JPH01236966A - 陰極線管のシリカコート焼成炉及び焼成方法 - Google Patents

陰極線管のシリカコート焼成炉及び焼成方法

Info

Publication number
JPH01236966A
JPH01236966A JP6036988A JP6036988A JPH01236966A JP H01236966 A JPH01236966 A JP H01236966A JP 6036988 A JP6036988 A JP 6036988A JP 6036988 A JP6036988 A JP 6036988A JP H01236966 A JPH01236966 A JP H01236966A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cathode ray
ray tube
face
furnace
silica
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP6036988A
Other languages
English (en)
Inventor
Takashi Tominaga
富永 隆
Katsue Takeda
武田 勝栄
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP6036988A priority Critical patent/JPH01236966A/ja
Publication of JPH01236966A publication Critical patent/JPH01236966A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Vessels, Lead-In Wires, Accessory Apparatuses For Cathode-Ray Tubes (AREA)
  • Coating Apparatus (AREA)
  • Tunnel Furnaces (AREA)
  • Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は陰極線管のフェース面瘉こ乱反射防止膜を形成
するためのシリカコート焼成炉及び焼成方法に関する。
〔従来の技術〕
陰極線管のフェース面に形成される乱反射防止膜は、フ
ェース面にシリカコート塗布液を塗布した被処理陰極線
管を炉体内を搬送して加熱し、シリカコート塗布液を焼
成すること番こより形成される0 従来のシリカコート焼成炉は、被処理陰極線管のフェー
ス面の曲率Gこ対応して放射加熱面に曲率をもたせてい
た。
〔発明が解決しようとする課題〕
ところで、熱放射景は被処理物の距離の2乗に反比例す
る性質がある。このため、上記従来技術のようζこ特定
の陰極線管のフェース面の曲率に合わした放射加熱面を
持つ炉では、フェース面の曲率が異なる陰極線管を投入
した場合、均熱部で必要なフェース面の温度の均一性が
とれないという問題があった。
不発明の目的は、フエー・ス面の曲率が異なる複数品種
の陰極線管でも、均熱部でのフェース面の温度を均一に
することができるシリカコート焼成炉及び焼成方法を提
供することにある。
〔課題を解決するための手段〕
上記目的は、シリカコート焼成炉として、陰極線管が搬
送されて停止する炉体内の各ポジションに、各ポジショ
ンにおける陰極線管の温度分布に見合う形状及び開口率
を有する遮蔽部材を陰極線管と遠赤外線発生手段との間
に配設すること奢こより達成される。
またその焼成方法として、炉体の昇温部で陰極線管のフ
ェース面の天頂点周辺の昇温速度をフェース面のコーナ
部より遅くしてフェース面に温度差をつけ、炉体の均熱
部寸前で天頂点周辺とコーナ部の温度を逆転させ、均熱
部で生じる温度差を小さくしてシリカコートを焼成する
ことにより達成される。
〔作用〕
被処理物である陰極線管は、炉体内を搬送手段でタクト
運転擾こより搬送されるので、炉体内では陰極線管の停
止ポジション(ま決っている。この各停止ポジションl
こおいて、陰極線管と遠赤外線発生手段との間に形状及
び開口率の違う遮蔽板を配設することにより、各停止ポ
ジションで発生する放射量を調整することができる。そ
れによって、陰極線管のフェース面は、曲率にあった放
射量を受けることができるようになるので、フェース面
上の温度は均一となる。
〔実施例〕
以下、本発明の一実施例を図により説明する。
第1図に示すよう番こ、フェース面にシリカコート塗布
液が塗布された被処理陰極線管1は、搬送用ホルダ2に
保持され、タクト運転される搬送用コンベア3で炉体4
内を矢印5に示す方向に搬送される。
前記炉体4には、第2図番こ示すよう)こ、陰極線管1
のフェース面に対向して遠赤外線放射板6が設置されて
おり、この遠赤外線放射板6は、図示しない熱風発生器
より発生した熱風7により加熱されて遠赤外線を発生さ
せ、炉体4内をタクト的Iこ搬送される陰極線管1のフ
ェース面上のシリカコート塗布液を加熱して焼成する。
ここで、被処理陰極線管1の各停止ポジションには、陰
極線管lと遠赤外線放射板6間に陰極線管1の温度分布
に見合う形状及び開口率を有する遮蔽板8が配設されて
おり、この遮蔽板7により陰極線管1の天頂点に直接放
射している遠赤外線放射板6の遠赤外線を遮蔽している
前記遮蔽板8は、例えば第3図fこ示すように、炉体4
の昇温部41のポジション3まで°においては、ポジシ
ョン2に幅50mmで開口率0%の遮蔽板81を、ポジ
ション3に幅50−で開口率30チの遮蔽板82をそれ
ぞれ配設し、均熱部42のポジション9までにおいては
、ポジション4からポジション6までiこ前記遮蔽板8
2と同じ形状及び開口率を有する遮蔽板83を前記遮蔽
板81.82より陰極線管1からの距離を離して配設し
、ポジション7からポジション9までに幅150mで開
口率30チの遮蔽板84を配設する。
このよう暑こ各停止ポジションに遮蔽板81〜84を配
設すると、まずポジション2までの陰極線管1の天頂点
の温度11は開口率0%の遮蔽板81の影響を受けて昇
温速度は遅くなり、陰極線管1のコーナ部の温度12の
昇温速度は天頂点の温度11fこ比べて速くなる。次の
ポジション3には開口率30%の遮蔽板82が配設され
ているので、均熱842のポジション4寸前で天頂点の
温度11はコーナ部の温度12と逆転する。また均熱部
42には開口率30チで幅の異なる遮蔽板83.84が
前記遮蔽板81.82より距離を離して配設されている
ので、均熱部42で陰極線管1のフエース面の温度は1
0℃以下とすることができる。
〔発明の効果〕
不発明によれば、炉体内の各停止ポジションiこ形状及
び開口率の異なる遮蔽板を配設してなるので、各停止ボ
ジンヨンで発生する放射量を調整することができ、陰極
線管のフェース面を均−昏こ加熱するCとができる。こ
れ番こより、シリカコート塗布膜は均一な品質となる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例を示す概略斜視図、第2図は
第1図の要部概略断面図、第3図は陰極線管の温度と遮
蔽板の位置関係を示す説明図である。 1・・・陰極線管、11・・・天頂点の温度、12・・
・コーナ部の温度、   3・・・搬送用コンベア、4
・・・炉体、  41・・・昇a部、  42・・・均
熱部、6・・・遠赤外線放射板、  8.81〜84・
・・遮蔽板。 第1図    第2図 1:βを極a管 Pε14ミ籠菅イ亭止iζう゛うタン

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、被処理陰極線管のフェース面に塗布されたシリカコ
    ート塗布液を焼成するシリカコート焼成炉において、炉
    体と、被処理陰極線管をフェース面を上方にして前記炉
    体内を間欠的に搬送する搬送手段と、被処理陰極線管の
    フェース面に対応して前記炉体内に配設された遠赤外線
    発生手段と、被処理陰極線管の停止する各ポジションで
    、かつ被処理陰極線管と前記遠赤外線発生手段との間に
    配設され、各停止ポジションにおける陰極線管の温度分
    布に見合う形状及び開口率を有する遮蔽部材とを備えて
    いることを特徴とする陰極線管のシリカコート焼成炉。 2、被処理陰極線管を炉体内を搬送して被処理陰極線管
    のフェース面に塗布されたシリカコート塗布液を焼成す
    るシリカコート焼成方法において、炉体の昇温部で被処
    理陰極線管のフェース面の天頂点周辺の昇温速度をフェ
    ース面のコーナ部より遅くしてフェース面に温度差をつ
    け、炉体の均熱部寸前で天頂点周辺とコーナ部の温度を
    逆転させ、均熱部で生じる温度差を小さくしてシリカコ
    ートを焼成することを特徴とする陰極線管のシリカコー
    ト焼成方法。
JP6036988A 1988-03-16 1988-03-16 陰極線管のシリカコート焼成炉及び焼成方法 Pending JPH01236966A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6036988A JPH01236966A (ja) 1988-03-16 1988-03-16 陰極線管のシリカコート焼成炉及び焼成方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6036988A JPH01236966A (ja) 1988-03-16 1988-03-16 陰極線管のシリカコート焼成炉及び焼成方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH01236966A true JPH01236966A (ja) 1989-09-21

Family

ID=13140152

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP6036988A Pending JPH01236966A (ja) 1988-03-16 1988-03-16 陰極線管のシリカコート焼成炉及び焼成方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH01236966A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08243463A (ja) * 1995-03-08 1996-09-24 Matsushita Electric Ind Co Ltd 膜材料の加熱乾燥方法および装置
EP1126498A2 (de) * 2000-01-28 2001-08-22 ELINO INDUSTRIE-OFENBAU CARL HANF GmbH & CO. Verfahren und Vorrichtung zur Wärmebehandlung von Bildröhren

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08243463A (ja) * 1995-03-08 1996-09-24 Matsushita Electric Ind Co Ltd 膜材料の加熱乾燥方法および装置
EP1126498A2 (de) * 2000-01-28 2001-08-22 ELINO INDUSTRIE-OFENBAU CARL HANF GmbH & CO. Verfahren und Vorrichtung zur Wärmebehandlung von Bildröhren
EP1126498A3 (de) * 2000-01-28 2006-08-23 ELINO INDUSTRIE-OFENBAU CARL HANF GmbH & CO. Verfahren und Vorrichtung zur Wärmebehandlung von Bildröhren

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4493977A (en) Method for heating semiconductor wafers by a light-radiant heating furnace
EP1049356A3 (en) Heating apparatus for semiconductor wafers or substrates
US4469529A (en) Method for heating semiconductor wafer by means of application of radiated light with supplemental circumferential heating
WO2015022857A1 (ja) 赤外線放射装置及び赤外線処理装置
US4535227A (en) Method for heating semiconductor wafer by means of application of radiated light
JPH01236966A (ja) 陰極線管のシリカコート焼成炉及び焼成方法
JPH0452213A (ja) 真空炉
US20030162466A1 (en) Oven for the heat treatment of glass articles or the like
JPH0222318B2 (ja)
JP2590101B2 (ja) 陰極線管の製造方法および装置
JPS63181237A (ja) 陰極線管処理用加熱炉
JPH084933B2 (ja) 基板加熱装置
JPS6325483A (ja) 熱処理炉
JPS61279619A (ja) ロ−ラハ−ス式真空炉における被熱物の加熱方法
KR0139142Y1 (ko) 브라운관의 안티도밍공정장치
JPH01186270A (ja) リフローはんだ付け装置
JPH0621580Y2 (ja) 木材の塗膜乾燥装置
JPS63181236A (ja) 陰極線管処理用循環炉
JP2581677Y2 (ja) 遠赤外線加熱連続炉
JP2024039889A (ja) 電極シートの製造方法
JPH0471228A (ja) ランプアニール装置
JPH0634244U (ja) マイクロ波プラズマ処理装置
JPS6045790B2 (ja) 放射加熱装置
JP2000160260A (ja) 薄板加熱用コンベアー炉
JPH0779072A (ja) リフローはんだ付け装置