JPS6317257Y2 - - Google Patents

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JPS6317257Y2
JPS6317257Y2 JP1982091397U JP9139782U JPS6317257Y2 JP S6317257 Y2 JPS6317257 Y2 JP S6317257Y2 JP 1982091397 U JP1982091397 U JP 1982091397U JP 9139782 U JP9139782 U JP 9139782U JP S6317257 Y2 JPS6317257 Y2 JP S6317257Y2
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JP
Japan
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air
cooling
wind tunnel
air passage
semiconductor
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JP1982091397U
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JPS58193641U (ja
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Description

【考案の詳細な説明】 本考案は電力用整流素子、サイリスタ等の半導
体素子の強制風冷装置に関するものである。
従来の半導体素子の強制風冷装置は、第1図に
説明的に示す如く、風洞カバー1の空気通路2の
中に多数の放熱翼3を有する冷却フイン4を配
し、この冷却フイン4に整流ダイオード等の半導
体素子5を取付けることによつて構成されてい
る。尚6は吸気により空気通路2内に矢印で示す
ような空気の流れを生じさせるためのフアン、7
は絶縁支持部材、8は配線バー、9はバー押えで
ある。
強制風冷装置を上述の如く構成すれば、半導体
素子5で生じる熱が冷却フイン4によつて良好に
放出される。しかし、冷却フイン4の素子取付面
4aを風洞カバー1の前面部分1aに当接して固
定する構造であるため、十分な冷却効果を得るこ
とが出来ないという問題があつた。
この問題を解決するために、半導体素子5を風
洞カバー1内の空気通路2に配置することがあ
る。
ところで、空気通路2における空気の流れの上
流側と下流側とで冷却効果に差が生じる。冷却フ
イン4の放熱能力を空気通路2の位置の変化に応
じて変えれば、冷却効果の均一化を図ることが可
能になるが、構成が複雑になり、必然的にコスト
高になる。
そこで、本考案の目的は容易に冷却効果の均一
化を図ることができる半導体素子の強制風冷装置
を提供することにある。
上記目的を達成するための本考案は、実施例を
示す図面の符号を参照して説明すると、強制風冷
のための風洞カバー1内の空気通路2に配置され
た複数の半導体素子5を風冷するための装置にお
いて、前記風洞カバー1に前記複数の半導体素子
5に対応させて冷却効果を均一化するための空気
用貫通孔10を複数個設け、前記空気通路2の下
流側の前記半導体素子5に対応する前記貫通孔1
0の大きさを前記空気通路2の上流側の前記半導
体素子5に対応する前記貫通孔10の大きさより
も大きくしたことを特徴とする半導体素子の強制
風冷装置に係わるものである。
上記考案によれば、風洞カバー1に設けた貫通
孔10の大きさによつて導入空気量を調整し、半
導体素子5の冷却効果の均一化即ち温度の均一化
を図ることができる。従つて冷却効果の均一化を
極めて容易に達成することができる。
次に、第2図及び第3図を参照して本考案の実
施例に係わる電力用整流素子の強制風冷装置につ
いて述べる。但し、第2図及び第3図で符号1〜
9で示すものは、第1図で同一符号で示すものと
実質的に同一であるので、その説明を省略する。
第2図及び第3図から明らかなように、本実施
例では冷却フイン4の素子取付面4aが矢印で示
すように空気が流れる空気通路2中に配置され、
且つ半導体素子5の本体部分5aも空気通路2の
中に配置されている。本体部分5aは、PN接合
を有する半導体チツプが装着されているコツプ状
金属電極ケース部分であり、この一部が冷却フイ
ン4に埋め込まれている。10は風洞内空気通路
2に通じる貫通孔であつて、各半導体素子5の本
体部分5aに対応して設けられ、矢印11で示す
如く外気を風洞内部に導入するように形成されて
いる。尚、空気通路2に於ける上流側よりも下流
側で冷却効果が悪くなるので、下流側(左側)に
於いて貫通孔10の大きさが大になつている。半
導体素子5の一対のリード線12,13は、第3
図のように導出され、この実施例では風洞内で
夫々の配線バー8に夫々結されている。
上述の如く構成すれば、素子取付面4a及び素
子本体部分5aが風洞内に位置するので、第1図
の従来装置に比較して3m/s強制風冷条件で素
子取付面4aと素子本体部分5aとに於ける放熱
量が約3.7倍になつた。従つて、放熱量を従来と
同一に構成すれば、冷却フイン4の大きさ及び重
量を大幅に小さくすることが出来る。
また、第1図の従来装置に於いて、風洞内に複
数の冷却フイン4を配し、同時に複数の半導体素
子5を冷却する場合に、各半導体素子5を同一温
度に冷却することが困難であつた。即ち、場所の
変化による冷却効果の変化を補正するために複数
の冷却フイン4の大きさを変えること等が必要に
なり、複数の半導体素子5の温度の均一化を図る
ことが困難であつた。これに対し、本実施例では
貫通孔10を設けるので、この孔10の大きさを
変えて導入空気量を調整し、各半導体素子5の温
度の均一化を図ることが可能になる。
以上、本考案の実施例について述べたが、本考
案はこれに限定されるものでなく、更に変形可能
なものである。例えば、第4図に示す如く、風洞
の同一断面内に複数の冷却フイン4を配してもよ
い。またこの場合、各冷却フイン4の相互間に絶
縁性の保持部材14を配し、これで配線バー8を
保持すると共に、冷却フイン4を保持してもよ
い。また、貫通孔10を通してリード線12を風
洞外に導出し、これを配線バー8に結合してもよ
い。又、サイリスタの強制風冷装置としても使用
可能である。また、実施例では吸気によつて風洞
内に空気の流れを生じさせているが、送風によつ
て空気の流れを生じさせてもよい。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来の半導体素子の強制風冷装置を示
す断面図、第2図は本考案の実施例に係わる半導
体素子の強制風冷装置の第3図の−線に相当
する部分の断面図、第3図は第2図の−線に
相当する部分の断面図、第4図は強制風冷装置の
変形例を示す断面図である。 尚図面に用いられている符号に於いて、1は風
洞カバー、2は空気通路、4は冷却フイン、4a
は取付面、5は半導体素子、5aは本体部分、1
0は貫通孔である。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 強制風冷のための風洞カバー1内の空気通路2
    に配置された複数の半導体素子5を風冷するため
    の装置において、 前記風洞カバー1に前記複数の半導体素子5に
    対応させて冷却効果を均一化するための空気導入
    用貫通孔10を複数個設け、前記空気通路2の下
    流側の前記半導体素子5に対応する前記貫通孔1
    0の大きさを前記空気通路2の上流側の前記半導
    体素子5に対応する前記貫通孔10の大きさより
    も大きくしたことを特徴とする半導体素子の強制
    風冷装置。
JP9139782U 1982-06-18 1982-06-18 半導体素子の強制風冷装置 Granted JPS58193641U (ja)

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JP9139782U JPS58193641U (ja) 1982-06-18 1982-06-18 半導体素子の強制風冷装置

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JP9139782U JPS58193641U (ja) 1982-06-18 1982-06-18 半導体素子の強制風冷装置

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JPS58193641U JPS58193641U (ja) 1983-12-23
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4461584B2 (ja) * 1999-11-16 2010-05-12 パナソニック株式会社 ヒートシンク装置

Citations (1)

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JPS543474A (en) * 1977-06-10 1979-01-11 Hitachi Ltd Semiconductor conversion device

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JPS5353972U (ja) * 1976-10-12 1978-05-09
JPS54146173U (ja) * 1978-03-31 1979-10-11
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Patent Citations (1)

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JPS543474A (en) * 1977-06-10 1979-01-11 Hitachi Ltd Semiconductor conversion device

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JPS58193641U (ja) 1983-12-23

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