KR101586342B1 - 제전 범위 및 방열 기능이 향상된 연엑스선 발생 장치 - Google Patents

Abstract

본 발명은 제전 범위와 방열 기능이 향상된 연엑스선 발생 장치에 관한 것이다. 본 발명에 의한 연엑스선 발생 장치는 전자를 방출하는 필라멘트; 필라멘트에서 방출된 전자를 집속하는 집속부; 집속된 전자가 충돌하면 엑스선을 발생시키는 물질이 일면에 코팅되고, 타면으로 엑스선을 방출시키는 베릴륨 창; 베릴륨 창의 둘레를 지지하는 금속 소재의 지지부; 및 지지부가 전면에 결합되며, 베릴륨 창에서 발생하여 지지부를 통해 전달된 열을 방사하는 금속 소재의 벌브를 포함한다.

Description

제전 범위 및 방열 기능이 향상된 연엑스선 발생 장치{SOFT X-RAY GENERATOR WITH IMPROVED NEUTRALIZING RANGE AND HEAT-DISSIPATING FUNCTION}

본 발명은 제전 대상물에 존재하는 전하를 제거하는 연엑스선 발생 장치에 관한 것으로서, 특히 제전 범위와 방열 기능이 향상된 연엑스선 발생 장치에 관한 것이다.

산업의 고도화로 각종 전자부품의 수요는 기하급수적으로 증가하고 있으며, 정전기 방전에 의한 시스템 및 전자부품 소자의 파괴현상 등의 재해 방지에 관한 중요성이 증가하고 있다. 최근 이러한 정전기 방전에 의한 폐해를 방지하기 위해 정전기 방전 억제 및 예측 기술 등의 개발요구가 증가하고 있으며 산업적인 파급효과가 매우 큰 기술로 평가되고 있다.

특히 반도체 공정, LCD 및 OLED 디스플레이 공정은 정전기를 제거하는 공정이 필수적이어서 연엑스선을 이용한 제전 방식이 사용되고 있다. 연엑스선 발생 장치는 정전기 방전을 방지하기 위하여 사용되는 제전장치로써, 발생된 연엑스선의 조사로 양과 음의 가스 이온이 발생되어 대전된 물체를 중화시킨다.

최근 LCD 유리 기판 사이즈의 대형화 등 제전 대상물의 면적이 커지고 있으나 종래의 연엑스선 제전 장치는 연엑스선 조사각도가 작아서 넓은 면적을 제전하지 못하는 문제가 있다. 이 경우, 연엑스선의 조사각도를 크게 하면서도 연엑스선 밀도 분포를 균일하게 하는 것이 필요하다.

이와 관련 종래기술로는 한국등록특허 제10-1361793호(종래기술 1, 도 1)가 있다. 도 1을 참조하면, 종래기술 1은 전자를 방출하는 필라멘트(21), 전원을 공급하는 전극(23), 전자를 집속하는 집속렌즈(22), 전자가 타겟되는 코팅부(12), 엑스선을 방출하는 베릴륨판(11)을 포함하여 구성된다.

종래기술 1은 엑스선관의 필라멘트(21)를 개선하여 엑스선의 강도를 높임으로써 제전효율을 증가시킨다. 그러나, 필라멘트(21)의 가열에 따른 복사열과 양극부(10)에서 발생하는 복사열을 효과적으로 방열하지 못하는 문제점이 있다. 보다 상세하게, 엑스선관의 외관이 유리관 튜브(30)로 되어있어서, 충격에 약하고 방열 기능이 떨어진다. 따라서, 장시간 사용시 필라멘트(21), 코팅부(12) 및 베릴륨판(11)에 손상이 일어날 수 있다. 또한, 필라멘트(21)로부터 방출된 전자가 코팅부(12)에 균일하게 조사되지 않아 연엑스선의 밀도 분포가 균일하지 못한 단점이 있다.

또 다른 종래기술로는 한국등록특허 제10-0941037호(종래기술 2, 도 2)가 있다. 도 2를 참조하면, 종래기술 2는 전자 빔과 90도 방향으로 엑스선이 방출되도록 필라멘트(3-3)에서 방출된 전자가 조사되는 타겟(3-4)과 베릴륨 창(3-8)이 이격되어 구성된다. 종래기술 2는 양극부(3-1)의 구조를 외부로 돌출시켜 표면적을 넓힘으로써 방열 기능을 향상시키고 타겟(3-4)과 베릴륨 창(3-8)이 이격되어 복사열에 의한 베릴륨 창(3-8) 손상을 방지할 수 있는 장점이 있다.

하지만, 종래기술 2와 같은 구조는 조사각도(40도 내외)가 작은 단점이 있어 넓은 면적을 제전하기에 적합하지 않으며, 제전 시간이 길어지는 문제가 있다. 또한, 타겟(3-4)이 일정 각도로 기울어져 있으므로 전자가 균일하게 조사되지 않아 베릴륨 창(3-8)을 통과하는 연엑스선의 밀도 분포가 균일하지 못한 단점이 있다.

검토한 종래기술들에 의하면, 넓은 범위의 제전을 위하여 연엑스선의 조사각도를 크게 하는 구조에서는 방열 기능이 부족한 문제가 있고, 방열 기능을 강화하기 위한 구조에서는 연엑스선의 조사각도가 작은 문제가 있다. 또한, 공통적으로 연엑스선 밀도 분포가 균일하지 않은 문제가 있다. 따라서, 연엑스선의 조사각도가 크면서도 방열 기능이 향상된 연엑스선 발생 장치가 요구되고 있다.

따라서 본 발명은 연엑스선의 조사각도가 크고 방열기능이 향상된 연엑스선 발생 장치를 제공하고자 한다. 또한, 본 발명은 조사되는 연엑스선의 밀도 분포가 균일한 연엑스선 발생 장치를 제공하고자 한다. 또한, 본 발명은 면적이 큰 대상물의 제전이 가능한 연엑스선 어셈블리 시스템을 제공하고자 한다.

상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명은 제전 범위 및 방열 기능이 향상된 연엑스선 발생 장치에 있어서, 전자를 방출하는 필라멘트; 필라멘트에서 방출된 전자를 집속하는 집속부; 집속된 전자가 충돌하면 엑스선을 발생시키는 타겟물질이 내면 일면에 코팅되어 있으며 엑스선을 방출시키는 베릴륨 창; 베릴륨 창의 둘레를 지지하는 금속 소재의 지지부; 및 지지부가 전면에 결합되며, 베릴륨 창에서 발생하여 지지부를 통해 전달된 열을 방사하는 금속 소재의 벌브를 포함하는 것을 특징으로 일 특징으로 한다.

바람직하게, 집속부는 전자가 집속되도록 침강된 내면이 형성된 집속관을 구비하고, 내면에 필라멘트가 노출되어 고정될 수 있다. 이 경우, 집속관의 내면은 전자가 베릴륨 창의 일면에 균일하게 조사될 수 있도록 오목한 곡면 형상일 수 있다.

바람직하게, 베릴륨 창의 타면은 엑스선이 넓게 조사될 수 있도록 외부로 돌출되는 구면 형상이고, 베릴륨 창의 둘레는 지지부의 하측과 접합되도록 평탄한 밀착이 형성될 수 있다.

바람직하게, 지지부는 내측의 하면이 상기 베릴륨 창의 둘레와 접합되고 벌브의 후면 방향으로 신장되며, 베릴륨 창의 열이 전달되는 원통 형상의 방열 부재; 및 방열 부재의 내면에 접합되고, 베릴륨 창의 둘레를 방열 부재 측으로 가압하는 누름링를 구비할 수 있다.

또한 본 발명은 하나 이상의 연엑스선 발생 장치, 하나 이상의 연엑스선 발생 장치를 일정한 간격으로 고정하고 벌브에 전달된 복사열 및 전도열을 외부로 방출하는 하우징부 및 연엑스선 발생 장치를 각각의 전원을 독립적으로 제어할 수 있는 제어부를 구비하는 것을 다른 특징으로 한다.

본 발명에 따르면, 베릴륨 창의 내면에 타켓 물질이 코팅되어 있고 이 베릴륨 창이 외부로 돌출된 구면 형상을 가지므로 연엑스선의 조사각도가 큰 이점이 있다. 또한, 본 발명은 베릴륨 창과의 접촉 면적이 큰 방열 부재 및 금속 소재의 벌브에 의해서 방열 기능이 향상되는 이점이 있다. 또한 가속된 전자빔이 타겟면에 넓게 분포하여 가속전자빔 충돌로 인한 타겟 손상이 지연되어 엑스선관 수명이 연장되는 장점이 있을 뿐만 아니라 조사영역에서 엑스선의 밀도가 균일한 장점이 있다. 또한, 본 발명에 의한 연엑스선 발생 어셈블리는 하나 이상의 복수의 연엑스선 발생 장치를 장착하여 대면적의 대상체를 제전할 수 있는 이점이 있다.

도 1 및 도 2는 종래의 연엑스선 발생 장치를 나타낸다.
도 3의 (a)는 본 발명의 일 실시예에 따른 연엑스선 발생 장치의 외관을 나타낸다.
도 3의 (b)는 본 발명의 일 실시예에 따른 연엑스선 발생 장치의 단면도를 나타낸다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 연엑스선 발생 장치의 분해도를 나타낸다.
도 5의 (a)는 한 개의 필라멘트가 배치된 집속관을 나타낸다.
도 5의 (b)는 네 개의 필라멘트가 배치된 집속관을 나타낸다.
도 5의 (c)는 오목한 곡면 형상의 집속관에 네 개의 필라멘트가 배치된 모습을 나타낸다.
도 6의 (a)는 필라멘트가 한 개인 경우, 베릴륨 창의 타겟에 입사되는 가속된 전자 빔의 궤적을 나타낸다.
도 6의 (b)는 필라멘트가 네 개인 경우, 베릴륨 창의 타겟에 입사되는 가속된 전자 빔의 궤적을 나타낸다.
도 7의 (a)는 집속관의 내면이 편평한 경우 베릴륨 창에 조사되는 전자빔의 밀도 분포를 나타낸다.
도 7의 (b)는 집속관의 내면이 오목한 곡면 형상인 경우 베릴륨 창의 타겟에 입사되는 가속된 전자빔의 타겟 면상에서의 밀도 분포를 나타낸다.
도 8은 본 발명의 다른 실시예에 따른 연엑스선 발생 장치가 복수개가 장착된 어셈블리를 나타낸다.

이하, 첨부된 도면들에 기재된 내용들을 참조하여 본 발명을 상세히 설명한다. 다만, 본 발명이 예시적 실시 예들에 의해 제한되거나 한정되는 것은 아니다. 각 도면에 제시된 동일 참조부호는 실질적으로 동일한 기능을 수행하는 부재를 나타낸다.

도 3의 (a)는 연엑스선 발생 장치(1)의 외관을 나타내고, 도 3의 (b)는 연엑스선 발생 장치(1)의 단면도를 나타낸다. 도 3을 참조하면 연엑스선 발생 장치(1)는, 전자를 방출하는 필라멘트(701); 전자를 집 속하여 조사하는 집속부(703, 705, 707); 전자가 충돌하여 엑스선을 발생시키는 타깃물질(501)이 내면의 일면에 도포 된 엑스선을 투과시키는 베릴륨 창(50); 집속부(703, 705, 707)와 연결되고 필라멘트(701)에 전원을 인가하는 전극부(10); 베릴륨 창(50)의 둘레를 지지하는 금속 소재의 지지부(301, 305); 및 지지부(301, 605)가 전면에 결합되며, 베릴륨 창(50)에서 발생하여 지지부(301, 605)를 통해 전달된 열을 방사하는 금속 소재의 벌브(303)를 포함할 수 있다. 이하, 연엑스선 발생 장치(1)의 엑스선이 발생되는 방향을 전면, 전극부(10)의 방향을 후면이라 한다.

전극부(10)는 진공을 위해 잔류기체를 배기하는 배기관(105), 집속부(703, 705, 707)에 마이너스 고전압을 인가하고 필라멘트(701)의 가열 전원이 연결되는 전극 스템(101), 전극 스템(101)을 고정하고 전극부(10)의 외관을 형성하는 파이렉스 관(103)을 포함할 수 있다. 본 실시예로, 파이렉스 관(103)은 열 변화에 대한 내성이 강하고 전기 절연성을 갖는 소재를 의미한다.

집속부(703, 705, 707)는, 필라멘트(701)가 일측에 연결되고 타측에 전극 스템(101)이 연결된 필라멘트 지지대(707), 필라멘트 지지대(707)가 관통되어 고정되는 세라믹 절연애자(705), 필라멘트(701)에서 방출되는 전자가 집속되도록 침강된 내면(7031)이 형성된 집속관(703)을 구비할 수 있다. 필라멘트(701)는 내면(7031)에 노출되어 고정된다.

본 실시예로, 내면(7031)은 가열된 필라멘트(701)에서 방출되는 전자가 베릴륨 창(50)에 도포된 타겟물질(501)로 균일하게 입사될 수 있도록 오목한 곡면 형상으로 이루어질 수 있다.

또한 본 실시예로, 내면(7031)에 노출되는 필라멘트(701)는 1 개 이상일 수 있다. 필라멘트(701)가 4 개일 경우, 4 개의 필라멘트(701)는 서로 직각이 되도록(+ 형상 또는 형상) 내면(7031)에 배치될 수 있다.

베릴륨 창(50)의 구조는 가열된 필라멘트(701)에서 방출된 전자가 내면에 코팅된 타겟 물질(501)에 충돌되어 발생되는 엑스선이 넓게 조사될 수 있도록 외부로 돌출되는 구면 형상으로 이루어지는 것이 바람직하고, 베릴륨 창(50)의 둘레는 평탄한 밀착면(503)이 형성될 수 있다.

지지부(301)는 내측의 하면이 베릴륨 창(50)의 밀착면(503)과 접합되고 후면 방향으로 신장된 원통 형상의 방열 부재(301) 및 방열 부재(301)의 내면에 접합되고, 베릴륨 창(50)의 밀착면(503)을 방열 부재(301) 측으로 가압하는 누름링(305)을 구비할 수 있다.

방열 부재(301) 및 누름링(305)은 베릴륨 창(50)을 고정하는 기능과 필라멘트(701) 및 베릴륨 창(50)에서 발생하는 열을 벌브(303)로 전달하는 기능을 한다. 본 실시예로, 방열 부재(301) 및 누름링(305)의 소재는 니켈(Ni) 또는 철(Fe)로 이루어질 수 있다.

보다 상세하게, 방열 부재(301) 및 누름링(305)은 밀착면(503)의 상하면과 접촉되므로 베릴륨 창(50)에서 발생하는 열이 효율적으로 전달된다. 또한, 방열 부재(301)는 후면 방향으로 신장된 형상이므로 벌브(303)와의 접촉 면적이 넓게 되어 벌브(303)로의 열전달을 용이하게 한다.

벌브(303)는 방열 부재(301)보다 후면 방향으로 더 신장되는 구조로 이루어질 수 있고, 이러한 구조는 벌브(303)가 외부에 노출되는 표면적이 넓게 되어 방열 기능을 향상시키는 특징이 있다.

본 실시예로 벌브(303)는 전도열 및 복사열을 방출하기 용이한 무산소 동관으로 이루어질 수 있다. 또한, 벌브(303)는 잔류가스를 흡착하기 위한 비확산 게터(3031)가 내면에 도포될 수 있다.

본 실시예로 연엑스선 발생 장치(1)는 벌브(303)와 전극부(10)를 진공기밀이 유지되도록 접합되는 코바관(307)이 포함될 수 있다. 코바관(307)은 니켈-코발트 철 합금 소재로 이루어질 수 있다.

도 4는 연엑스선 발생 장치(1)의 분해도를 나타낸다. 도 4를 참조하면, 베릴륨 창(50)의 내면에는 박막 형태의 타겟 물질(501)이 도포된다. 타겟 물질이란 전자가 충돌하여 엑스선을 방출하는 물질을 의미한다. 보다 상세하게, 타겟 물질(501)은 0.5um 내지 1um 두께로 도포되며, 소재는 금(Au) 또는 텅스텐(W)일 수 있다.

기존의 연엑스선 발생장치에는 벌브부가 유리 소재(30, 도 1 참조)로 이루어져 있어서 방열 기능이 떨어지는 문제가 있었다. 본 발명에 따른 실시예에 의하면, 방열의 효율을 높이기 위해서 동관 소재(무산소 동관)의 벌브(303)를 사용하게 되며, 벌브(303)와 파이렉스 관(103)을 진공이 유지되도록 결합하기 위해 코바관(307)이 이용된다. 파이렉스 관(103), 코바관(307), 벌브(303) 및 방열 부재(301)는 진공 브레이징 접합되어 연엑스선 발생 장치(1)의 내부는 진공기밀이 유지될 수 있다.

도 5의 (a)는 1 개의 필라멘트(701)가 배치된 집속관을 나타내고, 도 5의 (b)는 4 개의 필라멘트(701)가 배치된 집속관을 나타내며, 도 5의 (c)는 오목한 곡면 형상의 집속관(703)에 네 개의 필라멘트(701)가 배치된 모습을 나타낸다.

보다 균일한 밀도 분포를 갖는 연엑스선을 조사하기 위해서는 필라멘트(701)에서 방출되는 전자들이 균일한 밀도 분포로 베릴륨 창의 타겟(501)에 입사되어야 한다. 본 실시예에 의하면, 필라멘트(701)가 복수로 구비되고 집속관(703)의 내면(7031)이 오목한 곡면 형상을 갖는 경우, 필라멘트(701)에서 방출되는 가속전자빔이 보다 균일한 밀도 분포로 베릴륨 창의 타겟(501)에 입사된다. 이는 도 6 및 도 7을 통해 확인할 수 있다.

도 6의 (a)는 필라멘트(701)가 한 개인 경우, 베릴륨 창(50)에 입사되는 전자 빔의 궤적을 나타내고, 도 6의 (b)는 필라멘트(701)가 네 개인 경우, 베릴륨 창의 타겟(501)에 입사되는 전자 빔의 궤적을 나타낸다.

도 7의 (a)는 집속관(703)의 내면(7031)이 편평한 경우 베릴륨 창의 타겟(501)에 입사되는 전자빔의 밀도 분포를 나타내고, 도 7의 (b)는 집속관(703)의 내면(7031)이 오목한 곡면 형상인 경우 베릴륨 창의 타겟(501)에 입사되는 전자빔의 밀도 분포를 나타낸다.

도 8은 연엑스선 발생 시스템(2)을 나타낸다. 도 8을 참조하면, 연엑스선 발생 시스템(2)은 본 실시예에 따른 복수의 연엑스선 발생 장치(1), 복수의 연엑스선 발생 장치(1)를 일정한 간격으로 고정하고 연엑스선 발생 장치(1)에서 발생하는 열을 외부로 방출하는 하우징부(20) 및 연엑스선 발생 장치(1)의 각각의 전원을 독립적으로 제어할 수 있는 제어부(205)를 포함할 수 있다.

하우징부(20)는 벌브(303)의 외면에 밀착되어 연엑스선 발생 장치(1)를 고정하고 벌브(303)로부터 전달된 열을 외부로 방출하는 히트 싱크(201) 및 히트 싱크(201)의 온도를 측정하는 하나 이상의 온도 센서(203)를 구비할 수 있다.

제어부(205)는 온도 센서(203)로부터 측정된 데이터를 송신 받을 수 있고, 송신 받은 온도 데이터를 기반으로 연엑스선 발생 장치(1)에 인가되는 전원을 제어할 수 있다. 본 실시예로 제어부(205)는 연엑스선 발생 장치(1)를 유선 또는 무선으로 제어할 수 있다.

상술한 본 발명의 일 실시예에 따른 연엑스선 발생 장치(1)는 방열 부재(301) 및 누름링(305)의 구조에 의해서 베릴륨 창(50)과 접촉 면적이 향상된다. 또한, 연엑스선 발생 장치(1)는 방열 부재(301)가 후면 방향으로 신장된 구조로써 금속 소재인 벌브(303)와 접합되어 베릴륨 창(50) 및 필라멘트(701)에서 발생하는 열을 보다 효율적으로 방열할 수 있다. 또한, 집속관(703)의 내면(7031)과 베릴륨 창(50)의 형상을 곡면 구조로 하여 보다 균일한 밀도의 엑스선을 넓은 각도로 조사할 수 있다.

상술한 본 발명의 다른 실시예에 따른 연엑스선 발생 시스템(2)은 연엑스선 발생 장치(1)가 일정한 간격으로 고정 배치되고 제어됨으로써 대면적의 제전 대상물을 빠르게 제전할 수 있다.

이상에서 대표적인 실시예를 통하여 본 발명을 상세하게 설명하였으나, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자는 상술한 실시예에 대하여 본 발명의 범주에서 벗어나지 않는 한도 내에서 다양한 변형이 가능함을 이해할 것이다. 그러므로 본 발명의 권리 범위는 설명한 실시예에 국한되어 정해져서는 안 되며, 후술하는 특허청구범위뿐만 아니라 특허청구범위와 균등 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태에 의하여 정해져야 한다.

1: 연엑스선 발생 장치 10: 전극부
101: 전극 스템 103: 파이렉스 관
105: 배기관 301: 방열 부재
303: 금속 벌브 3031: 비확산 게터
305: 누름링 307: 코바관
50: 베릴륨 창 501: 코팅된 타겟 물질
701: 필라멘트 703: 집속관
705: 세라믹 절연애자 707: 필라멘트 지지대
7031: 내면 2: 연엑스선 발생 시스템
20: 하우징부 201: 히트 싱크
203: 온도 센서 205: 제어부

Claims (9)

1. 연엑스선을 발생하는 장치에 있어서,
   전자를 방출하는 필라멘트;
   상기 필라멘트에서 방출된 전자를 집속하는 집속부;
   상기 집속된 전자가 충돌하면 엑스선을 발생시키는 물질이 내면의 일면에 코팅되고 엑스선이 넓게 방출될 수 있도록 외부로 돌출되는 구면 형상이며 둘레는 평탄한 밀착면이 형성된 베릴륨 창;
   상기 베릴륨 창의 둘레를 지지하는 금속 소재의 지지부; 및
   상기 지지부가 전면에 결합되며, 상기 베릴륨 창에서 발생하여 상기 지지부를 통해 전달된 열을 방사하는 금속 소재의 벌브를 포함하고,
   상기 지지부는,
   내측의 하면이 상기 베릴륨 창의 밀착면과 접합되고 상기 벌브의 후면 방향으로 신장되며, 상기 베릴륨 창의 열이 전달되는 원통 형상의 방열 부재; 및
   상기 방열 부재의 내면에 접합되고, 상기 베릴륨 창의 밀착면을 상기 방열 부재 측으로 가압하는 누름링를 구비하고,
   상기 벌브는,
   상기 방열 부재보다 후면 방향으로 더 신장되며,
   상기 방열 부재 및 상기 누름링은 상기 밀착면의 상하면과 접촉된 것을 특징으로 하는 연엑스선 발생 장치.
   
2. 제 1 항에 있어서,
   상기 집속부는 상기 전자가 집속되도록 침강된 내면이 형성된 집속관을 구비하고,
   상기 내면에 상기 필라멘트가 노출되어 고정되는 것을 특징으로 하는 연엑스선 발생 장치.
   
3. 제 2 항에 있어서,
   상기 집속관의 내면은 상기 전자가 상기 베릴륨 창의 내면의 일면에 균일하게 조사될 수 있도록 오목한 곡면 형상인 것을 특징으로 하는 연엑스선 발생 장치.
   
4. 삭제
5. 삭제
6. 삭제
7. 제 1 항에 있어서,
   상기 벌브는 잔류가스를 흡착하기 위한 비확산 게터가 내면에 도포된 것을 특징으로 하는 연엑스선 발생 장치.
   
8. 연엑스선을 발생하는 시스템에 있어서,
   복수의 연엑스선을 발생하는 엑스선관;
   상기 복수의 연엑스선 발생 장치를 일정 간격으로 고정하는 하우징부; 및 상기 연엑스선 발생 장치의 각각의 전원을 독립적으로 제어하는 제어부를 포함하고,
   상기 연엑스선 발생 장치는,
   전자를 방출하는 필라멘트;
   상기 필라멘트에서 방출된 전자를 집속하는 집속부;
   상기 집속된 전자가 충돌하면 엑스선을 발생시키는 물질이 내면의 일면에 코팅되고 엑스선이 넓게 방출될 수 있도록 외부로 돌출되는 구면 형상이며 둘레는 평탄한 밀착면이 형성된 베릴륨 창;
   상기 베릴륨 창의 둘레를 지지하는 금속 소재의 지지부; 및
   상기 지지부가 전면에 결합되며, 상기 베릴륨 창에서 발생하여 상기 지지부를 통해 전달된 열을 방사하는 금속 소재의 벌브를 구비하고,
   상기 지지부는,
   내측의 하면이 상기 베릴륨 창의 둘레와 접합되고 상기 벌브의 후면 방향으로 신장되며, 상기 베릴륨 창의 열이 전달되는 원통 형상의 방열 부재; 및
   상기 방열 부재의 내면에 접합되고, 상기 베릴륨 창의 둘레를 상기 방열 부재 측으로 가압하는 누름링를 구비하며,
   상기 벌브는,
   상기 방열 부재보다 후면 방향으로 더 신장되며,
   상기 방열 부재 및 상기 누름링은 상기 밀착면의 상하면과 접촉되고
   상기 하우징부는,
   상기 벌브를 통해 전달된 열을 외부로 방출하는 것을 특징으로 하고, 외부로 열방출하는 것이 용이하도록 외면에 방열구조를 갖는 것을 특징으로 하는 연엑스선 발생 시스템.
   
9. 제 8 항에 있어서, 상기 하우징부는
   상기 벌브의 외면에 밀착되어 상기 연엑스선 발생 장치를 고정하고, 상기 벌브로부터 전달된 열을 외부로 방출하는 히트 싱크; 및
   상기 히트 싱크의 온도를 측정하는 하나 이상의 온도 센서를
   구비하는 것을 특징으로 하는 연엑스선 발생 시스템.

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