JPS63183599U - - Google Patents

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JPS63183599U
JPS63183599U JP7418887U JP7418887U JPS63183599U JP S63183599 U JPS63183599 U JP S63183599U JP 7418887 U JP7418887 U JP 7418887U JP 7418887 U JP7418887 U JP 7418887U JP S63183599 U JPS63183599 U JP S63183599U
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preliminary chamber
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outlet
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Description

【図面の簡単な説明】
第１図は本考案の電子線照射装置の搬送装置の
概略斜視図。第２図は本考案の一例にかかる電子
線照射装置搬送装置の一部縦断略正面図。第３図
は同じものの縦断側面図。第４図は従来例にかか
る搬送装置の略斜視図。第５図は他の従来例にか
かる搬送装置の略斜視図。 １……搬送装置函体、２……入口予備室、３…
…出口予備室、４……前シヤツタ、５……後シヤ
ツタ、６……入口蓋、７……出口蓋、９……被処
理物、１１……主コンベア、１２，１３……予備
室コンベア、１６，１７……リフター昇降機構、
１８……入口リフター、１９……出口リフター。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 高真空中に於て電子線を発生し、これを加
    速して大気中に置かれた被処理物に照射するよう
    にした電子線照射装置に於て、被処理物を入口か
    ら電子線の照射される位置を経て出口へ搬送する
    搬送装置であつて、主コンベア１１を有し中央上
    方に電子線の照射窓を設けた搬送装置函体１と、
    搬送装置函体１の両端部の上面に設けられた入口
    予備室２、出口予備室３と、該入口予備室２、出
    口予備室３に設けられ被処理物を昇降するための
    リフター１８，１９と、該リフター１８，１９を
    昇降させるためのリフター昇降機構１６，１７と
    、入口予備室２、出口予備室３と搬送装置函体１
    の間の通路を開閉するための水平方向に移動でき
    るシヤツタ４，５と、入口予備室２、出口予備室
    ３に設けられた入口蓋６、出口蓋７とより構成さ
    れる事を特徴とする電子線照射装置の搬送装置。 (2) 搬送装置函体１の中へ窒素ガスを供給し、
    これを入口予備室２または出口予備室３より排気
    する機構を設けた事を特徴とする実用新案登録請
    求の範囲第(1)項記載の電子線照射装置の搬送装
    置。
JP1987074188U 1987-05-18 1987-05-18 電子線照射装置の搬送装置 Expired - Lifetime JPH0712960Y2 (ja)

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JPS63183599U true JPS63183599U (ja) 1988-11-25
JPH0712960Y2 JPH0712960Y2 (ja) 1995-03-29

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012500454A (ja) * 2008-08-11 2012-01-05 イオンビーム アプリケーションズ， エス．エー． 大電流直流陽子加速器

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS499606A (ja) * 1972-05-01 1974-01-28
JPS5060699A (ja) * 1973-10-02 1975-05-24
JPS6128900A (ja) * 1984-07-18 1986-02-08 日新ハイボルテ−ジ株式会社 電子線照射装置

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS499606A (ja) * 1972-05-01 1974-01-28
JPS5060699A (ja) * 1973-10-02 1975-05-24
JPS6128900A (ja) * 1984-07-18 1986-02-08 日新ハイボルテ−ジ株式会社 電子線照射装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012500454A (ja) * 2008-08-11 2012-01-05 イオンビーム アプリケーションズ， エス．エー． 大電流直流陽子加速器

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Publication number Publication date
JPH0712960Y2 (ja) 1995-03-29

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