JPS63192280A - 端面発光型半導体装置の製造方法 - Google Patents

端面発光型半導体装置の製造方法

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Publication number
JPS63192280A
JPS63192280A JP62023940A JP2394087A JPS63192280A JP S63192280 A JPS63192280 A JP S63192280A JP 62023940 A JP62023940 A JP 62023940A JP 2394087 A JP2394087 A JP 2394087A JP S63192280 A JPS63192280 A JP S63192280A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
lens
edge
light emitting
photosensitive material
semiconductor device
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP62023940A
Other languages
English (en)
Inventor
Katsuhiko Goto
勝彦 後藤
Shogo Takahashi
省吾 高橋
Etsuji Omura
悦司 大村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP62023940A priority Critical patent/JPS63192280A/ja
Priority to US07/130,547 priority patent/US4788161A/en
Publication of JPS63192280A publication Critical patent/JPS63192280A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/02Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor bodies
    • H01L33/20Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor bodies with a particular shape, e.g. curved or truncated substrate

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Led Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分舒〕 この発明は、高出力化を図った端面発光型半導体装置の
製造方法に関するものである。
〔従来の技術〕
第3図は従来の、例えば端面発光型LEDを示す斜視図
である。この図において、1はn形基板、2は下クラッ
ド層であるn形りラッド層、3は活性層、4は上クラッ
ド層であるp形りラッド層、5は絶縁膜、6はp側電極
、7は口側電極である。
第3図の端面発光型LEDにl1li方向バイアスを印
加した場合、電流は絶縁膜5がストライブ状に除去され
た素子中央部に集中して流れ、活性層3内で光′に変換
される。活性層3内で生じた光はn形りラッド層2.p
形りラッド層4によって閉じ込められ、活性層3内を伝
播して端面から光出力面に平行な方向には光を閉じ込め
る機構が存在しないため、特に水平方向の出射光の拡が
りが大きい。横方向に光の閉じ込み構造がある場合でも
、端面発光型LEDは指向性に乏しく、やはり光の拡が
りは大きい。そのため、コア径の小さい光ファイバに対
しては一部の光しか入射させることができず、小さいフ
ァイバ内光出力しか得られないという問題点があった。
また、従来、このような結合効率の低さを改善する目的
で出射端面に球レンズを取り付けた例がある。しかし、
発光領域が小さいために球レンズを精度良く取り付ける
ことは難しく、また、素子1個ずつに対して取り付けな
ければならないため、量産性に欠ける等の問題点があっ
た。
この発明は、上記のような問題点を解消するためになさ
れたもので、ファイバ結合効率が改善され、大きなファ
イバ内光出力が実現できるとともに、量産性に優れた端
面発光型半導体装置の製造方法を提供する乙とを目的と
する。
〔問題点を解決するための手段〕
この発明に係る端面発光型半導体装置の製造方法は、ウ
ェハの所定位置にストライブ状の溝を掘ることにより出
射端面を形成し、その後、溝内を感光性材料で埋め込み
、写真製版により感光性材料を加工する乙とにより出射
端面に集束レンズを形成するものである。
〔作用〕
この発明においては、出射端面に形成された感光性材料
を写真製版により加工してレンズを形成するので、任意
の形状、サイズのレンズを精度良く作製できろ。
〔実施例〕
以下、この発明の一実施例を図面について説明する。
第1図はこの発明による製造方法によって得られた端面
発光型LEDの一例を示す斜視図である。
第1図において、1〜7は第3図と同じものであり、8
はエツチングによって形成された端面、9は前記端面8
の中央部の発光領域に形成された感光性材料からなるレ
ンズである。
次に、第1図の端面発光型LEDの製造方法の一実施例
を第2図(a)〜(e)により説明する。
まず、第2図(a)に示すように、n形基板1上に下ク
ラッド層であるn形りラッド層2.活性層3、上クラッ
ド層であるp形りラッド層4を順次成長する。次に、第
2図(b)に示すように、写真製版、エツチングによっ
て1形りラッド層2にまで達するストライブ状の溝21
を堀って端面8を形成する。次に、第2図(e)に示す
ように、溝21内を感光性材料、例えば感光性高分子材
′1422で埋め込んだ後、溝21以外の部分に第1図
に示すように絶縁膜5pp側、n@電極6,7を形成す
る。次に、第2図(d)に示すように、写真製版によt
)、jff21内に埋め込まれた感光性高分子材料22
を端面8に接したレンズ状の部分を残して他の部分を除
去し、端面8に感光性高分子材料22からなるレンズ9
を所定のパターンで形成する。
次に、所要の位置から分割することにより、第2図(e
)に示すような端面発光型LEDが得られる。
この発明による第1図の端面発光型LEDでは、発光領
域の端面8に感光性高分子材料22からなるレンズ9が
形成されているので、水平方向の出射光の拡がりを集束
させることができる。また、端面8における屈折率差を
小さくして端面8での屈折2反射による損失を減少させ
ることができる。
その結果、出射光のうち光ファイバ(図示せず)に入力
される光の割合が増加し、大きなファイバ内光出力が得
られる。
また、端面8にレンズ9を装着する場合、レンズ9の直
径はファイバのコア径以下が望ましいが、この発明によ
る製造方法では、写真製版によってレンズ9を形成する
ので、直径の小さいレンズも精度良く形成することが可
能である。
また、レンズ9の位置も写真製版により精度良く形成で
きるので、レンズ9と光軸のずれによる光出力の低下を
小さくすることができる。
また、ウェハの状態で写真製版を行ってレンズ9を形成
するので量産性の点で優れている。
なお、上記実施例では電極ストライプ型の端面発光型L
EDを例にあげて説明を行ったが、他の構造の端面発光
型LEDや半導体レーザ等の端面発光型半導体装置にも
適用できる。
〔発明の効果〕
以上説明したように、この発明は、ウェハ状態で、スト
ライブ状の溝をエツチングすることによって出射端面を
形成し、この溝内を感光性材料で埋め込み、写真製版に
より感光性材料を加工して所要数のレンズを形成するよ
うにしなので、極めて精度の良いレンズが形成できると
ともに、出射端面からの水平方向の出射光の拡がりを集
束させることができる。したがって、光ファイバとの結
合効率が高く、大きなファイバ内光出力が得られる端面
発光型半導体装置を精度良く、かつ容易に製造できる効
果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明による端面発光型半導体装置を示す斜
視図、第2図(a)〜(e)はこの発明の端面発光型半
導体装置の製造方法の工程を説明する斜視図、第3図は
従来の端面発光型LEDを示す斜視図である。 図において、1はn形基板、2ばn形りラッド層、3は
活性層、4はp形りラッド層、8は端面、9は感光性材
料からなるレンズ、21は溝、22は感光性高分子材料
である。 なお、各図中の同一符号は同一または相当部分を示す。 代理人 大 岩 増 雄   (外2名)第1図 第3図 第2図 (a)

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 半導体基板上に下クラッド層、活性層、および上クラッ
    ド層が順次形成されたウェハの所定位置に前記下クラッ
    ド層に達する所定深さのストライプ状の溝を掘ることに
    よって出射端面を形成する工程と、前記溝内を感光性材
    料で埋め込む工程と、写真製版により前記感光性材料を
    所要数のレンズに加工する工程と、前記レンズを備えた
    端面発光型半導体装置に分割する工程とを含むことを特
    徴とする端面発光型半導体装置の製造方法。
JP62023940A 1987-02-04 1987-02-04 端面発光型半導体装置の製造方法 Pending JPS63192280A (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP62023940A JPS63192280A (ja) 1987-02-04 1987-02-04 端面発光型半導体装置の製造方法
US07/130,547 US4788161A (en) 1987-02-04 1987-12-09 Method of producing an end surface light emission type semiconductor device

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JP62023940A JPS63192280A (ja) 1987-02-04 1987-02-04 端面発光型半導体装置の製造方法

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US4788161A (en) 1988-11-29

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