JPH0959293A - ２位炭素鎖置換アデノシン誘導体の製造法 - Google Patents
２位炭素鎖置換アデノシン誘導体の製造法Info
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- JPH0959293A JPH0959293A JP7237825A JP23782595A JPH0959293A JP H0959293 A JPH0959293 A JP H0959293A JP 7237825 A JP7237825 A JP 7237825A JP 23782595 A JP23782595 A JP 23782595A JP H0959293 A JPH0959293 A JP H0959293A
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
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- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
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- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 従来法とはまったく異なる２位炭素鎖置換ア
デノシン誘導体の新規な製造法を提供する。 【解決手段】 下記の二つの反応工程よりなる、式
（Ｉ）で表される２位炭素鎖置換アデノシン誘導体の製
造法及びそれにより得られる新規な２位炭素鎖置換アデ
ノシン誘導体。 （式中、Ｒ1はアルキル基、フェニル基、アラルキル基
など、Ｒ2は水素原子または水酸基の保護基を示す。） 第１工程：リチウム化剤とトリアルキルスズにより式
（ＩＩ）で表される化合物の塩基部２位をスタニル化し
て式（ＩＩＩ）で表される化合物を得る工程。 （式中、Ｒ3は低級アルキル基、Ｘはハロゲン原子を示
す。） 第２工程：式（ＩＩＩ）で表される化合物の塩基部６位
をアミノ化した後、ステイレ（Stille）反応により塩基
部２位に炭素鎖を導入し、必要に応じて糖部水酸基の保
護基を除去して式（Ｉ）で表される化合物を得る工程。
デノシン誘導体の新規な製造法を提供する。 【解決手段】 下記の二つの反応工程よりなる、式
（Ｉ）で表される２位炭素鎖置換アデノシン誘導体の製
造法及びそれにより得られる新規な２位炭素鎖置換アデ
ノシン誘導体。 （式中、Ｒ1はアルキル基、フェニル基、アラルキル基
など、Ｒ2は水素原子または水酸基の保護基を示す。） 第１工程：リチウム化剤とトリアルキルスズにより式
（ＩＩ）で表される化合物の塩基部２位をスタニル化し
て式（ＩＩＩ）で表される化合物を得る工程。 （式中、Ｒ3は低級アルキル基、Ｘはハロゲン原子を示
す。） 第２工程：式（ＩＩＩ）で表される化合物の塩基部６位
をアミノ化した後、ステイレ（Stille）反応により塩基
部２位に炭素鎖を導入し、必要に応じて糖部水酸基の保
護基を除去して式（Ｉ）で表される化合物を得る工程。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、２位炭素鎖置換ア
デノシン誘導体の新規な製造法および該製造法によって
得られる新規な２位炭素鎖置換アデノシン誘導体に関す
るものである。
デノシン誘導体の新規な製造法および該製造法によって
得られる新規な２位炭素鎖置換アデノシン誘導体に関す
るものである。
【０００２】
【従来の技術】２位炭素鎖置換アデノシン誘導体は血圧
降下作用等の生物活性を有し、循環器疾患用薬としての
開発が期待されている化合物である（J.Med.Chem.,35,2
41,(1992)）。従来報告されている２位炭素鎖置換アデ
ノシン誘導体の製造法としては、グアノシンを原料と
し、その塩基部２位のアミノ基をヨウ素に変換後、パラ
ジウム触媒によるクロスカップリング反応に供する方法
が主に採用されていた（ＷＯ９０／１５８１２）。
降下作用等の生物活性を有し、循環器疾患用薬としての
開発が期待されている化合物である（J.Med.Chem.,35,2
41,(1992)）。従来報告されている２位炭素鎖置換アデ
ノシン誘導体の製造法としては、グアノシンを原料と
し、その塩基部２位のアミノ基をヨウ素に変換後、パラ
ジウム触媒によるクロスカップリング反応に供する方法
が主に採用されていた（ＷＯ９０／１５８１２）。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記従来法
とはまったく異なる２位炭素鎖置換アデノシン誘導体の
新規な製造法を提供するとともに、該方法により得られ
る新規な化合物の提供を目的とするものである。
とはまったく異なる２位炭素鎖置換アデノシン誘導体の
新規な製造法を提供するとともに、該方法により得られ
る新規な化合物の提供を目的とするものである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記目的
を達成すべく研究を重ねた結果、式（Ｉ）で表される２
位炭素鎖置換アデノシン誘導体を効率よく合成すること
ができる新規な製造法を見いだし、本発明を完成させ
た。すなわち、本発明は、下記の二つの反応工程よりな
る、式（Ｉ）で表される２位炭素鎖置換アデノシン誘導
体の製造法に関するものである。
を達成すべく研究を重ねた結果、式（Ｉ）で表される２
位炭素鎖置換アデノシン誘導体を効率よく合成すること
ができる新規な製造法を見いだし、本発明を完成させ
た。すなわち、本発明は、下記の二つの反応工程よりな
る、式（Ｉ）で表される２位炭素鎖置換アデノシン誘導
体の製造法に関するものである。
【０００５】
【化５】
【０００６】（式中、Ｒ1はアルキル基、フェニル基、
アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール
置換アルケニル基またはアリール置換アルキニル基、Ｒ
2は水素原子または水酸基の保護基を示す。） 第１工程：リチウム化剤とトリアルキルスズにより式
（ＩＩ）で表される化合物の塩基部２位をスタニル化し
て式（ＩＩＩ）で表される化合物を得る工程。
アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール
置換アルケニル基またはアリール置換アルキニル基、Ｒ
2は水素原子または水酸基の保護基を示す。） 第１工程：リチウム化剤とトリアルキルスズにより式
（ＩＩ）で表される化合物の塩基部２位をスタニル化し
て式（ＩＩＩ）で表される化合物を得る工程。
【０００７】
【化６】
【０００８】（式中、Ｒ3は低級アルキル基、Ｘはハロ
ゲン原子を示し、Ｒ2は前記と同意義。） 第２工程：式（ＩＩＩ）で表される化合物の塩基部６位
をアミノ化した後、ステイレ（Stille）反応により塩基
部２位に炭素鎖を導入し、必要に応じて糖部水酸基の保
護基を除去して式（Ｉ）で表される化合物を得る工程。
ゲン原子を示し、Ｒ2は前記と同意義。） 第２工程：式（ＩＩＩ）で表される化合物の塩基部６位
をアミノ化した後、ステイレ（Stille）反応により塩基
部２位に炭素鎖を導入し、必要に応じて糖部水酸基の保
護基を除去して式（Ｉ）で表される化合物を得る工程。
【０００９】
【化７】
【００１０】（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＸは前記と
同意義。）また、本発明は上記方法により得られる式
（Ｉ’）で表される新規な２位炭素鎖置換アデノシン誘
導体またはその塩に関するものである。
同意義。）また、本発明は上記方法により得られる式
（Ｉ’）で表される新規な２位炭素鎖置換アデノシン誘
導体またはその塩に関するものである。
【００１１】
【化８】
【００１２】（式中、Ｒ1'はフェニル基、ベンジル基ま
たは２−フェニルエテニル基、Ｒ2は水素原子または水
酸基の保護基を示す。）
たは２−フェニルエテニル基、Ｒ2は水素原子または水
酸基の保護基を示す。）
【００１３】
（１）本発明の方法 本発明の方法は以下に説明する二つの反応工程により構
成される。 第１工程；第１工程はリチウム化剤とトリアルキルスズ
により化合物（ＩＩ）の塩基部２位をスタニル化して化
合物（ＩＩＩ）を得る工程である。化合物（ＩＩ）中の
Ｘで表されるハロゲン原子としては、臭素、塩素、ヨウ
素またはフッ素が例示され、特に塩素が好ましい。この
ような化合物（ＩＩ）は既に報告されている公知の方法
（Collect.Czech.Chem.Commun.,30,1880(1965)）に準じ
て調製することができる。
成される。 第１工程；第１工程はリチウム化剤とトリアルキルスズ
により化合物（ＩＩ）の塩基部２位をスタニル化して化
合物（ＩＩＩ）を得る工程である。化合物（ＩＩ）中の
Ｘで表されるハロゲン原子としては、臭素、塩素、ヨウ
素またはフッ素が例示され、特に塩素が好ましい。この
ような化合物（ＩＩ）は既に報告されている公知の方法
（Collect.Czech.Chem.Commun.,30,1880(1965)）に準じ
て調製することができる。
【００１４】反応に用いるリチウム化剤としては、リチ
ウムイソプロピルアシド（ＬＤＡ）、リチウム−２，
２，６，６−テトラメチルピペリジン（ＬＴＭＰ）など
を挙げることができ、特にＬＴＭＰを用いるのが好まし
い。なお、ＬＴＭＰは、反応時にｎ−ブチルリチウムと
テトラメチルピペリジンより調製し、それをそのまま反
応に使用してもかまわない。また、反応に使用するＲ3
で表される低級アルキルを有するトリアルキルスズとし
ては、メチル、エチル、プロピル、ブチルなどの炭素数
が１〜５程度のアルキルを有するものを例示することが
できる。具体的には、トリメチルスズクロライド、トリ
エチルスズクロライド、トリブチルスズクロライドなど
が挙げられ、その中でも特にトリメチルスズクロライド
およびトリブチルスズクロライドを用いるのが好まし
い。
ウムイソプロピルアシド（ＬＤＡ）、リチウム−２，
２，６，６−テトラメチルピペリジン（ＬＴＭＰ）など
を挙げることができ、特にＬＴＭＰを用いるのが好まし
い。なお、ＬＴＭＰは、反応時にｎ−ブチルリチウムと
テトラメチルピペリジンより調製し、それをそのまま反
応に使用してもかまわない。また、反応に使用するＲ3
で表される低級アルキルを有するトリアルキルスズとし
ては、メチル、エチル、プロピル、ブチルなどの炭素数
が１〜５程度のアルキルを有するものを例示することが
できる。具体的には、トリメチルスズクロライド、トリ
エチルスズクロライド、トリブチルスズクロライドなど
が挙げられ、その中でも特にトリメチルスズクロライド
およびトリブチルスズクロライドを用いるのが好まし
い。
【００１５】反応は、化合物（ＩＩ）１モルに対してリ
チウム化剤（例：ＬＴＭＰ）を２〜１０モル用い、テト
ラヒドフラン中、アルゴンなどの不活性ガス雰囲気下、
−８０〜−５０℃で１０分〜１時間程度反応させた後、
トリアルキルスズ（例：トリブチルスズクロライド）２
〜１０倍モルを用い、同じく不活性ガス雰囲気下、−８
０〜−５０℃で反応させることにより実施できる。この
ようにして得られた化合物（ＩＩＩ）の単離は、シリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーにより行うことができ
る。
チウム化剤（例：ＬＴＭＰ）を２〜１０モル用い、テト
ラヒドフラン中、アルゴンなどの不活性ガス雰囲気下、
−８０〜−５０℃で１０分〜１時間程度反応させた後、
トリアルキルスズ（例：トリブチルスズクロライド）２
〜１０倍モルを用い、同じく不活性ガス雰囲気下、−８
０〜−５０℃で反応させることにより実施できる。この
ようにして得られた化合物（ＩＩＩ）の単離は、シリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーにより行うことができ
る。
【００１６】第２工程；第２工程は、化合物（ＩＩＩ）
の塩基部６位をアミノ化した後、ステイレ反応により塩
基部２位に炭素鎖を導入し、必要に応じて糖部水酸基を
除去し、化合物（Ｉ）を得る工程である。アミノ化は常
法に従って行えばよく、たとえば化合物（ＩＩＩ）のテ
トラヒドロフラン溶液中、アンモニア水を加えて封管中
８０〜１００℃で反応させることにより実施できる。ス
テイレ反応は、アルゴンなどの不活性ガス雰囲気下、触
媒量のテトラキストリフェニルホスフィンおよびヨウ化
第一銅存在下、塩基部６位がアミノ化された化合物（Ｉ
ＩＩ）１モルに対してＲ1で表される炭素鎖を有する各
種ハライド１〜１０モルを用い、５０〜１００℃で５〜
３０時間程度反応させることにより実施できる。
の塩基部６位をアミノ化した後、ステイレ反応により塩
基部２位に炭素鎖を導入し、必要に応じて糖部水酸基を
除去し、化合物（Ｉ）を得る工程である。アミノ化は常
法に従って行えばよく、たとえば化合物（ＩＩＩ）のテ
トラヒドロフラン溶液中、アンモニア水を加えて封管中
８０〜１００℃で反応させることにより実施できる。ス
テイレ反応は、アルゴンなどの不活性ガス雰囲気下、触
媒量のテトラキストリフェニルホスフィンおよびヨウ化
第一銅存在下、塩基部６位がアミノ化された化合物（Ｉ
ＩＩ）１モルに対してＲ1で表される炭素鎖を有する各
種ハライド１〜１０モルを用い、５０〜１００℃で５〜
３０時間程度反応させることにより実施できる。
【００１７】反応に使用するＲ1で表される炭素鎖を有
する各種ハライドは市販品を使用するか、常法にしたが
って調製したものを使用すればよい。Ｒ1の意味すると
ころは前記定義の通りである。すなわち、Ｒ1で表され
るアルキル基としてはメチル、エチルなどの炭素数１〜
１０程度のアルキルを挙げることができる。Ｒ1で表さ
れるアラルキル基としてはベンジルなどを挙げることが
できる。Ｒ1で表されるアルケニル基としては２−プロ
ペニルなどを挙げることができる。Ｒ1で表されるアル
キニル基としては１−エチニル、１−オクチニルなどの
炭素数１〜１０程度のアルキニルを挙げることができ
る。Ｒ1で表されるアリール置換アルケニル基としては
２−フェニルエテニルなどを挙げることができる。さら
に、Ｒ1で表されるアリール置換アルキニル基としては
２−エニルエチニルなどを挙げることができる。
する各種ハライドは市販品を使用するか、常法にしたが
って調製したものを使用すればよい。Ｒ1の意味すると
ころは前記定義の通りである。すなわち、Ｒ1で表され
るアルキル基としてはメチル、エチルなどの炭素数１〜
１０程度のアルキルを挙げることができる。Ｒ1で表さ
れるアラルキル基としてはベンジルなどを挙げることが
できる。Ｒ1で表されるアルケニル基としては２−プロ
ペニルなどを挙げることができる。Ｒ1で表されるアル
キニル基としては１−エチニル、１−オクチニルなどの
炭素数１〜１０程度のアルキニルを挙げることができ
る。Ｒ1で表されるアリール置換アルケニル基としては
２−フェニルエテニルなどを挙げることができる。さら
に、Ｒ1で表されるアリール置換アルキニル基としては
２−エニルエチニルなどを挙げることができる。
【００１８】このようにして製造されたＲ2が水酸基の
保護基である化合物（Ｉ）はフロリジールカラムクロマ
トグラフィーにより単離することができる。さらに、Ｒ
2の水酸基の保護基を除去する必要がある場合、使用し
た保護基の除去法として常用されている方法により脱保
護することができる。たとえば、Ｒ2がシリル基である
場合にはフッ化アンモニウム処理によりシリル保護基を
除去することができ、アシル基である場合には酸性また
はアルカリ性加水分解によりアシル保護基を除去するこ
とができる。
保護基である化合物（Ｉ）はフロリジールカラムクロマ
トグラフィーにより単離することができる。さらに、Ｒ
2の水酸基の保護基を除去する必要がある場合、使用し
た保護基の除去法として常用されている方法により脱保
護することができる。たとえば、Ｒ2がシリル基である
場合にはフッ化アンモニウム処理によりシリル保護基を
除去することができ、アシル基である場合には酸性また
はアルカリ性加水分解によりアシル保護基を除去するこ
とができる。
【００１９】（２）本発明化合物 本発明の化合物は、前記式（Ｉ’）で表され、式中のＲ
1'およびＲ2は前記定義のとおりである。Ｒ2で表される
水酸基の保護基はヌクレオシド水酸基の保護基として通
常使用されるものであればよく、例えば、ｔ−ブチルジ
メチルシリル（ＴＢＤＭＳ）基などのシリル系保護基；
アセチル、ブチリルなどの脂肪族アシル基または、ベン
ゾイル、トルオイルなどの芳香族アシル基が例示される
が、好ましくはＴＢＤＭＳ基が用いられる。本発明化合
物は塩の形態を包含するものであり、かかる塩として
は、塩酸、硫酸などの無機酸またはクエン酸、コハク酸
などの有機酸との酸付加塩が例示することができる。
1'およびＲ2は前記定義のとおりである。Ｒ2で表される
水酸基の保護基はヌクレオシド水酸基の保護基として通
常使用されるものであればよく、例えば、ｔ−ブチルジ
メチルシリル（ＴＢＤＭＳ）基などのシリル系保護基；
アセチル、ブチリルなどの脂肪族アシル基または、ベン
ゾイル、トルオイルなどの芳香族アシル基が例示される
が、好ましくはＴＢＤＭＳ基が用いられる。本発明化合
物は塩の形態を包含するものであり、かかる塩として
は、塩酸、硫酸などの無機酸またはクエン酸、コハク酸
などの有機酸との酸付加塩が例示することができる。
【００２０】
【発明の効果】本発明の方法はアデノシンの２位に各種
の炭素鎖を効率よく導入できる点で優れた方法である。
また、式（Ｉ’）で表される本発明化合物は、血圧降下
作用などの生物活性を有し、循環器用医薬品としての開
発が期待されるものである。
の炭素鎖を効率よく導入できる点で優れた方法である。
また、式（Ｉ’）で表される本発明化合物は、血圧降下
作用などの生物活性を有し、循環器用医薬品としての開
発が期待されるものである。
【００２１】
【実施例】以下、実施例を示し本発明について具体的に
説明するが、本発明は何らこれらによって限定されるも
のではない。 実施例１：化合物３［式（Ｉ）：Ｒ1＝Ｐｈ，Ｒ2＝ＴＭ
ＢＤＳ］の合成 （１）化合物２［式（ＩＩＩ）：Ｘ＝Ｃｌ，Ｒ2＝ＴＢ
ＤＭＳ，Ｒ3＝Ｂｕ］の合成 テトラメチルピペリジン０．３４ｍｌ（２ｍｍｏｌ）の
ＴＨＦ（１０ｍｌ）溶液に、アルゴン気流下、−８０℃
において、ｎ−ブチルリチウム１．５Ｍヘキサン溶液
１．３４ｍｌ（２ｍｍｏｌ）を加え、１０分間攪拌し
た。次いで化合物１［式（ＩＩ）：Ｘ＝Ｃｌ，Ｒ2＝Ｔ
ＭＢＤＳ］３１４．５ｍｇ（０．５ｍｍｏｌ）のＴＨＦ
（２ｍｌ）溶液をシリンジで滴下し、ＴＨＦ（２ｍｌ）
で洗い込んだ。１０分後、トリブチルスズクロライド
（０．５４ｍｌ，２ｍｍｏｌ）を加え、同温度で３０分
間攪拌した後、飽和塩化アンモニウム水溶液１０ｍｌ及
び水５０ｍｌで希釈し、塩化メチレンで３回抽出した。
抽出液を、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧
濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（ヘキサン：酢酸エチル＝６０：１）で精製し、化合物
２（４５９．５ｍｇ，０．５ｍｍｏｌ，収率１００％）
を無色アメ状物質として得た。
説明するが、本発明は何らこれらによって限定されるも
のではない。 実施例１：化合物３［式（Ｉ）：Ｒ1＝Ｐｈ，Ｒ2＝ＴＭ
ＢＤＳ］の合成 （１）化合物２［式（ＩＩＩ）：Ｘ＝Ｃｌ，Ｒ2＝ＴＢ
ＤＭＳ，Ｒ3＝Ｂｕ］の合成 テトラメチルピペリジン０．３４ｍｌ（２ｍｍｏｌ）の
ＴＨＦ（１０ｍｌ）溶液に、アルゴン気流下、−８０℃
において、ｎ−ブチルリチウム１．５Ｍヘキサン溶液
１．３４ｍｌ（２ｍｍｏｌ）を加え、１０分間攪拌し
た。次いで化合物１［式（ＩＩ）：Ｘ＝Ｃｌ，Ｒ2＝Ｔ
ＭＢＤＳ］３１４．５ｍｇ（０．５ｍｍｏｌ）のＴＨＦ
（２ｍｌ）溶液をシリンジで滴下し、ＴＨＦ（２ｍｌ）
で洗い込んだ。１０分後、トリブチルスズクロライド
（０．５４ｍｌ，２ｍｍｏｌ）を加え、同温度で３０分
間攪拌した後、飽和塩化アンモニウム水溶液１０ｍｌ及
び水５０ｍｌで希釈し、塩化メチレンで３回抽出した。
抽出液を、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧
濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（ヘキサン：酢酸エチル＝６０：１）で精製し、化合物
２（４５９．５ｍｇ，０．５ｍｍｏｌ，収率１００％）
を無色アメ状物質として得た。
【００２２】1H NMR(CDCl3)δ：8.47(1H,s,H8),6.19(1
H,d,J=4.4,H1'),4.50(1H,t,J=4.0,H2'),4.30(1H,t,J=4.
0,H3'),4.15(1H,m,H4'),4.01(1H,dd,Jgem=11.7,J=3.3,H
5'a),3.82(1H,dd,Jgem=11.3,J=1.9,H5'b),1.54〜1.64(6
H,m,n-Bu),1.29〜1.38(6H,m,n-Bu),1.20(6H,t,CH3CH2CH
2 CH2 Sn),0.97,0.93,0.90(27H,each as s,t-Bu),0.88(9
H,t,CH3 CH2CH2CH2Sn),0.17,0.15,0.10,0.09,-0.02,-0.2
0(each as s,SiMe)13 C NMR(CDCl3)δ:181.9(s,C2),150.7(s,C4),149.2(s,C
6),142.4(d,C8),130.6(s,C5),87.0(d,C1'),85.5(d,C
4'),76.8(d,C2'),71.5(d,C3'),62.4(t,C5'),29.2,27.8,
10.8(each as t,n-Bu),26.1,25.7,25.6(each as q,t-Bu
Me),18.6,18.0,17.7(each as s,t-Bu),-4.4,-4.6,-4.7,
-4.8,-5.3(each as q,SiMe)FAB-MS(m/z):919(M++1)
H,d,J=4.4,H1'),4.50(1H,t,J=4.0,H2'),4.30(1H,t,J=4.
0,H3'),4.15(1H,m,H4'),4.01(1H,dd,Jgem=11.7,J=3.3,H
5'a),3.82(1H,dd,Jgem=11.3,J=1.9,H5'b),1.54〜1.64(6
H,m,n-Bu),1.29〜1.38(6H,m,n-Bu),1.20(6H,t,CH3CH2CH
2 CH2 Sn),0.97,0.93,0.90(27H,each as s,t-Bu),0.88(9
H,t,CH3 CH2CH2CH2Sn),0.17,0.15,0.10,0.09,-0.02,-0.2
0(each as s,SiMe)13 C NMR(CDCl3)δ:181.9(s,C2),150.7(s,C4),149.2(s,C
6),142.4(d,C8),130.6(s,C5),87.0(d,C1'),85.5(d,C
4'),76.8(d,C2'),71.5(d,C3'),62.4(t,C5'),29.2,27.8,
10.8(each as t,n-Bu),26.1,25.7,25.6(each as q,t-Bu
Me),18.6,18.0,17.7(each as s,t-Bu),-4.4,-4.6,-4.7,
-4.8,-5.3(each as q,SiMe)FAB-MS(m/z):919(M++1)
【００２３】（２）化合物２’［化合物２のＸをアミノ
基に変換した化合物］の合成 化合物２（２００ｍｇ，０．２２ｍｍｏｌ）のＴＨＦ
（５０ｍｌ）溶液にアンモニア水（１０ｍｌ）を加え、
封管中９０℃で４２時間加熱した。冷却後、反応液を酢
酸エチルで３回抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥
後、溶媒を減圧留去した。残渣をフロリジールカラムク
ロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１）
にて精製し、化合物３（１３２ｍｇ，０．１５ｍｍｏ
ｌ，収率６７％）を、無色あめ状物質として得た。
基に変換した化合物］の合成 化合物２（２００ｍｇ，０．２２ｍｍｏｌ）のＴＨＦ
（５０ｍｌ）溶液にアンモニア水（１０ｍｌ）を加え、
封管中９０℃で４２時間加熱した。冷却後、反応液を酢
酸エチルで３回抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥
後、溶媒を減圧留去した。残渣をフロリジールカラムク
ロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１）
にて精製し、化合物３（１３２ｍｇ，０．１５ｍｍｏ
ｌ，収率６７％）を、無色あめ状物質として得た。
【００２４】1H NMR(CDCl3)δ：8.13(1H,s,H8),6.06(1
H,d,J=4.4,H1'),5.44(2H,s,NH2),4.6(1H,t,J=4.3,H2'),
4.3(1H,t,J=4.4,H3'),4.10(1H,m,H4'),4.01(1H,dd,Jgem
=12.1,J=4.3,H5'a),3.79(1H,dd,Jgem=11.3,J=2.9,H5'
b),1.51-1.6196H,m,n-Bu),1.28,-1.37(6H,m,n-Bu),1.12
(6H,t,CH3CH2CH2 CH2 Sn),0.88(9H,t,CH3 CH2CH2CH2Sn),0.
96,0.93,0.81(27H,each as s,t-Bu),0.15,0.13,0.09,0.
08,-0.02,-0.13(18H,each as s,SiMe)13 C NMR(CDCl3)δ：180.6(s,C2),153.4(s,C6),149.2(s,
C4),138.6(d,C8),119.2(s,C5),88.1(d,C1'),84.6(d,C
4'),75.7(d,C2'),71.5(d,C3'),62.3(t,C5'),29.1,27.3,
10.3(each as t,n-Bu),26.1,25.8,25.7(each as q,t-Bu
Me),18.5,18.0,17.8(each as s,t-Bu),13.7(q,n-BuMe),
-4.4,-4.7,-5.3(each as q,SiMe) FAB-MS(m/z): 900(M++1)
H,d,J=4.4,H1'),5.44(2H,s,NH2),4.6(1H,t,J=4.3,H2'),
4.3(1H,t,J=4.4,H3'),4.10(1H,m,H4'),4.01(1H,dd,Jgem
=12.1,J=4.3,H5'a),3.79(1H,dd,Jgem=11.3,J=2.9,H5'
b),1.51-1.6196H,m,n-Bu),1.28,-1.37(6H,m,n-Bu),1.12
(6H,t,CH3CH2CH2 CH2 Sn),0.88(9H,t,CH3 CH2CH2CH2Sn),0.
96,0.93,0.81(27H,each as s,t-Bu),0.15,0.13,0.09,0.
08,-0.02,-0.13(18H,each as s,SiMe)13 C NMR(CDCl3)δ：180.6(s,C2),153.4(s,C6),149.2(s,
C4),138.6(d,C8),119.2(s,C5),88.1(d,C1'),84.6(d,C
4'),75.7(d,C2'),71.5(d,C3'),62.3(t,C5'),29.1,27.3,
10.3(each as t,n-Bu),26.1,25.8,25.7(each as q,t-Bu
Me),18.5,18.0,17.8(each as s,t-Bu),13.7(q,n-BuMe),
-4.4,-4.7,-5.3(each as q,SiMe) FAB-MS(m/z): 900(M++1)
【００２５】（３）化合物３［式（Ｉ）：Ｒ1＝Ｐｈ，
Ｒ2＝ＴＭＢＤＳ］の合成 化合物２’（８１ｍｇ、０．０９ｍｍｏｌ）のＴＨＦ
（１０ｍｌ）溶液に、テトラキストリフェニルフォスフ
ィンパラジウム（５．２ｍｇ，４．５μｍｏｌ）、ヨウ
化第一銅（３．５ｍｇ，１８μｍｏｌ）および、ヨード
ベンゼン（１９μｌ、０．１８ｍｍｏｌ）を加えアルゴ
ン気流下で２時間還流した。次いで、ヨードベンゼン
（１０μｌ，０．１ｍｍｏｌ）を追加して１５時間還流
した。放冷後、炭酸水素ナトリウム水溶液で希釈し、塩
化メチレンで３回抽出した後、無水硫酸マグネシウムで
乾燥した。溶媒を減圧留去した後、残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝５：
１）で精製し、目的化合物（５５．１ｍｇ、０．０８ｍ
ｍｏｌ，収率８９％）を無色針状晶（ｍｐ＝１９９℃）
として得た。
Ｒ2＝ＴＭＢＤＳ］の合成 化合物２’（８１ｍｇ、０．０９ｍｍｏｌ）のＴＨＦ
（１０ｍｌ）溶液に、テトラキストリフェニルフォスフ
ィンパラジウム（５．２ｍｇ，４．５μｍｏｌ）、ヨウ
化第一銅（３．５ｍｇ，１８μｍｏｌ）および、ヨード
ベンゼン（１９μｌ、０．１８ｍｍｏｌ）を加えアルゴ
ン気流下で２時間還流した。次いで、ヨードベンゼン
（１０μｌ，０．１ｍｍｏｌ）を追加して１５時間還流
した。放冷後、炭酸水素ナトリウム水溶液で希釈し、塩
化メチレンで３回抽出した後、無水硫酸マグネシウムで
乾燥した。溶媒を減圧留去した後、残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝５：
１）で精製し、目的化合物（５５．１ｍｇ、０．０８ｍ
ｍｏｌ，収率８９％）を無色針状晶（ｍｐ＝１９９℃）
として得た。
【００２６】1H NMR(CDCl3)δ：8.40(2H,m,Phenyl-o),
8.18(1H,s,H8),7.42-7.47(3H,m,Phenyl-m,p),6.08(1H,
d,J=4.6,H1'),5.58(2H,s,NH2),4.88(1H,t,J=4.0,H2'),
4.37(1H,t,J=4.0,H3'),4.15(1H,m,H4'),4.07(1H,dd,J
gem=11.0,J=5.1,H5'a),3.83(1H,dd,Jgem=11.0,J=3.0,H
5'b),0.95,0.94,0.82(27H,each as s,t-Bu),0.14,0.12,
0.11,-0.03,-0.13(18H,each as s,SiMe)13 C NMR(CDCl3)δ：159.4(s,C2),155.1(s,C6),150.9(s,
C4),140.3(d,C8),138.5(s,Phenyl-4),129.7,128.2(each
as d,Phenyl-o〜p),119.2(s,C5),88.6(d,C1'),84.9(d,
C4'),75.2(d,C2'),71.7(d,C3),62.4(t,C5),26.0,25.9,1
8.6(each as q,tBuMe),18.5,18.1,17.9(each as s,tB
u),-4.4,-4.7,-4.8,-5.3,-5.4(each as q,SiMe) FAB-MS(m/z);686(M++1)
8.18(1H,s,H8),7.42-7.47(3H,m,Phenyl-m,p),6.08(1H,
d,J=4.6,H1'),5.58(2H,s,NH2),4.88(1H,t,J=4.0,H2'),
4.37(1H,t,J=4.0,H3'),4.15(1H,m,H4'),4.07(1H,dd,J
gem=11.0,J=5.1,H5'a),3.83(1H,dd,Jgem=11.0,J=3.0,H
5'b),0.95,0.94,0.82(27H,each as s,t-Bu),0.14,0.12,
0.11,-0.03,-0.13(18H,each as s,SiMe)13 C NMR(CDCl3)δ：159.4(s,C2),155.1(s,C6),150.9(s,
C4),140.3(d,C8),138.5(s,Phenyl-4),129.7,128.2(each
as d,Phenyl-o〜p),119.2(s,C5),88.6(d,C1'),84.9(d,
C4'),75.2(d,C2'),71.7(d,C3),62.4(t,C5),26.0,25.9,1
8.6(each as q,tBuMe),18.5,18.1,17.9(each as s,tB
u),-4.4,-4.7,-4.8,-5.3,-5.4(each as q,SiMe) FAB-MS(m/z);686(M++1)
【００２７】また、フッ化アンモニウム処理などのシリ
ル基を除去する方法として常用されている方法でＲ2が
水素原子である化合物４を合成することができる。
ル基を除去する方法として常用されている方法でＲ2が
水素原子である化合物４を合成することができる。
【００２８】実施例２：化合物５［式（Ｉ）：Ｒ1＝Ｃ
Ｈ2ＣＨ＝ＣＨ2，Ｒ2＝ＴＭＢＤＳ］の合成 アルゴン気流下、実施例１の（３）で得られた化合物３
（１０３ｍｇ，０．１１ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（１０ｍ
ｌ）溶液に、テトラキストリフェニルフォスフィンパラ
ジウム（６．５ｍｇ、５．５μｍｏｌ）、ヨウ化第一銅
（４．４ｍｇ、２２μｍｏｌ）及び臭化アリル（１１．
４μｌ、０．１３ｍｍｏｌ）を加え、１８時間還流し
た。放冷後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で希釈し、
塩化メチレンで３回抽出した後、無水硫酸マグネシウム
で乾燥した。溶媒を減圧留去した後、残渣をフロリジー
ルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝
１０：１）にて精製し、化合物５（３６ｍｇ，０．０６
ｍｍｏｌ，収率５０％）をアメ状物質として得た。
Ｈ2ＣＨ＝ＣＨ2，Ｒ2＝ＴＭＢＤＳ］の合成 アルゴン気流下、実施例１の（３）で得られた化合物３
（１０３ｍｇ，０．１１ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（１０ｍ
ｌ）溶液に、テトラキストリフェニルフォスフィンパラ
ジウム（６．５ｍｇ、５．５μｍｏｌ）、ヨウ化第一銅
（４．４ｍｇ、２２μｍｏｌ）及び臭化アリル（１１．
４μｌ、０．１３ｍｍｏｌ）を加え、１８時間還流し
た。放冷後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で希釈し、
塩化メチレンで３回抽出した後、無水硫酸マグネシウム
で乾燥した。溶媒を減圧留去した後、残渣をフロリジー
ルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝
１０：１）にて精製し、化合物５（３６ｍｇ，０．０６
ｍｍｏｌ，収率５０％）をアメ状物質として得た。
【００２９】1H NMR(CDCl3)δ：8.10(1H,s,H8),6.14(1
H,ddt,Jgem=17.0,J=9.9,J=7.0,CH2=CHCH2-),5.95(1H,d,
4.4,H1'),5.69(2H,s,NH2),5.16(1H,dd,Jgem=17.0,J=1.
7,CH2 =CHCH2-,a),5.09(1H,dd,Jgem=9.9,J=1.7,CH2 =CHCH
2-,b),4.73(1H,t,J=4.4,H2'),4.32(1H,t,J=4.3,H3'),4.
12(1H,m,H4'),4.06(1H,dd,Jgem=11.0,J=4.2,H5'a),3.78
(1H,dd,Jgem=11.2,J=3.3,H5'b),3.56(2H,d,J=6.9,CH2=C
HCH2 -),0.94,0.92,0.81(27H,each as s,tBu),0.13,0.1
2,0.10,0.08,-0.02,-0.14(18H,each as s,SiMe)
H,ddt,Jgem=17.0,J=9.9,J=7.0,CH2=CHCH2-),5.95(1H,d,
4.4,H1'),5.69(2H,s,NH2),5.16(1H,dd,Jgem=17.0,J=1.
7,CH2 =CHCH2-,a),5.09(1H,dd,Jgem=9.9,J=1.7,CH2 =CHCH
2-,b),4.73(1H,t,J=4.4,H2'),4.32(1H,t,J=4.3,H3'),4.
12(1H,m,H4'),4.06(1H,dd,Jgem=11.0,J=4.2,H5'a),3.78
(1H,dd,Jgem=11.2,J=3.3,H5'b),3.56(2H,d,J=6.9,CH2=C
HCH2 -),0.94,0.92,0.81(27H,each as s,tBu),0.13,0.1
2,0.10,0.08,-0.02,-0.14(18H,each as s,SiMe)
【００３０】また、フッ化アンモニウム処理などのシリ
ル基を除去する方法として常用されている方法でＲ2が
水素原子である化合物６を合成することができる。
ル基を除去する方法として常用されている方法でＲ2が
水素原子である化合物６を合成することができる。
【００３１】実施例３：化合物７［式（Ｉ）：Ｒ1＝Ｃ
Ｈ＝ＣＨＰｈ，Ｒ2＝ＴＭＢＤＳ］の合成 アルゴン気流下、実施例１の（３）で得られた化合物３
（１０１ｍｇ，０．１１ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（１０ｍ
ｌ）溶液に、テトラキストリフェニルフォスフィンパラ
ジウム（６．４ｍｇ，０．００６ｍｍｏｌ）、ヨウ化第
一銅（４．５ｍｇ，０．０２ｍｍｏｌ）及びβ−ブロモ
スチレン（０．０１７ｍｌ，０．１３ｍｍｏｌ）を加
え、２２時間還流した。放冷後、飽和炭酸水素ナトリウ
ム水溶液で希釈し、塩化メチレンで３回抽出した後、無
水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧濃縮した
後、残渣をフロリジールカラムクロマトグラフィー（ヘ
キサン：酢酸エチル＝２：１）にて精製し、化合物７
（１５ｍｇ，０．０２ｍｍｏｌ，収率２０％）をアメ状
物質として得た。
Ｈ＝ＣＨＰｈ，Ｒ2＝ＴＭＢＤＳ］の合成 アルゴン気流下、実施例１の（３）で得られた化合物３
（１０１ｍｇ，０．１１ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（１０ｍ
ｌ）溶液に、テトラキストリフェニルフォスフィンパラ
ジウム（６．４ｍｇ，０．００６ｍｍｏｌ）、ヨウ化第
一銅（４．５ｍｇ，０．０２ｍｍｏｌ）及びβ−ブロモ
スチレン（０．０１７ｍｌ，０．１３ｍｍｏｌ）を加
え、２２時間還流した。放冷後、飽和炭酸水素ナトリウ
ム水溶液で希釈し、塩化メチレンで３回抽出した後、無
水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧濃縮した
後、残渣をフロリジールカラムクロマトグラフィー（ヘ
キサン：酢酸エチル＝２：１）にて精製し、化合物７
（１５ｍｇ，０．０２ｍｍｏｌ，収率２０％）をアメ状
物質として得た。
【００３２】1H NMR(CDCl3)δ：8.19(1H,s,H8),7.87(1
H,d,J=15.8,PhCH=CH-),7.58(2H,d,J=6.1,Phenyl-o),7.3
8(2H,t,J=7.4,Phenyl-m),7.30(1H,t,J=6.9,Phenyl-p0,
7.00(1H,d,J=15.8,PhCH=CH-),6.06(1H,d,J=4.4,H1'),5.
61(2H,s,NH2),4.68(1H,t,J=4.0,H2'),4.36(1H,t,J=4.0,
H3'),4.15(1H,m,H4'),4.09(1H,dd,Jgem=11.5,J=4.4,H5'
a),3.82(1H,dd,Jgem=11.2,J=2.6,H5'b),0.96,0.94,0.85
(27H,each as s,t-Bu),0.16,0.14,0.12,0.10,0.01,-0.0
7(18H,each as s,SiMe)
H,d,J=15.8,PhCH=CH-),7.58(2H,d,J=6.1,Phenyl-o),7.3
8(2H,t,J=7.4,Phenyl-m),7.30(1H,t,J=6.9,Phenyl-p0,
7.00(1H,d,J=15.8,PhCH=CH-),6.06(1H,d,J=4.4,H1'),5.
61(2H,s,NH2),4.68(1H,t,J=4.0,H2'),4.36(1H,t,J=4.0,
H3'),4.15(1H,m,H4'),4.09(1H,dd,Jgem=11.5,J=4.4,H5'
a),3.82(1H,dd,Jgem=11.2,J=2.6,H5'b),0.96,0.94,0.85
(27H,each as s,t-Bu),0.16,0.14,0.12,0.10,0.01,-0.0
7(18H,each as s,SiMe)
【００３３】また、フッ化アンモニウム処理などのシリ
ル基を除去する方法として常用されている方法でＲ2が
水素原子である化合物８を合成することができる。
ル基を除去する方法として常用されている方法でＲ2が
水素原子である化合物８を合成することができる。
【００３４】実施例４：化合物９［式（Ｉ）：Ｒ1＝Ｃ
＝ＣＰｈ，Ｒ2＝ＴＭＢＤＳ］の合成アルゴン気流下、
実施例１の（３）で得られた化合物３（１００ｍｇ，
０．１１ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（１５ｍｌ）溶液に、テト
ラキストリフェニルフォスフィンパラジウム（６．５ｍ
ｇ，０．００６５ｍｍｏｌ）、ヨウ化第一銅（４．５ｍ
ｇ，０．０２ｍｍｏｌ）及びヨードフェニルアセチレン
（３０ｍｇ，０．１３ｍｍｏｌ）を加え、１０．５時間
還流した。放冷後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で希
釈し塩化メチレンで３回抽出した後、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥した。抽出液を減圧濃縮した後、残渣をフロ
リジールカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エ
チル＝２：１）で精製し、化合物９（５６．３ｍｇ，
０．０８ｍｍｏｌ，収率７２％）をアメ状物質として得
た。
＝ＣＰｈ，Ｒ2＝ＴＭＢＤＳ］の合成アルゴン気流下、
実施例１の（３）で得られた化合物３（１００ｍｇ，
０．１１ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（１５ｍｌ）溶液に、テト
ラキストリフェニルフォスフィンパラジウム（６．５ｍ
ｇ，０．００６５ｍｍｏｌ）、ヨウ化第一銅（４．５ｍ
ｇ，０．０２ｍｍｏｌ）及びヨードフェニルアセチレン
（３０ｍｇ，０．１３ｍｍｏｌ）を加え、１０．５時間
還流した。放冷後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で希
釈し塩化メチレンで３回抽出した後、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥した。抽出液を減圧濃縮した後、残渣をフロ
リジールカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エ
チル＝２：１）で精製し、化合物９（５６．３ｍｇ，
０．０８ｍｍｏｌ，収率７２％）をアメ状物質として得
た。
【００３５】1H NMR(CDCl3）δ：8.20(1H,s,H8),7.63(2
H,m,Phenyl),7.36(3H,m,Phenyl),6.04(1H,d,J=4.8,H
1'),5.87(2H,s,NH2),4.70(1H,t,J=4.5,H2'),4.54(1H,t,
J=4.4,H3'),4.14(1H,m,H4'),4.05(1H,dd,Jgem=12.0,J=
4.3,H5'a),3.80(1H,dd,Jgem=12.5,J=2.9,H5'b),0.94,0.
93,0.85(27H,each as s,t-Bu),0.14,0.12,0.11,0.10,0.
01,-0.11(18H,each as s,SiMe)13 C NMR(CDCl3)δ：155.1(s.C2),149.9(s,C4),140.5(d,
C8),132.4,129.0,128.3(each as d,Phenyl-o〜p),122.0
(s,Phenyl-4),119.5(s,C5),88.9(d,C1'),88.7,84.9(eac
h as s,Etynyl),85.2(d,C4'),75.8(d,C2'),71.7(d,C
3'),62.4(t,C5'),26.0,25.9,25.8(each as q,t-BuMe),1
8.5,18.1,17.9(each as s,t-Bu),-4.3,-4.6,-4.8,-5.0,
-5.4,-5.5(each as q,SiMe) FAB-MS(m/z):710(M++1)
H,m,Phenyl),7.36(3H,m,Phenyl),6.04(1H,d,J=4.8,H
1'),5.87(2H,s,NH2),4.70(1H,t,J=4.5,H2'),4.54(1H,t,
J=4.4,H3'),4.14(1H,m,H4'),4.05(1H,dd,Jgem=12.0,J=
4.3,H5'a),3.80(1H,dd,Jgem=12.5,J=2.9,H5'b),0.94,0.
93,0.85(27H,each as s,t-Bu),0.14,0.12,0.11,0.10,0.
01,-0.11(18H,each as s,SiMe)13 C NMR(CDCl3)δ：155.1(s.C2),149.9(s,C4),140.5(d,
C8),132.4,129.0,128.3(each as d,Phenyl-o〜p),122.0
(s,Phenyl-4),119.5(s,C5),88.9(d,C1'),88.7,84.9(eac
h as s,Etynyl),85.2(d,C4'),75.8(d,C2'),71.7(d,C
3'),62.4(t,C5'),26.0,25.9,25.8(each as q,t-BuMe),1
8.5,18.1,17.9(each as s,t-Bu),-4.3,-4.6,-4.8,-5.0,
-5.4,-5.5(each as q,SiMe) FAB-MS(m/z):710(M++1)
【００３６】また、フッ化アンモニウム処理などのシリ
ル基を除去する方法として常用されている方法でＲ2が
水素原子である化合物１０を合成することができる。
ル基を除去する方法として常用されている方法でＲ2が
水素原子である化合物１０を合成することができる。
【００３７】実施例５：化合物１１［式（Ｉ）：Ｒ1＝
ＣＨ2Ｐｈ，Ｒ2＝ＴＭＢＤＳ］の合成実施例１の（３）
で得られた化合物（１０２ｍｇ、０．１１ｍｍｏｌ）の
ＴＨＦ（１０ｍｌ）溶液に、アルゴン雰囲気下、テトラ
キストリフェニルフォスフィンパラジウム（５．５μｍ
ｍｏｌ，６．５ｍｇ）、ヨウ化第一銅（２２μｍｏｌ，
４．９ｍｇ）及び臭化ベンジル（１６μｌ、０．１ｍｍ
ｏｌ）を加え、９時間環流した。放冷後、飽和炭酸水素
ナトリウム水溶液で希釈し、塩化メチレンで３回抽出し
た後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留
去後、残渣をフロリジールカラムクロマトグラフィー
（ヘキサン：酢酸エチル＝５：１）で精製し、化合物１
１（６４．９ｍｇ、０．０９ｍｍｏｌ，収率８３％）を
アメ物質として得た。
ＣＨ2Ｐｈ，Ｒ2＝ＴＭＢＤＳ］の合成実施例１の（３）
で得られた化合物（１０２ｍｇ、０．１１ｍｍｏｌ）の
ＴＨＦ（１０ｍｌ）溶液に、アルゴン雰囲気下、テトラ
キストリフェニルフォスフィンパラジウム（５．５μｍ
ｍｏｌ，６．５ｍｇ）、ヨウ化第一銅（２２μｍｏｌ，
４．９ｍｇ）及び臭化ベンジル（１６μｌ、０．１ｍｍ
ｏｌ）を加え、９時間環流した。放冷後、飽和炭酸水素
ナトリウム水溶液で希釈し、塩化メチレンで３回抽出し
た後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留
去後、残渣をフロリジールカラムクロマトグラフィー
（ヘキサン：酢酸エチル＝５：１）で精製し、化合物１
１（６４．９ｍｇ、０．０９ｍｍｏｌ，収率８３％）を
アメ物質として得た。
【００３８】1H NMR(CDCl3)δ：8.119(s,H8),7.26(m,Ph
enyl),5.96(1H,d,J=4.0,H1'),5.57(2H,s,NH2),4.68(1H,
t,J=4.4,H2'),4.31(1H,t,J=4.2,H3'),4.10(2H,s,Benzy
l),4.3(1H,m,H4'),4.07(1H,dd,Jgem=11.0,J=4.8,H5'a),
3.80(1H,dd,Jgem=11.0,J=3.1,H5'b),0.94,0.92,0.80(27
H,each as s,t-Bu),0.13,0.12,0.10,0.09,-0.04,-0.08
(18H,each as s,SiMe)13 C NMR(CDCl3)δ：163.9(s,C2),155.3(s,C6),150.1(s,
C4),139.5(d,C8),126.1,128.2,129.0(each as d,Pheny
l),118.5(s,C5),88.8(d,C1')84.7(d,C4'),75.2(d,C2'),
71.4(d,C3'),62.2(t,C5'),45.7(t,Benzyl),26.0,25.8,2
5.7(each as q,t-BuMe),18.5,18.0,17.9(each as s,t-B
u),-4.4,-4.8,-4.9,-5.3,-5.4(each as q,SiMe)
enyl),5.96(1H,d,J=4.0,H1'),5.57(2H,s,NH2),4.68(1H,
t,J=4.4,H2'),4.31(1H,t,J=4.2,H3'),4.10(2H,s,Benzy
l),4.3(1H,m,H4'),4.07(1H,dd,Jgem=11.0,J=4.8,H5'a),
3.80(1H,dd,Jgem=11.0,J=3.1,H5'b),0.94,0.92,0.80(27
H,each as s,t-Bu),0.13,0.12,0.10,0.09,-0.04,-0.08
(18H,each as s,SiMe)13 C NMR(CDCl3)δ：163.9(s,C2),155.3(s,C6),150.1(s,
C4),139.5(d,C8),126.1,128.2,129.0(each as d,Pheny
l),118.5(s,C5),88.8(d,C1')84.7(d,C4'),75.2(d,C2'),
71.4(d,C3'),62.2(t,C5'),45.7(t,Benzyl),26.0,25.8,2
5.7(each as q,t-BuMe),18.5,18.0,17.9(each as s,t-B
u),-4.4,-4.8,-4.9,-5.3,-5.4(each as q,SiMe)
【００３９】また、フッ化アンモニウム処理などのシリ
ル基を除去する方法として常用されている方法でＲ2が
水素原子である化合物１２を合成することができる。
ル基を除去する方法として常用されている方法でＲ2が
水素原子である化合物１２を合成することができる。
Claims (2)
- 【請求項１】 下記の二つの反応工程よりなる、式
（Ｉ）で表される２位炭素鎖置換アデノシン誘導体の製
造法。 【化１】 （式中、Ｒ1はアルキル基、フェニル基、アラルキル
基、アルケニル基、アルキニル基、アリール置換アルケ
ニル基またはアリール置換アルキニル基、Ｒ2は水素原
子または水酸基の保護基を示す。） 第１工程：リチウム化剤とトリアルキルスズにより式
（ＩＩ）で表される化合物の塩基部２位をスタニル化し
て式（ＩＩＩ）で表される化合物を得る工程。 【化２】 （式中、Ｒ3は低級アルキル基、Ｘはハロゲン原子を示
し、Ｒ2は前記と同意義。） 第２工程：式（ＩＩＩ）で表される化合物の塩基部６位
をアミノ化した後、ステイレ（Stille）反応により塩基
部２位に炭素鎖を導入し、必要に応じて糖部水酸基の保
護基を除去して式（Ｉ）で表される化合物を得る工程。 【化３】 （式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＸは前記と同意義。） - 【請求項２】 式（Ｉ’） 【化４】 （式中、Ｒ1'はフェニル基、ベンジル基または２−フェ
ニルエテニル基、Ｒ2は水素原子または水酸基の保護基
を示す。）で表される２位炭素鎖置換アデノシン誘導体
またはその塩。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7237825A JPH0959293A (ja) | 1995-08-23 | 1995-08-23 | ２位炭素鎖置換アデノシン誘導体の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7237825A JPH0959293A (ja) | 1995-08-23 | 1995-08-23 | ２位炭素鎖置換アデノシン誘導体の製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0959293A true JPH0959293A (ja) | 1997-03-04 |
Family
ID=17020967
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7237825A Pending JPH0959293A (ja) | 1995-08-23 | 1995-08-23 | ２位炭素鎖置換アデノシン誘導体の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0959293A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007527396A (ja) * | 2003-06-30 | 2007-09-27 | イデニクス（ケイマン）リミテツド | β−Ｌ−２’−デオキシヌクレオシドの合成 |
| WO2018047909A1 (ja) * | 2016-09-08 | 2018-03-15 | 国立大学法人北海道大学 | プリンヌクレオシド誘導体、ポリヌクレオチド及びｒｎａ |
-
1995
- 1995-08-23 JP JP7237825A patent/JPH0959293A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007527396A (ja) * | 2003-06-30 | 2007-09-27 | イデニクス（ケイマン）リミテツド | β−Ｌ−２’−デオキシヌクレオシドの合成 |
| WO2018047909A1 (ja) * | 2016-09-08 | 2018-03-15 | 国立大学法人北海道大学 | プリンヌクレオシド誘導体、ポリヌクレオチド及びｒｎａ |
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