JPS63181237A - 陰極線管処理用加熱炉 - Google Patents
陰極線管処理用加熱炉Info
- Publication number
- JPS63181237A JPS63181237A JP1231887A JP1231887A JPS63181237A JP S63181237 A JPS63181237 A JP S63181237A JP 1231887 A JP1231887 A JP 1231887A JP 1231887 A JP1231887 A JP 1231887A JP S63181237 A JPS63181237 A JP S63181237A
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- JP
- Japan
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- envelope
- ray tube
- tube
- cathode ray
- infrared
- Prior art date
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- Pending
Links
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 title claims abstract description 14
- 230000005855 radiation Effects 0.000 abstract description 3
- 239000002131 composite material Substances 0.000 abstract 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)
- Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は陰極線管の排気工程等で用いる加熱炉番ζ関す
る。
る。
陰極線管は、外囲器内に電子銃等を封入した後、外囲器
内を真空に排気する排気工程、外囲器のパネル内面に螢
光膜を形成する際の螢光膜塗布後のベーキングと称する
加熱工程及びパネルとファンネルを封着するフリットシ
ール工程等を必要としている。そして、これらの工程に
おいては、陰極線管を加熱炉で処理している。
内を真空に排気する排気工程、外囲器のパネル内面に螢
光膜を形成する際の螢光膜塗布後のベーキングと称する
加熱工程及びパネルとファンネルを封着するフリットシ
ール工程等を必要としている。そして、これらの工程に
おいては、陰極線管を加熱炉で処理している。
従来、かかる陰極線管処理用加熱炉として、例えば特開
昭６１−１３５０２３号公報に示すものが知られている
。この構造は、炉内の空気を加熱し、これを強制循環さ
せる間接加熱と、炉本体ｆこ遠赤外線発生源を設置し、
遠赤外線の放射による直接加熱とを併用している。
昭６１−１３５０２３号公報に示すものが知られている
。この構造は、炉内の空気を加熱し、これを強制循環さ
せる間接加熱と、炉本体ｆこ遠赤外線発生源を設置し、
遠赤外線の放射による直接加熱とを併用している。
上記従来技術は、遠赤外線発生源を炉本体に取付けでな
るので、強制循環させられる加熱空気の循環を邪魔しな
いように、遠赤外線発生源は炉本体の下方側に配設しな
ければならない。このため、陰極線管のようにほぼ球形
状のものＩこおいては、遠赤外線はファンネルの下方側
のみに放射され、パネル側には放射されにくい。このよ
うに遠赤外線が放射されにくい部分があるので、外囲器
全体では温度差が生じて熱歪応力が発生し、外囲器の変
形あるいは最悪の場合には破損するという問題がある。
るので、強制循環させられる加熱空気の循環を邪魔しな
いように、遠赤外線発生源は炉本体の下方側に配設しな
ければならない。このため、陰極線管のようにほぼ球形
状のものＩこおいては、遠赤外線はファンネルの下方側
のみに放射され、パネル側には放射されにくい。このよ
うに遠赤外線が放射されにくい部分があるので、外囲器
全体では温度差が生じて熱歪応力が発生し、外囲器の変
形あるいは最悪の場合には破損するという問題がある。
本発明の目的は、外囲器全体を均一に加熱することがで
き、外囲器の変形及び破損を防止することができる陰極
線管処理用加熱炉を提供することにある。
き、外囲器の変形及び破損を防止することができる陰極
線管処理用加熱炉を提供することにある。
上記目的は、陰極線管を保持して炉本体内を搬送させる
ホルダＩこ、陰極線管の進行方向に対し陰極線管の前後
に赤外線発生装置を配置して取付けることにより達成さ
れる。
ホルダＩこ、陰極線管の進行方向に対し陰極線管の前後
に赤外線発生装置を配置して取付けることにより達成さ
れる。
赤外線発生装置は、陰極線管の進行方向に対し陰極線管
の前後に配置してホルダに取付けられているので、赤外
線発生装置をパネルの側方側まで伸ばして配置すること
ができる。これにより、赤外線を外囲器全体に放射する
ことができ、外囲器全体が均一に加熱される。
の前後に配置してホルダに取付けられているので、赤外
線発生装置をパネルの側方側まで伸ばして配置すること
ができる。これにより、赤外線を外囲器全体に放射する
ことができ、外囲器全体が均一に加熱される。
以下、本発明の一実施例を第１図乃至第３図により説明
する。被処理物の陰極線管１は、図示しない手段でホル
ダ２１こ保持されており、ホルダ２が矢印３方向に移動
することによって炉本体４内を移動する。陰極線管１は
、ステムとバルブとの封着の完了した状態で炉本体４内
を移動中にホルダ２に設けた真空ポンプ（図示せず）を
含む排気装置により外囲器内を高真空ｉこ排気するもの
で、従ってこの例では排気炉を示している。
する。被処理物の陰極線管１は、図示しない手段でホル
ダ２１こ保持されており、ホルダ２が矢印３方向に移動
することによって炉本体４内を移動する。陰極線管１は
、ステムとバルブとの封着の完了した状態で炉本体４内
を移動中にホルダ２に設けた真空ポンプ（図示せず）を
含む排気装置により外囲器内を高真空ｉこ排気するもの
で、従ってこの例では排気炉を示している。
炉本体４は、第２図に示すように、炉外殻４１の内部に
炉内殻４２を有し、炉外殻４１と炉内殻４２間の熱風循
環路４３１こは配管４４及びファン４５が配設されてい
る。従って、ファン４５は、配管４４の中を通す熱風に
より配管４４の壁を通して熱の授受によって加熱された
熱交換媒体、例えば空気に伝熱させ、この熱交換媒体を
矢印４６で示すよう擾こ熱風循環路４３から炉内殻４２
を通じて陰極線管１に供給する循環送風を行う。
炉内殻４２を有し、炉外殻４１と炉内殻４２間の熱風循
環路４３１こは配管４４及びファン４５が配設されてい
る。従って、ファン４５は、配管４４の中を通す熱風に
より配管４４の壁を通して熱の授受によって加熱された
熱交換媒体、例えば空気に伝熱させ、この熱交換媒体を
矢印４６で示すよう擾こ熱風循環路４３から炉内殻４２
を通じて陰極線管１に供給する循環送風を行う。
陰極線管１に赤外線を放射する赤外線発生装置５は、ホ
ルダ２の進行方向３に対し陰極線管１の前後に第３図に
示すように配置され、支柱６を介してホルダ２Ｉこ取付
けられている。赤外線発生装置５は、赤外線発生熱源５
１と反射板５２とを有し、赤外線発生熱源５１で発生し
た赤外線は、陰極線管１に直接放射されるものと、反射
板５２により反射されて陰極線管Ｉに放射されるものと
により、陰極線管１は加熱される。
ルダ２の進行方向３に対し陰極線管１の前後に第３図に
示すように配置され、支柱６を介してホルダ２Ｉこ取付
けられている。赤外線発生装置５は、赤外線発生熱源５
１と反射板５２とを有し、赤外線発生熱源５１で発生し
た赤外線は、陰極線管１に直接放射されるものと、反射
板５２により反射されて陰極線管Ｉに放射されるものと
により、陰極線管１は加熱される。
本実施例においては、陰極線管１の加熱を、配管４４及
びファン４５を利用した熱交換媒体の対流、赤外線発生
熱源５１の直接及び反射板５２からの反射による三者ｆ
こより行い、このような加熱状態の下で陰極線管１の排
気を行う。
びファン４５を利用した熱交換媒体の対流、赤外線発生
熱源５１の直接及び反射板５２からの反射による三者ｆ
こより行い、このような加熱状態の下で陰極線管１の排
気を行う。
このように、赤外線発生装置５は、陰極線管１の進行方
向３に対し陰極線管１の前後に配置してホルダ２に取付
けてなるので、赤外線発生装置５をパネルの側方側まで
伸ばして配置でき、陰極線管１全体を均−Ｅこ、かつ急
速に昇温できる。
向３に対し陰極線管１の前後に配置してホルダ２に取付
けてなるので、赤外線発生装置５をパネルの側方側まで
伸ばして配置でき、陰極線管１全体を均−Ｅこ、かつ急
速に昇温できる。
な詔、赤外線発生装置５は、前記した赤外線発生熱源５
１と反射板５２の構成以外にも、赤外線発生塗料を塗布
した板を用いる等の構成も可能である。また前記実施例
では対流方式との組合せについて説明したが、赤外線の
みの放射で処理する構造のものに適用できることは勿論
である。
１と反射板５２の構成以外にも、赤外線発生塗料を塗布
した板を用いる等の構成も可能である。また前記実施例
では対流方式との組合せについて説明したが、赤外線の
みの放射で処理する構造のものに適用できることは勿論
である。
本発明Ｉこよれば、陰極線管全体を均一に、かつ急速に
加熱することができ、陰極線管に変形、破損の原因とな
るような熱歪の発生もなく、しかも加工も短時間で可能
となり、品質及び量産性が向上する。
加熱することができ、陰極線管に変形、破損の原因とな
るような熱歪の発生もなく、しかも加工も短時間で可能
となり、品質及び量産性が向上する。
第１図は本発明の一実施例を示す概略斜視図、ｒ７ｇ２
図は第１図の炉本体の断面図、第３図は第１図の赤外線
発生装置の側面図である。 １・・・陰極線管、 ２・・・ホルダ、３・・
・進行方向、 ４・・・炉本体、５・・・赤外
線発生装置。 第１図 １：呟棲楳曹 第２図 第３図
図は第１図の炉本体の断面図、第３図は第１図の赤外線
発生装置の側面図である。 １・・・陰極線管、 ２・・・ホルダ、３・・
・進行方向、 ４・・・炉本体、５・・・赤外
線発生装置。 第１図 １：呟棲楳曹 第２図 第３図
Claims (1)
- １、ホルダに保持された陰極線管を炉本体内を搬送させ
、赤外線発生装置の放射する赤外線で加熱する陰極線管
処理用加熱炉において、前記赤外線発生装置を前記陰極
線管の進行方向に対し該陰極線管の前後に配置して前記
ホルダに取付けたことを特徴とする陰極線管処理用加熱
炉。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1231887A JPS63181237A (ja) | 1987-01-23 | 1987-01-23 | 陰極線管処理用加熱炉 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1231887A JPS63181237A (ja) | 1987-01-23 | 1987-01-23 | 陰極線管処理用加熱炉 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63181237A true JPS63181237A (ja) | 1988-07-26 |
Family
ID=11801962
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1231887A Pending JPS63181237A (ja) | 1987-01-23 | 1987-01-23 | 陰極線管処理用加熱炉 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63181237A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000046835A1 (fr) * | 1999-02-01 | 2000-08-10 | Nippon Electric Glass Co., Ltd. | Tube cathodique et son procede de fabrication |
| US6565401B1 (en) | 1999-07-21 | 2003-05-20 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Cathode ray tube manufacturing method and cathode ray tube manufacturing system |
-
1987
- 1987-01-23 JP JP1231887A patent/JPS63181237A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000046835A1 (fr) * | 1999-02-01 | 2000-08-10 | Nippon Electric Glass Co., Ltd. | Tube cathodique et son procede de fabrication |
| EP1152450A1 (en) * | 1999-02-01 | 2001-11-07 | Nippon Electric Glass Co., Ltd | Cathode-ray tube and its production method |
| EP1152450A4 (en) * | 1999-02-01 | 2004-04-14 | Nippon Electric Glass Co | CATHODE RAY TUBE AND METHOD FOR THE PRODUCTION THEREOF |
| US6565401B1 (en) | 1999-07-21 | 2003-05-20 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Cathode ray tube manufacturing method and cathode ray tube manufacturing system |
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