JPS63168373A - 画像記録装置 - Google Patents
画像記録装置Info
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- JPS63168373A JPS63168373A JP61310946A JP31094686A JPS63168373A JP S63168373 A JPS63168373 A JP S63168373A JP 61310946 A JP61310946 A JP 61310946A JP 31094686 A JP31094686 A JP 31094686A JP S63168373 A JPS63168373 A JP S63168373A
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- JP
- Japan
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- photosensitive material
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Links
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 38
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 33
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 1
- QNZFKUWECYSYPS-UHFFFAOYSA-N lead zirconium Chemical compound [Zr].[Pb] QNZFKUWECYSYPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/435—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material
- B41J2/465—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material using masks, e.g. light-switching masks
Landscapes
- Color, Gradation (AREA)
- Exposure Or Original Feeding In Electrophotography (AREA)
- Dot-Matrix Printers And Others (AREA)
- Printers Or Recording Devices Using Electromagnetic And Radiation Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
この発明は、光シャッタを用いて感光材料に画像を記録
する画像記録装置に関し、特に多色、多階調の画像を記
録する画像記録装置に関する。
する画像記録装置に関し、特に多色、多階調の画像を記
録する画像記録装置に関する。
〈従来の技術〉
従来、光シャッタとして液晶光シャッタとランタンでド
ープした鉛ジルコニウム・チタン酸塩類（Ｐ Ｌ Ｚ
Ｔ）光シャッタとが知られており、これらはいずれも電
界を加えることにより光透過率を変えることができる。
ープした鉛ジルコニウム・チタン酸塩類（Ｐ Ｌ Ｚ
Ｔ）光シャッタとが知られており、これらはいずれも電
界を加えることにより光透過率を変えることができる。
画像記録装置では、−組の微少な透明電極で構成した画
素形成部（マイクロシャッタ）を−列に配置した光シヤ
ツタアレイ、または画素形成部を２次元的に配置した光
シヤツタマトリックスが用いられ、これらが光源系と感
光材料との間に配置される。画像の記録時には、感光材
料を移送すると共に、画像情報に応じて複数の画素形成
部を選択的に駆動し、透明な状態になっている画素形成
部を透過した光で感光材料を露光し、ドツトパターンの
画像を潜像として感光材料に記録する。
素形成部（マイクロシャッタ）を−列に配置した光シヤ
ツタアレイ、または画素形成部を２次元的に配置した光
シヤツタマトリックスが用いられ、これらが光源系と感
光材料との間に配置される。画像の記録時には、感光材
料を移送すると共に、画像情報に応じて複数の画素形成
部を選択的に駆動し、透明な状態になっている画素形成
部を透過した光で感光材料を露光し、ドツトパターンの
画像を潜像として感光材料に記録する。
従来の画像記録装置では、第４図に示すように、光シャ
ッタ４１の画素形成部（マイクロシャッタ）４２以外の
部分はマスクされており、光は透過できない。また、マ
スクで囲まれた各画素形成部４２の面積は、感光材料４
３に結像される各画素形成部４２に対応した各ドツトパ
ターン４４の面積にほぼ等しい。光シャッタ４１の画素
形成部４２と感光材料４３との間には、多数のセルフォ
ックレンズ等のレンズ系４５が配設される。各画素形成
部４２の配列は、感光材料４３に結像される各ドツトパ
ターン４４が１列に配列しているのに対して、１列ある
いは図示するように千鳥状の２列に配列されるのが一般
的である。そして、画素形成部４２の面積は０．０１〜
０゜０５ｍｍであり、光シャッタ４１はこの画素形成部
４２が数百ないし数十個配列して形成される。
ッタ４１の画素形成部（マイクロシャッタ）４２以外の
部分はマスクされており、光は透過できない。また、マ
スクで囲まれた各画素形成部４２の面積は、感光材料４
３に結像される各画素形成部４２に対応した各ドツトパ
ターン４４の面積にほぼ等しい。光シャッタ４１の画素
形成部４２と感光材料４３との間には、多数のセルフォ
ックレンズ等のレンズ系４５が配設される。各画素形成
部４２の配列は、感光材料４３に結像される各ドツトパ
ターン４４が１列に配列しているのに対して、１列ある
いは図示するように千鳥状の２列に配列されるのが一般
的である。そして、画素形成部４２の面積は０．０１〜
０゜０５ｍｍであり、光シャッタ４１はこの画素形成部
４２が数百ないし数十個配列して形成される。
〈発明が解決しようとする問題点〉
光シャッタ４１の画素形成部４２を透過する光量は各画
素形成部４２０面積に比例するので、このような光シャ
ッタ４１で感光材料４３に画像を記録する場合、各画素
形成部４２の面積の精度が重要な要因となる。特に多色
、多階調の画像を記録する場合には、各画素形成部４２
の面積のばらつきを数パーセント以下に抑える必要があ
る。
素形成部４２０面積に比例するので、このような光シャ
ッタ４１で感光材料４３に画像を記録する場合、各画素
形成部４２の面積の精度が重要な要因となる。特に多色
、多階調の画像を記録する場合には、各画素形成部４２
の面積のばらつきを数パーセント以下に抑える必要があ
る。
しかるに、光シャッタ４１の各画素形成部４２の面積は
、上述のように極めて小さく、精度を確保するためには
縦と横の各辺のばらつきの大きさをいずれも数μｍ以下
に抑える必要があった。したがって、従来ではこの点が
歩留りの低下やコストアンプの原因になっていた。
、上述のように極めて小さく、精度を確保するためには
縦と横の各辺のばらつきの大きさをいずれも数μｍ以下
に抑える必要があった。したがって、従来ではこの点が
歩留りの低下やコストアンプの原因になっていた。
また、各画素形成部４２の面積が小さいため、感光材料
４３に照射される光量を充分に得るためには光源系の明
るさを非常に大きくする必要があり、光源系の選択が難
しく、さらに光源の発熱に対する対策を講じる必要があ
り、これがコストア・ノブの原因になっていた。
４３に照射される光量を充分に得るためには光源系の明
るさを非常に大きくする必要があり、光源系の選択が難
しく、さらに光源の発熱に対する対策を講じる必要があ
り、これがコストア・ノブの原因になっていた。
本発明は、かかる従来の実情に鑑みてなされたものであ
って、その目的は、光シャッタの各画素形成部の面積の
ばらつき精度を向上させるとともに、光源系の選択性を
拡大することにより、濃度のばらつきの小さい再現性に
すぐれた高品質な画像が得られしかも安価である画像記
録装置を提供することである。
って、その目的は、光シャッタの各画素形成部の面積の
ばらつき精度を向上させるとともに、光源系の選択性を
拡大することにより、濃度のばらつきの小さい再現性に
すぐれた高品質な画像が得られしかも安価である画像記
録装置を提供することである。
く問題点を解決するだめの手段〉
上記目的を達成するために、本発明による画像記録装置
は、光源系と感光材料との間に複数の画素形成部を少く
とも１列に配列してなる光シャッタを配置し、″ｊ二通
過状態ある前記画素形成部を通った光によるドツトパタ
ーンで前記感光材料に画像を記録するもので、光シャッ
タの各画素形成部の面積を感光材料に結像される各画素
形成部に対応した各ドツトパターンの面積よりも大きく
する、という手段を採用した点に特徴がある。
は、光源系と感光材料との間に複数の画素形成部を少く
とも１列に配列してなる光シャッタを配置し、″ｊ二通
過状態ある前記画素形成部を通った光によるドツトパタ
ーンで前記感光材料に画像を記録するもので、光シャッ
タの各画素形成部の面積を感光材料に結像される各画素
形成部に対応した各ドツトパターンの面積よりも大きく
する、という手段を採用した点に特徴がある。
く作用〉
本発明に係る画像記録装置は、光シャッタの各画素形成
部を透過した光をレンズや光ファイバなどによって集光
し、画素形成部より面積が小さいドツトパターンを１列
に配列して感光材料上に結像する。
部を透過した光をレンズや光ファイバなどによって集光
し、画素形成部より面積が小さいドツトパターンを１列
に配列して感光材料上に結像する。
〈実施例〉
以下、本発明の一実施例について説明する。
第１図は本発明の基本概念を示し、１１は光シャッタ、
１２は画素形成部、１３は感光材料、１４はドツトパタ
ーン、１５はレンズ系及びライトガイドである。
１２は画素形成部、１３は感光材料、１４はドツトパタ
ーン、１５はレンズ系及びライトガイドである。
光シャッタ１１は、図中上方に配置される光源系（図示
せず゛）と感光材料１３との間に配置される。
せず゛）と感光材料１３との間に配置される。
光シャッタ１１には、多数の画素形成部１２が千鳥状の
２列に配列して形成されており、各画素形成部１２と感
光材料１３との間に多数のレンズ系及びライト・ガイド
１５が配設される。このレンズ系及びライトガイド１５
によって、光シャッタ１１の２列の画素形成部１２を透
過した光が１列に配列したドツトパターンとして感光材
料１３へ導かれる。
２列に配列して形成されており、各画素形成部１２と感
光材料１３との間に多数のレンズ系及びライト・ガイド
１５が配設される。このレンズ系及びライトガイド１５
によって、光シャッタ１１の２列の画素形成部１２を透
過した光が１列に配列したドツトパターンとして感光材
料１３へ導かれる。
光シャッタ１１の各画素形成部１２の面積は、感光材料
１３に結像する各画素形成部１２に対応した各ドツトパ
ターン１４の面積より大きい。
１３に結像する各画素形成部１２に対応した各ドツトパ
ターン１４の面積より大きい。
各画素形成部１２は、記録する画像情報に応じ”ζ透過
性あるいは不透過性となる。光源から発せられた光は、
光シャッタ１１に照射され、透過性になっている画素形
成部１２を透過し、さらにレンズ系及びライトガイド１
５を透過することによって、１列に配列した所定の大き
さのドツトパターンとして感光材料１３上に結像する。
性あるいは不透過性となる。光源から発せられた光は、
光シャッタ１１に照射され、透過性になっている画素形
成部１２を透過し、さらにレンズ系及びライトガイド１
５を透過することによって、１列に配列した所定の大き
さのドツトパターンとして感光材料１３上に結像する。
各ドツトパターン１４の大きさは、画素形成部１２の大
きさより小さい。すなわち、画素形成部１２に入射した
光は、レンズ系及びライトガイド１５によって感光材料
１３上に縮小結像される。
きさより小さい。すなわち、画素形成部１２に入射した
光は、レンズ系及びライトガイド１５によって感光材料
１３上に縮小結像される。
第２図と第３図は上記基本概念にもとづいた具体例を示
す。
す。
第２図において、２１は光シャッタ、２２は画素形成部
、２３は感光材料、２４はドツトパターン、２５はシリ
ンドリカルレンズである。光シャッタ２１は、多数の画
素形成部２２が千鳥状の２列に配列して形成されている
。光シャッタ２１と感光材料２３との間に、シリンドリ
カルレンズ２５が配設されている。この例では、１個の
シリンドリカルレンズ２５によって、光シャッタ２１の
全ての画素形成部２２を透過した光が感光材料２３上に
縮小結像される。また、この例では、画素形成部２２の
パターン形状が長方形であり、画素形成部２２の長手方
向が配列の方向と直交する。この各画素形成部２２を通
過した光は、シリンドリカルレンズ２５によって配列の
方向と直交する方向にのみ縮小され、感光材料２３上に
正方形に結像する。このように、この例では構成が非常
に簡単である。
、２３は感光材料、２４はドツトパターン、２５はシリ
ンドリカルレンズである。光シャッタ２１は、多数の画
素形成部２２が千鳥状の２列に配列して形成されている
。光シャッタ２１と感光材料２３との間に、シリンドリ
カルレンズ２５が配設されている。この例では、１個の
シリンドリカルレンズ２５によって、光シャッタ２１の
全ての画素形成部２２を透過した光が感光材料２３上に
縮小結像される。また、この例では、画素形成部２２の
パターン形状が長方形であり、画素形成部２２の長手方
向が配列の方向と直交する。この各画素形成部２２を通
過した光は、シリンドリカルレンズ２５によって配列の
方向と直交する方向にのみ縮小され、感光材料２３上に
正方形に結像する。このように、この例では構成が非常
に簡単である。
第３図において、３１は光シャッタ、３２は画素形成部
、３３は感光材料、３４はドツトパターン、３５はマイ
クロレンズ、３６は光ファイバからなるライトガイドで
ある。光シャッタ３１は、多数の画素形成部３２が千鳥
状の４列に配列して形成されている。すなわち、画素形
成部３２がマトリックス状に配列している。全ての画素
形成部３２の下側には、それぞれマイクロレンズ３５が
配置され、さらにマイクロレンズ３５を透過した光を感
光材料３３へ導くためのライトガイド３６が配設される
。この例では、マトリックス状に形成された画素形成部
３２の各々に設けられたマイクロレンズ３５によって集
光した光をライトガイド３６により１列に変換して感光
材料３３上に結像させる。この例では、光シャッタを細
長いものにする必要がないので、光シャッタに照射され
る光のムラを少くできるとともに、光源の選択が容易に
なる。マイクロレンズは、光シャンクを構成する透明基
板や偏光板の一部を加工して形成することができるし、
マトリックス状にマイクロレンズを形成した透明基板を
外付けしても良い。
、３３は感光材料、３４はドツトパターン、３５はマイ
クロレンズ、３６は光ファイバからなるライトガイドで
ある。光シャッタ３１は、多数の画素形成部３２が千鳥
状の４列に配列して形成されている。すなわち、画素形
成部３２がマトリックス状に配列している。全ての画素
形成部３２の下側には、それぞれマイクロレンズ３５が
配置され、さらにマイクロレンズ３５を透過した光を感
光材料３３へ導くためのライトガイド３６が配設される
。この例では、マトリックス状に形成された画素形成部
３２の各々に設けられたマイクロレンズ３５によって集
光した光をライトガイド３６により１列に変換して感光
材料３３上に結像させる。この例では、光シャッタを細
長いものにする必要がないので、光シャッタに照射され
る光のムラを少くできるとともに、光源の選択が容易に
なる。マイクロレンズは、光シャンクを構成する透明基
板や偏光板の一部を加工して形成することができるし、
マトリックス状にマイクロレンズを形成した透明基板を
外付けしても良い。
〈発明の効果〉
以上説明したように本発明におｉ、）では、光シャッタ
の各画素形成部の面積を感光材料に結像する各画素形成
部に対応した各ドツトパターンの面積より大きくしたか
ら、各画素形成部の面積のばらつき率°を従来より小さ
くすることができる。また、画素形成部の面積を太き（
したことにより、感光材料に到達する光量が多くなり、
階調制御が容易になるとともに、光源光量を低くするこ
とができる。したがって、光源の選択が容易になり、発
熱対策が不用となるので、コストダウンが実現できる。
の各画素形成部の面積を感光材料に結像する各画素形成
部に対応した各ドツトパターンの面積より大きくしたか
ら、各画素形成部の面積のばらつき率°を従来より小さ
くすることができる。また、画素形成部の面積を太き（
したことにより、感光材料に到達する光量が多くなり、
階調制御が容易になるとともに、光源光量を低くするこ
とができる。したがって、光源の選択が容易になり、発
熱対策が不用となるので、コストダウンが実現できる。
さらに、画素形成部の面積のばらつき率を従来程度に据
え置くならば、画素形成部の各辺のばらつきの大きさを
従来よりも粗くすることができ、歩留りの向上あるいは
コストダウンが実現できる。
え置くならば、画素形成部の各辺のばらつきの大きさを
従来よりも粗くすることができ、歩留りの向上あるいは
コストダウンが実現できる。
第１図は本発明実施例の基本構成を示す図、第２図と第
３図は本発明の他の実施例の構成を示す図、 第４図は従来例の構成を示す図である。 ｉｆ、２１．３１・・・光シャッタ １２．２２．３２・・・画素形成部 １３．２３．３３・・・感光材料 １４．２４．３４・・・ドツトパターン１５・・・レン
ズ系及びライトガイド ２５・・・シリンドリカルレンズ ３５・・・マイクロレンズ ３日・・・ライトガイド
３図は本発明の他の実施例の構成を示す図、 第４図は従来例の構成を示す図である。 ｉｆ、２１．３１・・・光シャッタ １２．２２．３２・・・画素形成部 １３．２３．３３・・・感光材料 １４．２４．３４・・・ドツトパターン１５・・・レン
ズ系及びライトガイド ２５・・・シリンドリカルレンズ ３５・・・マイクロレンズ ３日・・・ライトガイド
Claims (1)
- 光源系と感光材料との間に複数の画素形成部を少なくと
も１列に配列してなる光シャッタを配置し、透過状態に
ある前記画素形成部を通った光によるドットパターンで
前記感光材料に画像を記録する画像記録装置において、
光シャッタの各画素形成部の面積が感光材料に結像され
る各画素形成部に対応した各ドットパターンの面積より
も大であることを特徴とする画像記録装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61310946A JPS63168373A (ja) | 1986-12-29 | 1986-12-29 | 画像記録装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61310946A JPS63168373A (ja) | 1986-12-29 | 1986-12-29 | 画像記録装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63168373A true JPS63168373A (ja) | 1988-07-12 |
Family
ID=18011291
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61310946A Pending JPS63168373A (ja) | 1986-12-29 | 1986-12-29 | 画像記録装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63168373A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1197341A3 (en) * | 2000-10-10 | 2003-07-23 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Transfer apparatus |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5086932A (ja) * | 1973-12-01 | 1975-07-12 | ||
| JPS5918924A (ja) * | 1982-07-23 | 1984-01-31 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光シヤツタ−素子 |
-
1986
- 1986-12-29 JP JP61310946A patent/JPS63168373A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5086932A (ja) * | 1973-12-01 | 1975-07-12 | ||
| JPS5918924A (ja) * | 1982-07-23 | 1984-01-31 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光シヤツタ−素子 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1197341A3 (en) * | 2000-10-10 | 2003-07-23 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Transfer apparatus |
| US6714265B2 (en) | 2000-10-10 | 2004-03-30 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Transfer apparatus |
| US7042530B2 (en) | 2000-10-10 | 2006-05-09 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Transfer apparatus |
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