の製造例を実
施例として挙げる。

参考例１ ２−ニトロ−５−フェニルチオアニソール［化合物（４
８）　］の製造 ５−クロロ−２−ニトロアニソール１８．７ｏ、チオフ
ェノール１２．０（１、炭酸カリウム（無水）１４．０
！］及びＤＭＦ１５０鵬を混合し、混合物を１００℃で
２０時間、撹拌下に加熱し、その後、反応混合物を水に
移し、酢酸エチルで抽出し、有機層を水洗し、乾燥（ｌ
ｖｆｏ、ｓＯｔ　）　Ｌ、濃縮して得られた結晶をエー
テルで洗いながら枦取して、目的化合物２０ｇを淡黄色
結晶として得た。

融点　１０７〜１０９℃ 参考例２〜１４ 上記参考例１と同様にして、第１表に示す化合物Ｎ０．
４ｂ〜４ｎの各化合物を得た。

参考例１５ ５−（２−シクロへキシルアミノカルボニルフェニルチ
オ）−２−ニトロアニソール［化合物４０１の製造 ２−（３−メトキシ−４−ニトロフェニルチオ）安息香
酸２ｇ、シクロヘキシルアミン７２０ｍＱ及びシアノリ
ン酸ジエチル（ＤＥＰＣ）１．２１を、ＤＭＦ５０ｍＱ
に溶解し、水冷、撹拌下にトリエチルアミン７５０１Ｇ
のＤＭＦ５ｍ１２溶液をゆつくり滴下し、その後、２０
時間空温にて撹拌した。

反応混合物を水に移し、酢酸エチルで抽出し、有職層を
水洗し、乾燥（Ｍ！Ｊ、ＳＯ４）　し、濃縮して得られ
る粗生成物を、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（
ジクロルメタン−ジクロルメタン：酢酸エチル−１：１
）で精製して、目的化合物１．８ｇを白色結晶として得
た。

融点　１２６〜１２８℃ 参考例１６ ５−（２−ピペリジノカルボニルフェニルチオ）−２−
ニトロアニソール［化合物４ｐｌの製造上記参考例１５
と同様にして目的化合物を合成した。

融点　１４４〜１４６℃ 参考例１７ ５−（２−エトキシカルボニルフェニルチオ）−２−ニ
トロアニソール［化合物４Ｑ］の製造２−（３−メトキ
シ−４−二トロフェニルチオ）安息香１６．２ａ　、エ
チルブロマイド２．９ｇ、炭酸カリウム４．２Ω及びＯ
ＭＦ１００或を２０時間室温にて撹拌した。反応混合物
を水に移し、酢酸エチルで抽出し、有職層を水洗し、乾
燥（Ｍｑ　Ｓｏｄ　）Ｌ、濃縮して得られる粗生成物を
、ジクロルメタン−〇−ヘキサン混合溶媒から再結晶し
て、目的化合物５．１ｇを白色結晶として得た。

融点　１１０〜１１１℃ 参考例１８ ５−（４−アセトアミノフェニルチオ）−２−二トロア
ニソール［化合物４「１の製造 参考例１においてチオフェノールの代りに４−アミノチ
オフェノールを用いて製造した５−（４−アミノフェニ
ルチオ）−２−ニトロアニソール１．８ｇ及びトリエチ
ルアミン９００ｕをクロロホルム１００−に溶解し、室
温、撹拌下にアセチルクロライド１．Ｏｇをゆっくり滴
下し、更に、３時間撹拌を続けた後、反応混合物を水に
移し、クロロホルムで抽出し、有１層を３％塩酸、５％
炭酸水素ナトリウム水溶液及び水で順次洗浄し、乾燥（
Ｍ！７８０４　）　し、濃縮して得られる粗生成物を、
シリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム：
酢酸エチル−１０：１→７：１）で精製して、目的化合
物１．６ｇを白色結晶として得た。

融点　１３５．５〜１３７．５℃ 上記各参考例（参考例１〜１８）で得た化合物及びそれ
らの物性（＠点又はＮＭＲ）を下記第１表に示す。

第　　１　　表 参考例１９ ２−ニトロ−５−フェニルチオフェノール［化合物５８
１の製造 ２−ニドｏ−５−フェニルチオアニソール５８２ｇのジ
クロルメタン１２０ｍＱ溶液に、−７８℃にて、ＢＢｒ
　３５．５ｇのジクロルメタン５回溶液を加え、更に２
０分間撹拌を続けた後、反応混合物を水に移し、ジクロ
ルメタンで抽出し、有ａｍを水洗し、乾燥（ＭｇＳＯ４
）し、濃縮して得られる結晶を、エーテル：ｎ−ヘキサ
ン混合溶媒から再結晶して、目的化合物３．９ｇを得た
。

融点　９３〜９４．５℃ 参考例２０〜３６ 参考例１９と同様にして下記第２表に示す各化合物を得
た。

尚、第２表には上記参考例１９で得た化合物も併記する
。

第　　２　　表 Ｏト（ 参考例３７ ２−　（４−（３−ヒドロキシ−４−二トロフェニルチ
オ）フェニル〕プロピオンＭ［化合物５ｓ］の製造 ２−　（４−（３−ヒドロキシ−４−ニトロフェニルチ
オ）フェニル〕プロピオン酸エチル２．３ｇをエタノー
ル１００−に溶解し、ｖ温、撹拌下に水酸化ナトリウム
１．６ｇの水３０鯨水溶液を加え、更に２．５時間撹拌
を続けた。３％塩酸にて酸性とした後、クロロホルムで
抽出し、有機層を乾燥（ＩＶＨＩ　ＳＯＡ　）　シ、、
１ｇ１１縮して得られる結晶をｎ−ヘキサンで洗浄して
、目的化合物１．７ｇを得た。

融点　１２８〜１３０℃ 参考例３８ ２−ニトロ−５−フェニルスルフィニルフェノール［化
合物５ｔｌの製造 ２−ニトロ−５−フェニルチオフェノール１Ｑのジクロ
ルメタン５０纜溶液に、水冷、撹拌下にｍ−クロロ過安
息香酸く７０％）１ｇをゆっくり加え、反応混合物を更
に３０分間撹拌し、その後、反応混合物を減圧下に濃縮
し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ジクロルメ
タン→ジクロルメタン：酢酸エチル−２０：１）で精製
して、目的化合物０．８７ｇを得た。

融点　１３２〜１３３℃ 参考例３９ ２−ニトロ−５−フェニルスルホニルフェノール［化合
物５ｔｌ］の製造・。

２−ニトロ−５−フェニルチオフェノール１Ｑのジクロ
ルメタン５〇−溶液に、水冷、撹拌下にｍ−クロロ過安
息香酸（７０％）２（ｌをゆっくり加え、反応混合物を
更に３０分間撹拌し、その後、反応混合物を減圧下に濃
縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して
、目的化合物１．０ｇを得た。

融点　１４４〜１４５℃ 実施例１ ２−アミノ−５−フェニルチオフェノール［化合物１］
の製造 ２−ニトロ−５−フェニルチオフェノール１．２６（Ｊ
をＴＨＦ３０ｍＱ、水２５ＩＩｌ１２及び濃アンモニア
水２０−の混合液に溶解し、室温、撹拌下１ｃＮ８２８
２０４１０ｇ（７）水４ｏ−水溶液を加え、撹拌を１０
分間続は反応混合物が赤色から無色となるのを確認した
。次いで、反応混合物を水に移し、酢酸エチルで抽出し
１．有機層を飽和食塩水で洗浄し、乾燥（ＩＶＨＩ　Ｓ
Ｏａ　）　Ｌ、濃縮して得られる粗生成物をエーテルで
希釈し、これに４Ｎ塩酸−酢酸エチル４−を加え、析出
した塩を枦取し、乾燥して、目的化合物の塩酸塩１．２
ｇを得た。

融点　１９０〜２０４℃（分解） 実施例２〜２０ 実施例１と同様にして、第３表に示す各化合物を得た。

実施例２１ ２−アミノ−５−（２−ヒドロキシメチルフェニルチオ
）フェノール［化合物２１］の製造２−ニド０−５−　
（２−エトキシ力ルポニルフ工二ルチオ）フェノール１
．６ｇのＴＨＦ　２　ｏｎａ溶液を、ＬｉＡＱＨ五０．
６ｇのエーテル６０−溶液に、室温、撹拌下に滴下し、
次いで２時間反応混合物を同条件下に撹拌した。その後
、過剰のＬｉＡ１２Ｈｔを含水エーテル、次いで水で分
解し、不溶物を？Ｐ別し、エーテルで洗い、得られた母
液に、Ｎａ２８２０４１０Ｏｆ）水４０ｍＱ水溶液ヲ加
え、反応混合物が無色になるまで振盪し、有機層を水洗
し、乾燥（Ｍ（１８０４）Ｌ／、濃縮して得られる粗生
成物を、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ジクロ
ルメタン→ジクＯルメタン：酢酸エチル−４：１）で精
製し、次に４Ｎ塩酸−酢酸エチル２−で処理して得られ
た結晶を、エタノール−エーテル混液で再結晶して、目
、的化合物の塩酸塩０．４５０を得た。

融点　８５〜８６℃ 上記各実施例で得られた各々の化合物［化合物１〜２１
］の構造及びそれらの物性を下記第３表に示す。

第　　３　　表 実施例２２ ６−フェニルチオ−２−ペンゾオキサゾロン２−アミノ
−５−フェニルチオフェノール１ｇ及び酢酸ナトリウム
０．８（ｌを酢酸エチル３（［に懸濁し、室温、撹拌下
相クロロギ酸トリクロロメチル０．３ｍｃの酢酸エチル
５−溶液を３０分間を要して滴下し、その後、撹拌を４
０分間続け、更に反応混合物を１０分間遠流した。反応
混合物を水に移し、酢酸エチルで抽出し、有機層を水洗
し、乾燥（ＭｇＳ０４）し、濃縮して得られる粗生成物
を、クロロホルム−メタノール−〇−ヘキサン混合溶媒
で再結晶して、目的化合物０．８４９を得た。

融点　１６８．５〜１６９．５℃ 実施例２３〜２５ 実施例２２と同様にして、化合物２．７及び２２から、
下記第５表に示す各化合物を得た。尚、第５表には上記
実施例２２で得た化合物も併記する。

第　　５　　表

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中Ｒ＾１は置換基として低級アルキル基、ハロゲン
   原子、カルボキシル基、低級アルコキシカルボニル基、
   ヒドロキシ低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基
   、低級アルコキシカルボニル低級アルキル基、基 ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｚは低級アルキレ
   ン基を示 す）、シクロアルキルカルバモイル基、低級アルコキシ
   基及び低級アルキルカルボニルアミノ基から選ばれる基
   を有することのあるフェニル基、フェニル低級アルキル
   基、ピリジル基又は置換基として低級アルキル基を有す
   るイミダゾリル基を示す。Ｒ＾２及びＲ＾３はそれぞれ
   水素原子を示すか又は両者が結合して＞Ｃ＝Ｏ基を示す
   。ｎは０、１又は２を示す。 但しＲ＾２及びＲ＾３が同時に水素原子で且つｎが０の
   場合、Ｒ＾１は４位メチル基を有するフェニル基であっ
   てはならない。〕 で表わされるアミノフェノール誘導体及びその塩。