JPS63192889A - Ｎｉ−Ｐめつき液 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、Ｎｉ−Ｐめつき液に関するものであシ、特に
はめつき皮膜中のＰ含有率を安定化すること七可能なら
しめ、それによシ耐蝕性、硬度、接触抵抗、外観光沢等
に優れた特性を持つＮｉ−Ｐめつ糠皮膜の生成をも九ら
す新規なＮＩ−Ｐめつき液に関する。本発明は、コネク
タ、リードスイッチ、等に代表される電気接点の作製に
有用なＮｉ−Ｐめつき液ｔａ供する。

電解ニッケルーリン合金皮膜の作製には、次のようなめ
っき液及びめっき操作条件が提案されている＠ ＮｉＳＯ４・６Ｈ２０２４０９／Ｉ Ｎ蓋Ｃ１２・６Ｈ２０４５＃ ＨＸＢ０５　　　　　　　３０　＃ 亜すン１ｊｌｌ　　　　　　　　　　　５を電流密度　
　　　　　　１〜５Ａ／ｄｍ２液温度　　　　　　　　
５５〜８０℃ −２〜４．４ これらから得られるめっき皮膜はｗｃｗｔ　％から十＆
　ｗ　ｔ％のＰｉ金含有るＮＩ−Ｐ合金であシ、一般に
、ピンホールが少なく、耐食性が良好でしかも適度な硬
さを持つ点で、工業的に広く使用されている。

生成するめつき皮膜の性状は、めっき液の成分に依存し
て、広範に変化し、コネクター、リードスイッチ等の電
気接点、装飾品等の用途目的に応じて適切な、めっき液
及びめっき条件を選択する必要がある。

しかしながら、とのＮＩ−Ｐめつき液を使用して上記の
ような接点材料を作製すると、ピンホール発生耐蝕性、
硬０度、接触抵抗、外観光沢等の点で十分でなく、近時
共々厳しくなる製品信頼性基準を満足しないことが新た
に認識されるようになった。

発明の目的 本発明は、電気接点用途向けの厳しい品質要求に答えう
る、ピンホールの少ない、厚付けの可能な、更には耐蝕
性、硬度、Ｍ！触低抵抗外観光沢等の特性に優れたＮｉ
−Ｐ合金皮ａｔ−生成しうるＮｉ−Ｐめつき液を開発す
ることを目的とする。

発明の概要 従来からのＮＩ−Ｐめつき液を使用して生成されるＮｉ
−ｐ合金めつき皮膜について検討を重ねた結果、それが
耐蝕性、硬度、接触抵抗、外観光沢等において充分でな
い事実の根本的原因は析出皮膜中のＰ含有率な安定化し
えないことにあることを究明するに至った。また、ピン
ホールの発生が多いのは析出皮膜の応力減少が充分でな
いことも判明した。こうした考察を通して、本発明者等
は、上記のような原因を排除しうる新たなＮｉ−Ｐめつ
き液を開発するべく広範なる試行’ｆ：Ｍねた。その結
果、 （１）　　水酸化ニッケルの使用 （２）　　アンモニア水の使用 が非常に良好なめつき皮膜を生成しうるとの知見ｔ−得
た。

斯くして、本発明は、 硫酸ニッケル　　　　　１０へ４５０１１７１次亜燐酸
ナトリウム　　　１〜２５９／１燐　ｉ！１０〜１００
ｇ／ｌ クエン酸ナトリウム　　　２０〜飽和ｇ／ｌ１水酸化ナ
トリウム　　　中和量 水酸化ニッケル　　　　１〜２５Ｉ／ノアンモニア水　
　　　　２〜２１）ｄ／ノから成るＮｉ−Ｐめつき液を
提供する。

３、発明の詳細な説明 本発明のＮｉ−Ｐめつき液の各成分の作用と濃度範囲に
ついて説明する： （１）硫酸ニッケル 硫酸ニッケルはＮｉ　　の供給成分である。硫酸ニッケ
ルはＮＩ　ｔＤｌｔｔ着に必要な１０ｙ／ノからめつき
液に溶解可能な限度の＜　５０　Ｖｌの範囲をとシうる
が、好ましくは１００〜４００１１／ｌとされる。１０
０９／１未満では光沢不良となシやすくなシ、また４　
００１１／ｌを超えるとピットやクラックの発生を起こ
し易くなる。

（２）　　次亜燐酸ナトリウム 次亜燐酸ナトリウムが２５Ｖノを超えると付き回）及び
光沢が不良となシ易くなるｏ　１Ｖｊ未満では皮膜のＰ
含有率が低下し、耐蝕性が悪くなる。

（３）　　燐酸 燐酸は主たるＰ供給源である。燐酸は１０１１／ｌ未溝
になると析出物のＰ含有率が低下し、耐蝕性が悪化し、
逆に１００１／／１１を越えると、付き回シネ良となシ
また光沢が悪化する。

（４）　　クエン酸ナトリウム クエン酸ナトリウムは錯化剤として働く。めっき液の安
定剤として作用し、めっき液を長期的に安定化させるた
めには２０　ｆ／／１以上が必要である。その上限は溶
解可能な飽和量として決定される。好ましい量は５０〜
２００１１／ｌである。

（５）水酸化ナトリウム 過剰な燐酸の中和によってｔｉｌｌナトリウムとしてＰ
析出率の安定化をもたらす。水酸化ナトリウムが過剰に
なると声を高くするので中和に必要な量に制限される。

（６）水酸化ニッケル 燐酸と反応してニッケルを溶存せしめる。溶存ニッケル
は応力の減少によってクラックの無い凧付けめっきを可
能とし、また析出面のピンホール減少とともにＰ含有ｍ
を安定的に皮膜中に電着させるに効果的であるＯ水酸化
ニラナルは１１／ｌ以下では効果がなく、逆に２５１１
／ｌよシ高くなると溶解しなくなル、ビット発生を０起
しやすい。

（７）　　アンモニア水 Ｐの析出を安定化するのにきわめて効果的であり、光沢
を安定して維持すると共に、硬度、耐蝕性、接触抵抗等
を所要水準に維持する。

アンモニア水は２−７１未満では所定の効果を発現せず
、例えば光沢等がバラツキやすくなシ、逆に２０ｗｔ／
Ｉｆ、超えると−を高くし、逆効果となシ、光沢が態化
する。

本発明のＮｆ−Ｐめつき液の使用条件及び使用方法は次
の通シである。

…　　　ｔＯ〜＆５好ましくは２．６〜３２液温度　３
０〜８０℃好ましくは５０〜６０℃陰極電流密度　α５
〜２０Ａ／ｄｍ２ 好ましくは１５〜２．ＯＡ／ｄｍ２ 本発明めっき液はクラックのない厚付けめつきを可能と
するので接点用めっきとして殊に適している。

本発明によシ生成されるＮｉ−　Ｐめつき皮膜は、Ｐ含
有率を安定化され、また応力除去された結果として、ピ
ンホールやり２ツクの無い、耐蝕性、硬度、接触抵抗及
び外観光沢特性に優れたものである０苛酷な環境で使用
される接触部、摺動部等を具備するコネクタ、リードス
イッチ等の電気接点の作製に有益である。

実施例１ Ｆ・−Ｎｉ　　合金製コネクタ材料を次の組成のめっき
液及びめっき条件で電解して３１ｔｒｎ厚のＮｌ−Ｐ合
金皮膜を形成した； ｐＨ２，６ 液温度　　５５℃ 電流密度　２Ａ／ｄｍ２ めっき時間　　３０分 得られためつき皮膜の特性は次の通シであった： Ｐ含有率　　　　１４．５ｗｔ％ 耐蝕性　　濃硝酸液に２４時間、室温にて浸漬しても外
観の変化はなかった 硬　　度　　　４２５ＨＶ（０１０１１）接触抵抗　３
５ｍΩ（１０ｍ人×１０１荷１Ｋ）光沢　　　鏡面光沢
でクラックなし いずれも非常に良好であシ、許容水準を充分に満たして
いる。

実施例２ Ｆ・−Ｎｉ合金製コネクタ材料を次の組成のめっき液及
びメッキ条件で電解して１５μ厚のＮｉ−Ｐ合金皮ｆｌ
ｉｔ−形成した。

−五〇 液温度　　５２℃ 電流密度　１５ム／　ｄｍ２ 時　間　　２２分 得られためつき皮膜の特性は次の通シであった。

Ｐ含有率　１＆２ｗｔ％ 耐蝕性　　濃硝酸液に４８時間、室温にて、浸漬しても
、外観変化なく耐蝕 性に優れたものであった０ちな みに、従来技術の項で説明した 提示例液で得られ丸めつき物は、 濃硝酸液に浸漬して、１５分後 には、ガス発生しながら腐蝕さ れた。

硬　　度　　　　４３８ＨＶ（Ｇ５１１）接触抵抗　３
１ｍΩ 光　　沢　鏡面光沢でクラックなし 次に、多数のサンプルを用意して５０回以上のめつき試
験を行ったが、いずれのめつき皮膜も良好な品質を保持
した。

発明の効果 実施例に示される通シ、本めっき液によル生成されるＮ
ｊ−Ｐめつき皮膜はコネクタ、リードスイッチ等の電気
接点用途に殊に優れ、高品質、高信顆性の下でのこれら
部品の作製に寄与する。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １）硫酸ニッケル１０〜４５０ｇ／ｌ 次亜燐酸ナトリウム１〜２５ｇ／ｌ 燐酸１０〜１００ｇ／ｌ クエン酸ナトリウム２０〜飽和ｇ／ｌ 水酸化ナトリウム中和量 水酸化ニッケル１〜２５ｇ／ｌ アンモニア水２〜２０ｍｌ／ｌ から成るＮｉ−Ｐめっき液。