JPS6318937B2 - - Google Patents

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JPS6318937B2
JPS6318937B2 JP56093312A JP9331281A JPS6318937B2 JP S6318937 B2 JPS6318937 B2 JP S6318937B2 JP 56093312 A JP56093312 A JP 56093312A JP 9331281 A JP9331281 A JP 9331281A JP S6318937 B2 JPS6318937 B2 JP S6318937B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
cyclopentenone
hydroxy
methyl
lower alkyl
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP56093312A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS57209255A (en
Inventor
Masayoshi Minamii
Tadashi Katsura
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Chemical Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Chemical Co Ltd filed Critical Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority to JP56093312A priority Critical patent/JPS57209255A/ja
Priority to US06/377,050 priority patent/US4665174A/en
Priority to DE19823217904 priority patent/DE3217904A1/de
Priority to FR8208298A priority patent/FR2509291B1/fr
Priority to GB8213799A priority patent/GB2100254B/en
Publication of JPS57209255A publication Critical patent/JPS57209255A/ja
Publication of JPS6318937B2 publication Critical patent/JPS6318937B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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  • Heterocyclic Compounds Containing Sulfur Atoms (AREA)
  • Pyridine Compounds (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
本発明は、一般式() (式中、R1は水素原子または低級アルキル基
を、R2は低級アルキル基、低級アルケニル基、
低級アルキニル基、シクロアルキル基、フエニル
基またはベンジル基を、R3は水素原子、ヒドロ
キシル基、低級アルキル基、低級アルケニル基、
低級アルコキシル基、シクロアルキル基、フエニ
ル基、ハロゲンもしくは低級アルキルで置換され
たフエニル基、ヒドロキシルもしくはシクロアル
キルもしくはフエニルもしくはチエニルまたはピ
リジルで置換された低級アルキル基、または窒素
原子を含む複素単環基を、R4は水素原子または
低級アルキル基を示す) で示される新規なシクロペンテノンのアミノ誘導
体に関する。 上記一般式()で示されるシクロペンテノン
のアミノ誘導体の類縁体として次の化合物が知ら
れている〔J.Org.chem.,Vo.45,No.22,4500
(1980)〕。 R″=−(CH24−,−(CH25−,−(CH22O
(CH22− しかし、この方法では5位に置換された化合物
を同時に生成するため、4位にのみ置換された化
合物を得る方法としては著しく不利であり、また
上記文献ではジエチルアミン等のアルキルアミン
については、種々の副生物を生成し、目的物が単
離、確認されておらず、前記一般式()化合物
については全く開示されていない。 しかも、先の類縁化合物の有用性については上
記文献にも全く記載されていないが、本発明者ら
は本発明に係る一般式()化合物が医、農薬の
中間体としても極めて有用であることを見出し
た。 すなわち、一般式()化合物は菊酸と反応さ
せて菊酸アミド誘導体とすることにより従来とは
違つた新しいタイプの農薬として使用されるばか
りでなく、α−置換−フエニル酢酸のアミドとす
ることにより消炎剤として使用することができ、
更にはプロスタグランデインの新しい誘導体の中
間体となるなど極めて価値ある化合物である。 本発明の一般式()化合物は、一般式() (式中、R1およびR2は前記と同じ意味を有す
る) で示される3−ヒドロキシ−4−シクロペンテノ
ン類と、一般式() (式中、R3およびR4は前記と同じ意味を有す
る) で示されるアミン類を反応させることにより、容
易に、しかも好収率で製造することができる。 かかる反応は本発明者らによつてはじめて明ら
かにされた新規な方法である。 この反応において、原料として用いられる3−
ヒドロキシ−4−シクロペンテノン類は、たとえ
ば次式に示されるようにフランカルビノール類を
転位させることにより容易に合成することができ
る。 (式中、R1およびR2は前記と同様の意味を有
する) かかる一般式()で示される3−ヒドロキシ
−4−シクロペンテノン類としては、たとえば2
−メチル−3−ヒドロキシ−4−シクロペンテノ
ン、2−エチル−3−ヒドロキシ−4−シクロペ
ンテノン、2−n−ピロピル−3−ヒドロキシ4
−シクロペンテノン、2−iso−プロピル−3−
ヒドロキシ−4−シクロペンテノン、2−n−ブ
チル−3−ヒドロキシ−4−シクロペンテノン、
2−n−ペンチル−3−ヒドロキシ−4−シクロ
ペンテノン、2−n−ヘキシル−3−ヒドロキシ
−4−シクロペンテノン、2−n−ヘプチル−3
−ヒドロキシ−4−シクロペンテノン、2−アリ
ル−3−ヒドロキシ−4−シクロペンテノン、2
−(2′−シス−ブテニル)−3−ヒドロキシ−4−
シクロペンテノン、2−(2′−シス−ペンテニル)
−3−ヒドロキシ−4−シクロペンテノン、2−
(3′−シス−ヘキセニル)−3−ヒドロキシ−4−
シクロペンテノン、2−(2′−トランス−ペンテ
ニル)−3−ヒドロキシ−4−シクロペンテノン、
2−プロパルギル−3−ヒドロキシ−4−シクロ
ペンテノン、2−(2′−ペンチニル)−3−ヒドロ
キシ−4−シクロペンテノン、2−ベンジル−3
−ヒドロキシ−4−シクロペンテノン、2−フエ
ニル−3−ヒドロキシ−4−シクロペンテノン、
2−シクロペンチル−3−ヒドロキシ−4−シク
ロペンテノン、2−シクロヘキシル−3−ヒドロ
キシ−4−シクロペンテノン、2−(α−メチ
ル・アリル)−3−ヒドロキシ−4−シクロペン
テノン、2−(アリル)−3−ヒドロキシ−3−メ
チル−4−シクロペンテノン、2−(2′−シス−
ペンテニル)−3−ヒドロキシ−3−メチル−4
−シクロペンテノン、2−n−ペンチル−3−ヒ
ドロキシ−3−メチル−4−シクロペンテノン、
2−(2′−シス−ブテニル)−3−ヒドロキシ−3
−メチル−4−シクロペンテノン、2−n−ヘキ
シル−3−ヒドロキシ−3−メチル−4−シクロ
ペンテノン、2−(3′−シスヘキセニル)−3−ヒ
ドロキシ−3−メチル−4−シクロペンテノン、
2−シクロペンチル−3−ヒドロキシ−3−メチ
ル−4−シクロペンテノン、2−シクロヘキシル
−3−ヒドロキシ−3−メチル−4−シクロペン
テノン、2−フエニル−3−ヒドロキシ−3−メ
チル−4−シクロペンテノン、2−ベンジル−3
−ヒドロキシ−3−メチル−4−シクロペンテノ
ン、2−n−ペンチル−3−アリル−3−ヒドロ
キシ4−シクロペンテノン、などが挙げられる。 また、一般式()で示されるアミン類として
は、 たとえばアンモニア、ヒドロキシルアミン、O
−メチルヒドロキシルアミン、N−メチルヒドロ
キシルアミン、メチルアミン、エチルアミン、n
またはiso−プロピルアミン、n−またはsec−ブ
チルアミン、n−,iso−またはtert−ペンチル
アミン、n−,sec、またはtert−オクチルアミ
ン、シクロプロピルアミン、アリルアミン、ジメ
チルアミン、ジエチルアミン、ジ−n−プロピル
アミン、シクロヘキシルアミン、シクロペンチル
アミンン、アミノエタノール、アミノ−ブタノー
ル、3−アミノ−1−プロパノール、1−アミノ
−2−プロパノール、L−2−アミノ−1−プロ
パノール、N−アミノピペリジン、ω−アミノ−
β−ピコリン、4(6)−アミノウラシル、2−アミ
ノピリジン、2−アミノメチルピリジン、アミノ
メチルチオフエン、アニリン、4−クロルアニリ
ン、2,4−ジクロロアニリン、4−メチルアニ
リン、N−メチルアニリン、4−ヒドロキシアニ
リン、ベンジルアミン、β−フエネチルアミン、
α−メチルベンジルアミン、d−α−メチルベン
ジルアミン、などが挙げられる。 一般式()で示される3−ヒドロキシ−4−
シクロペンテノン類と一般式()で示されるア
ミン類との反応は、溶媒の存在もしくは非存在下
に実施される。 溶媒を使用する場合、溶媒としてはたとえば
水、ジオキサン、テトラヒドロフラン(THF)、
アセトン、メチルエチルケトン、ジメチルホルム
アミド(DMF)、ジメチルスルホキシド
(DMSO)、酢酸エチル、ベンゼン、トルエン、
クロロホルム、ジクロルメタン、ジエチルエーテ
ル、ジ−n−プロピルエーテルなどの脂肪族もし
くは芳香族炭化水素、エーテル、ハロゲン化炭化
水素等の反応に不活性な溶媒の単独または混合物
が挙げられる。或いは、反応成分であるアミンの
過剰量を溶媒として用いてもよい。 この反応において触媒は必ずしも必要でなく、
アミン自身が触媒となるが、触媒を使用すること
により反応速度が向上し、反応率が増大するの
で、これを使用することは有効である。 かかる触媒としては、例えばナトリウム、カリ
ウム、リチウム等の金属あるいはこれらのアルコ
ラート、水素化物、アミド類等の金属塩、金属の
硝酸塩、硫酸塩、塩化物、リン酸塩、酸化物類、
ピリジン、トリエチルアミン、キニーネ等の第3
級アミンあるいは有機第4級アンモニウム塩が例
示され、これらは単独あるいは2種以上の混合物
として使用される。 触媒を用いる場合、その使用量は特に制限され
ないが、通常は3−ヒドロキシ−4−シクロペン
テノン類に対して1/500〜1/2重量倍の範囲であ
る。 反応温度は−10〜150℃で任意であるが、好ま
しくは0〜100℃の範囲である。 反応時間については特に制限はない。 かかる反応によつてシクロペンテノンのアミノ
誘導体が容易にかつ好収率で得られ、これらは通
常の分離手段、たとえば抽出、分液、濃縮、蒸留
等により反応混合物より容易に単離することがで
きる。 以下に製造例を示す。 製造例 1 撹拌装置、温度計を装着した4ツ口フラスコに
30%モノエチルアミン水溶液70gおよびテトラヒ
ドロフラン18gを仕込み、これに2−n−ペンチ
ル−3−ヒドロキシ−3−メチル−4−シクロペ
ンテノン18.2gを10〜20℃にて30分で滴下する。
同温度にて2時間保温する。 反応終了後、反応混合物をトルエンにて抽出処
理し、有機層はさらに水にて洗浄する。得られた
有機層からトルエンを留去して2−n−ペンチル
−3−メチル−4−エチルアミノ−2−シクロペ
ンテノン20.3g(収率97%)を得た。トルエン−酢
酸エチル(10:1)にてアルミナクロマトすれば
純品を得る。 n20 D1.4864 製造例 2 製造例1で用いたと同様の装置を用い、2−ア
リル−3−ヒドロキシ−3−メチル−4−シクロ
ペンテノン15.2gを、60gの40%ジメチルアミン水
溶液に10〜20℃にて、30分にて滴下する。さらに
同温度にて1時間保温する。 反応終了後、製造例1に準じて後処理、精製し
て2−アリル−3−メチル−4−ジメチルアミノ
−2−シクロペンテノン17.3g(収率96.5%)を得
た。 n20 D1.4997 製造例 3 製造例1で用いたと同様の装置を用い、2−エ
チル−3−ヒドロキシ−4−シクロペンテノン
12.6gをアリルアミン25gおよびトルエン25gから
なる溶液中に10〜20℃にて1時間かかつて滴下す
る。さらに20〜30℃にて3時間保温する。 以下、製造例1に準じて後処理、精製して2−
エチル−4−アリルアミノ−2−シクロペンテノ
ン15.7g(収率95%)を得た。 n20 D1.4924 製造例 4 製造例1で用いたと同様の装置に2−アリル−
3−ヒドロキシ−3−メチル−4−シクロペンテ
ノン15.2g、アニリン30g、トリエチルアミン0.8g
およびトルエン45gを加え、窒素気流下に40〜70
℃にて2時間反応させる。 反応終了後、製造例1に準じて後処理、精製し
て2−アリル−3−メチル−4−アニリノ−2−
シクロペンテノン22g(収率97%)を得た。 n20 D1.5880 製造例 5 製造例1と同様の装置を用い、2−アリル−3
−ヒドロキシ−3−メチル−4−シクロペンテノ
ン15.2gを、60gの40%モノメチルアミン水溶液に
10〜20℃にて1時間かかつて滴下する。さらに同
温度にて1時間保温する。反応終了後、減圧にて
モノメチルアミンおよび水を留去する。濃縮残渣
をジクロルメタンにて抽出処理する。 得られた有機層からジクロルメタンを留去して
2−アリル−3−メチル−4−メチルアミノ−2
−シクロペンテノン15.9g(収率96%)を得た。 n23 D1.5090 製造例 6 製造例1と同様の装置を用い、2−アリル−3
−ヒドロキシ−3−メチル−4−シクロペンテノ
ン15.2gを、30gの25%N−メチル−ヒドロキシア
ミン水溶液中に15〜25℃の温度にて、1時間かか
つて滴下する。同温度にて2時間保温する。 反応終了後、製造例5に準じて後処理して2−
アリル−3−メチル−4−(N−ヒドロキシ−N
−メチル−アミノ)−2−シクロペンテノン16.5g
(収率91%)を得た。 n20 D1.5102 製造例 7〜23 前記製造例に準じて本願化合物を製造した例を
表−1に示す。 表において、触媒、溶媒、アミンの使用量はい
ずれもそれぞれの反応における原料(3−ヒドロ
キシ−4−シクロペンテノン類)に対する重量倍
で示した。
【表】
【表】
【表】

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一般式 (式中、R1は水素原子または低級アルキル基
    を、R2は低級アルキル基、低級アルケニル基、
    低級アルキニル基、シクロアルキル基、フエニル
    基またはベンジル基を、R3は水素原子、ヒドロ
    キシル基、低級アルキル基、低級アルケニル基、
    低級アルコキシル基、シクロアルキル基、フエニ
    ル基、ハロゲンもしくは低級アルキルで置換され
    たフエニル基、ヒドロキシルもしくはシクロアル
    キルもしくはフエニルもしくはチエニルまたはピ
    リジルで置換された低級アルキル基、または窒素
    原子を含む複素単環基を、R4は水素原子または
    低級アルキル基を示す) で示されるシクロペンノンのアミノ誘導体。
JP56093312A 1981-05-12 1981-06-16 Amino derivative of cyclopentenone Granted JPS57209255A (en)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP56093312A JPS57209255A (en) 1981-06-16 1981-06-16 Amino derivative of cyclopentenone
US06/377,050 US4665174A (en) 1981-05-12 1982-05-11 Production of cyclopentenone derivatives
DE19823217904 DE3217904A1 (de) 1981-05-12 1982-05-12 Cyclopentenon-derivate und verfahren zu ihrer herstellung
FR8208298A FR2509291B1 (fr) 1981-05-12 1982-05-12 Derives de cyclopentenone et leur procede de fabrication
GB8213799A GB2100254B (en) 1981-05-12 1982-05-12 Cyclopentenone derivatives and their production

Applications Claiming Priority (1)

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JP56093312A JPS57209255A (en) 1981-06-16 1981-06-16 Amino derivative of cyclopentenone

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS57209255A JPS57209255A (en) 1982-12-22
JPS6318937B2 true JPS6318937B2 (ja) 1988-04-20

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ID=14078795

Family Applications (1)

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JP56093312A Granted JPS57209255A (en) 1981-05-12 1981-06-16 Amino derivative of cyclopentenone

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JPS57209255A (en) 1982-12-22

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