JPS63168373A - 画像記録装置 - Google Patents
画像記録装置Info
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- JPS63168373A JPS63168373A JP61310946A JP31094686A JPS63168373A JP S63168373 A JPS63168373 A JP S63168373A JP 61310946 A JP61310946 A JP 61310946A JP 31094686 A JP31094686 A JP 31094686A JP S63168373 A JPS63168373 A JP S63168373A
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Links
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 38
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 33
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 1
- QNZFKUWECYSYPS-UHFFFAOYSA-N lead zirconium Chemical compound [Zr].[Pb] QNZFKUWECYSYPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/435—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material
- B41J2/465—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material using masks, e.g. light-switching masks
Landscapes
- Dot-Matrix Printers And Others (AREA)
- Printers Or Recording Devices Using Electromagnetic And Radiation Means (AREA)
- Color, Gradation (AREA)
- Exposure Or Original Feeding In Electrophotography (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
この発明は、光シャッタを用いて感光材料に画像を記録
する画像記録装置に関し、特に多色、多階調の画像を記
録する画像記録装置に関する。
する画像記録装置に関し、特に多色、多階調の画像を記
録する画像記録装置に関する。
〈従来の技術〉
従来、光シャッタとして液晶光シャッタとランタンでド
ープした鉛ジルコニウム・チタン酸塩類(P L Z
T)光シャッタとが知られており、これらはいずれも電
界を加えることにより光透過率を変えることができる。
ープした鉛ジルコニウム・チタン酸塩類(P L Z
T)光シャッタとが知られており、これらはいずれも電
界を加えることにより光透過率を変えることができる。
画像記録装置では、−組の微少な透明電極で構成した画
素形成部(マイクロシャッタ)を−列に配置した光シヤ
ツタアレイ、または画素形成部を2次元的に配置した光
シヤツタマトリックスが用いられ、これらが光源系と感
光材料との間に配置される。画像の記録時には、感光材
料を移送すると共に、画像情報に応じて複数の画素形成
部を選択的に駆動し、透明な状態になっている画素形成
部を透過した光で感光材料を露光し、ドツトパターンの
画像を潜像として感光材料に記録する。
素形成部(マイクロシャッタ)を−列に配置した光シヤ
ツタアレイ、または画素形成部を2次元的に配置した光
シヤツタマトリックスが用いられ、これらが光源系と感
光材料との間に配置される。画像の記録時には、感光材
料を移送すると共に、画像情報に応じて複数の画素形成
部を選択的に駆動し、透明な状態になっている画素形成
部を透過した光で感光材料を露光し、ドツトパターンの
画像を潜像として感光材料に記録する。
従来の画像記録装置では、第4図に示すように、光シャ
ッタ41の画素形成部(マイクロシャッタ)42以外の
部分はマスクされており、光は透過できない。また、マ
スクで囲まれた各画素形成部42の面積は、感光材料4
3に結像される各画素形成部42に対応した各ドツトパ
ターン44の面積にほぼ等しい。光シャッタ41の画素
形成部42と感光材料43との間には、多数のセルフォ
ックレンズ等のレンズ系45が配設される。各画素形成
部42の配列は、感光材料43に結像される各ドツトパ
ターン44が1列に配列しているのに対して、1列ある
いは図示するように千鳥状の2列に配列されるのが一般
的である。そして、画素形成部42の面積は0.01〜
0゜05mmであり、光シャッタ41はこの画素形成部
42が数百ないし数十個配列して形成される。
ッタ41の画素形成部(マイクロシャッタ)42以外の
部分はマスクされており、光は透過できない。また、マ
スクで囲まれた各画素形成部42の面積は、感光材料4
3に結像される各画素形成部42に対応した各ドツトパ
ターン44の面積にほぼ等しい。光シャッタ41の画素
形成部42と感光材料43との間には、多数のセルフォ
ックレンズ等のレンズ系45が配設される。各画素形成
部42の配列は、感光材料43に結像される各ドツトパ
ターン44が1列に配列しているのに対して、1列ある
いは図示するように千鳥状の2列に配列されるのが一般
的である。そして、画素形成部42の面積は0.01〜
0゜05mmであり、光シャッタ41はこの画素形成部
42が数百ないし数十個配列して形成される。
〈発明が解決しようとする問題点〉
光シャッタ41の画素形成部42を透過する光量は各画
素形成部420面積に比例するので、このような光シャ
ッタ41で感光材料43に画像を記録する場合、各画素
形成部42の面積の精度が重要な要因となる。特に多色
、多階調の画像を記録する場合には、各画素形成部42
の面積のばらつきを数パーセント以下に抑える必要があ
る。
素形成部420面積に比例するので、このような光シャ
ッタ41で感光材料43に画像を記録する場合、各画素
形成部42の面積の精度が重要な要因となる。特に多色
、多階調の画像を記録する場合には、各画素形成部42
の面積のばらつきを数パーセント以下に抑える必要があ
る。
しかるに、光シャッタ41の各画素形成部42の面積は
、上述のように極めて小さく、精度を確保するためには
縦と横の各辺のばらつきの大きさをいずれも数μm以下
に抑える必要があった。したがって、従来ではこの点が
歩留りの低下やコストアンプの原因になっていた。
、上述のように極めて小さく、精度を確保するためには
縦と横の各辺のばらつきの大きさをいずれも数μm以下
に抑える必要があった。したがって、従来ではこの点が
歩留りの低下やコストアンプの原因になっていた。
また、各画素形成部42の面積が小さいため、感光材料
43に照射される光量を充分に得るためには光源系の明
るさを非常に大きくする必要があり、光源系の選択が難
しく、さらに光源の発熱に対する対策を講じる必要があ
り、これがコストア・ノブの原因になっていた。
43に照射される光量を充分に得るためには光源系の明
るさを非常に大きくする必要があり、光源系の選択が難
しく、さらに光源の発熱に対する対策を講じる必要があ
り、これがコストア・ノブの原因になっていた。
本発明は、かかる従来の実情に鑑みてなされたものであ
って、その目的は、光シャッタの各画素形成部の面積の
ばらつき精度を向上させるとともに、光源系の選択性を
拡大することにより、濃度のばらつきの小さい再現性に
すぐれた高品質な画像が得られしかも安価である画像記
録装置を提供することである。
って、その目的は、光シャッタの各画素形成部の面積の
ばらつき精度を向上させるとともに、光源系の選択性を
拡大することにより、濃度のばらつきの小さい再現性に
すぐれた高品質な画像が得られしかも安価である画像記
録装置を提供することである。
く問題点を解決するだめの手段〉
上記目的を達成するために、本発明による画像記録装置
は、光源系と感光材料との間に複数の画素形成部を少く
とも1列に配列してなる光シャッタを配置し、″j二通
過状態ある前記画素形成部を通った光によるドツトパタ
ーンで前記感光材料に画像を記録するもので、光シャッ
タの各画素形成部の面積を感光材料に結像される各画素
形成部に対応した各ドツトパターンの面積よりも大きく
する、という手段を採用した点に特徴がある。
は、光源系と感光材料との間に複数の画素形成部を少く
とも1列に配列してなる光シャッタを配置し、″j二通
過状態ある前記画素形成部を通った光によるドツトパタ
ーンで前記感光材料に画像を記録するもので、光シャッ
タの各画素形成部の面積を感光材料に結像される各画素
形成部に対応した各ドツトパターンの面積よりも大きく
する、という手段を採用した点に特徴がある。
く作用〉
本発明に係る画像記録装置は、光シャッタの各画素形成
部を透過した光をレンズや光ファイバなどによって集光
し、画素形成部より面積が小さいドツトパターンを1列
に配列して感光材料上に結像する。
部を透過した光をレンズや光ファイバなどによって集光
し、画素形成部より面積が小さいドツトパターンを1列
に配列して感光材料上に結像する。
〈実施例〉
以下、本発明の一実施例について説明する。
第1図は本発明の基本概念を示し、11は光シャッタ、
12は画素形成部、13は感光材料、14はドツトパタ
ーン、15はレンズ系及びライトガイドである。
12は画素形成部、13は感光材料、14はドツトパタ
ーン、15はレンズ系及びライトガイドである。
光シャッタ11は、図中上方に配置される光源系(図示
せず゛)と感光材料13との間に配置される。
せず゛)と感光材料13との間に配置される。
光シャッタ11には、多数の画素形成部12が千鳥状の
2列に配列して形成されており、各画素形成部12と感
光材料13との間に多数のレンズ系及びライト・ガイド
15が配設される。このレンズ系及びライトガイド15
によって、光シャッタ11の2列の画素形成部12を透
過した光が1列に配列したドツトパターンとして感光材
料13へ導かれる。
2列に配列して形成されており、各画素形成部12と感
光材料13との間に多数のレンズ系及びライト・ガイド
15が配設される。このレンズ系及びライトガイド15
によって、光シャッタ11の2列の画素形成部12を透
過した光が1列に配列したドツトパターンとして感光材
料13へ導かれる。
光シャッタ11の各画素形成部12の面積は、感光材料
13に結像する各画素形成部12に対応した各ドツトパ
ターン14の面積より大きい。
13に結像する各画素形成部12に対応した各ドツトパ
ターン14の面積より大きい。
各画素形成部12は、記録する画像情報に応じ”ζ透過
性あるいは不透過性となる。光源から発せられた光は、
光シャッタ11に照射され、透過性になっている画素形
成部12を透過し、さらにレンズ系及びライトガイド1
5を透過することによって、1列に配列した所定の大き
さのドツトパターンとして感光材料13上に結像する。
性あるいは不透過性となる。光源から発せられた光は、
光シャッタ11に照射され、透過性になっている画素形
成部12を透過し、さらにレンズ系及びライトガイド1
5を透過することによって、1列に配列した所定の大き
さのドツトパターンとして感光材料13上に結像する。
各ドツトパターン14の大きさは、画素形成部12の大
きさより小さい。すなわち、画素形成部12に入射した
光は、レンズ系及びライトガイド15によって感光材料
13上に縮小結像される。
きさより小さい。すなわち、画素形成部12に入射した
光は、レンズ系及びライトガイド15によって感光材料
13上に縮小結像される。
第2図と第3図は上記基本概念にもとづいた具体例を示
す。
す。
第2図において、21は光シャッタ、22は画素形成部
、23は感光材料、24はドツトパターン、25はシリ
ンドリカルレンズである。光シャッタ21は、多数の画
素形成部22が千鳥状の2列に配列して形成されている
。光シャッタ21と感光材料23との間に、シリンドリ
カルレンズ25が配設されている。この例では、1個の
シリンドリカルレンズ25によって、光シャッタ21の
全ての画素形成部22を透過した光が感光材料23上に
縮小結像される。また、この例では、画素形成部22の
パターン形状が長方形であり、画素形成部22の長手方
向が配列の方向と直交する。この各画素形成部22を通
過した光は、シリンドリカルレンズ25によって配列の
方向と直交する方向にのみ縮小され、感光材料23上に
正方形に結像する。このように、この例では構成が非常
に簡単である。
、23は感光材料、24はドツトパターン、25はシリ
ンドリカルレンズである。光シャッタ21は、多数の画
素形成部22が千鳥状の2列に配列して形成されている
。光シャッタ21と感光材料23との間に、シリンドリ
カルレンズ25が配設されている。この例では、1個の
シリンドリカルレンズ25によって、光シャッタ21の
全ての画素形成部22を透過した光が感光材料23上に
縮小結像される。また、この例では、画素形成部22の
パターン形状が長方形であり、画素形成部22の長手方
向が配列の方向と直交する。この各画素形成部22を通
過した光は、シリンドリカルレンズ25によって配列の
方向と直交する方向にのみ縮小され、感光材料23上に
正方形に結像する。このように、この例では構成が非常
に簡単である。
第3図において、31は光シャッタ、32は画素形成部
、33は感光材料、34はドツトパターン、35はマイ
クロレンズ、36は光ファイバからなるライトガイドで
ある。光シャッタ31は、多数の画素形成部32が千鳥
状の4列に配列して形成されている。すなわち、画素形
成部32がマトリックス状に配列している。全ての画素
形成部32の下側には、それぞれマイクロレンズ35が
配置され、さらにマイクロレンズ35を透過した光を感
光材料33へ導くためのライトガイド36が配設される
。この例では、マトリックス状に形成された画素形成部
32の各々に設けられたマイクロレンズ35によって集
光した光をライトガイド36により1列に変換して感光
材料33上に結像させる。この例では、光シャッタを細
長いものにする必要がないので、光シャッタに照射され
る光のムラを少くできるとともに、光源の選択が容易に
なる。マイクロレンズは、光シャンクを構成する透明基
板や偏光板の一部を加工して形成することができるし、
マトリックス状にマイクロレンズを形成した透明基板を
外付けしても良い。
、33は感光材料、34はドツトパターン、35はマイ
クロレンズ、36は光ファイバからなるライトガイドで
ある。光シャッタ31は、多数の画素形成部32が千鳥
状の4列に配列して形成されている。すなわち、画素形
成部32がマトリックス状に配列している。全ての画素
形成部32の下側には、それぞれマイクロレンズ35が
配置され、さらにマイクロレンズ35を透過した光を感
光材料33へ導くためのライトガイド36が配設される
。この例では、マトリックス状に形成された画素形成部
32の各々に設けられたマイクロレンズ35によって集
光した光をライトガイド36により1列に変換して感光
材料33上に結像させる。この例では、光シャッタを細
長いものにする必要がないので、光シャッタに照射され
る光のムラを少くできるとともに、光源の選択が容易に
なる。マイクロレンズは、光シャンクを構成する透明基
板や偏光板の一部を加工して形成することができるし、
マトリックス状にマイクロレンズを形成した透明基板を
外付けしても良い。
〈発明の効果〉
以上説明したように本発明におi、)では、光シャッタ
の各画素形成部の面積を感光材料に結像する各画素形成
部に対応した各ドツトパターンの面積より大きくしたか
ら、各画素形成部の面積のばらつき率°を従来より小さ
くすることができる。また、画素形成部の面積を太き(
したことにより、感光材料に到達する光量が多くなり、
階調制御が容易になるとともに、光源光量を低くするこ
とができる。したがって、光源の選択が容易になり、発
熱対策が不用となるので、コストダウンが実現できる。
の各画素形成部の面積を感光材料に結像する各画素形成
部に対応した各ドツトパターンの面積より大きくしたか
ら、各画素形成部の面積のばらつき率°を従来より小さ
くすることができる。また、画素形成部の面積を太き(
したことにより、感光材料に到達する光量が多くなり、
階調制御が容易になるとともに、光源光量を低くするこ
とができる。したがって、光源の選択が容易になり、発
熱対策が不用となるので、コストダウンが実現できる。
さらに、画素形成部の面積のばらつき率を従来程度に据
え置くならば、画素形成部の各辺のばらつきの大きさを
従来よりも粗くすることができ、歩留りの向上あるいは
コストダウンが実現できる。
え置くならば、画素形成部の各辺のばらつきの大きさを
従来よりも粗くすることができ、歩留りの向上あるいは
コストダウンが実現できる。
第1図は本発明実施例の基本構成を示す図、第2図と第
3図は本発明の他の実施例の構成を示す図、 第4図は従来例の構成を示す図である。 if、21.31・・・光シャッタ 12.22.32・・・画素形成部 13.23.33・・・感光材料 14.24.34・・・ドツトパターン15・・・レン
ズ系及びライトガイド 25・・・シリンドリカルレンズ 35・・・マイクロレンズ 3日・・・ライトガイド
3図は本発明の他の実施例の構成を示す図、 第4図は従来例の構成を示す図である。 if、21.31・・・光シャッタ 12.22.32・・・画素形成部 13.23.33・・・感光材料 14.24.34・・・ドツトパターン15・・・レン
ズ系及びライトガイド 25・・・シリンドリカルレンズ 35・・・マイクロレンズ 3日・・・ライトガイド
Claims (1)
- 光源系と感光材料との間に複数の画素形成部を少なくと
も1列に配列してなる光シャッタを配置し、透過状態に
ある前記画素形成部を通った光によるドットパターンで
前記感光材料に画像を記録する画像記録装置において、
光シャッタの各画素形成部の面積が感光材料に結像され
る各画素形成部に対応した各ドットパターンの面積より
も大であることを特徴とする画像記録装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61310946A JPS63168373A (ja) | 1986-12-29 | 1986-12-29 | 画像記録装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61310946A JPS63168373A (ja) | 1986-12-29 | 1986-12-29 | 画像記録装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63168373A true JPS63168373A (ja) | 1988-07-12 |
Family
ID=18011291
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61310946A Pending JPS63168373A (ja) | 1986-12-29 | 1986-12-29 | 画像記録装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63168373A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1197341A3 (en) * | 2000-10-10 | 2003-07-23 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Transfer apparatus |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5086932A (ja) * | 1973-12-01 | 1975-07-12 | ||
JPS5918924A (ja) * | 1982-07-23 | 1984-01-31 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光シヤツタ−素子 |
-
1986
- 1986-12-29 JP JP61310946A patent/JPS63168373A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5086932A (ja) * | 1973-12-01 | 1975-07-12 | ||
JPS5918924A (ja) * | 1982-07-23 | 1984-01-31 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光シヤツタ−素子 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1197341A3 (en) * | 2000-10-10 | 2003-07-23 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Transfer apparatus |
US6714265B2 (en) | 2000-10-10 | 2004-03-30 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Transfer apparatus |
US7042530B2 (en) | 2000-10-10 | 2006-05-09 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Transfer apparatus |
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