JPS63167447A - デイスク製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はコンパクトディスクに代表されるディスクの製
造方法に関する。

〔発明の概要〕

本発明においては基板上に反射膜を形成する前。

中心孔がブラシと乾燥した空気で洗浄される。

〔従来の技術〕

第５図はコンパクトディスクの断面図である。

同図において１はポリカーボネイト等の合成樹脂よりな
る基板であり、その一方の面（同図において上方の面）
は記録情報が転写された信号面となっている。基板１の
信号面上にはアルミニウム等よりなる反射膜２が形成さ
れ、反射膜２上にはさらに紫外線硬化樹脂等よりなる保
護膜３が形成されている。４は中心孔である。

反射膜２は酸化等による劣化を防ぐため、その平面部は
もとより、その内周の端部や外周の端部も外部に露出し
ないように形成されている。このためディスクの最外周
端部と最内周端部近傍においては保護膜３が基板１を直
接被覆している。

このようにディスクの最内周と最外周に反射膜２が存在
しない部分を形成するため、第６図に示すように、基板
１の最外周を略リング状にマスク５により被覆し、最内
周を円状にマスク６により被覆し、この状態で信号面に
蒸着、スパッタリング等により反射膜２を形成するよう
にしていた。

〔発明が解決しようとする問題点〕

ところで基板１上に反射膜２を形成するとき、基板１上
にゴミ、チリ等があるとピンホールが発生し、ドロップ
アウト等の原因となるので、反射膜２を形成する前に、
基板１は洗浄される。従来この洗浄は水、フロンガス等
を所定の圧力で吹きつける等して行なわれていた。その
結果洗浄後乾燥させるのに時間がかかるばかりでなく、
中心孔４のパリ等を充分除去することができず、ピンホ
ールが発生し易い欠点があった。

本発明は斯かる状況に鑑み、ピンホールの発生を防止し
、短時間でディスクを製造できる方法を提供するもので
ある。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明はディスク製造方法において、記録情報が転写さ
れた信号面を有する合成樹脂よりなる基板を用意する工
程と、基板の中心孔を所定の部材でこすると同時に乾燥
した空気で洗浄する工程と、信号面を乾燥した空気で洗
浄する工程と、洗浄した基板の信号面上に反射膜を形成
する工程と、反射膜上に保護膜を形成する工程とからな
ることを特徴とする。

〔作用〕

先ず信号面に記録情報が転写された基板が用意される。

この基板の中心孔は所定の部材でこすられると同時に乾
燥した空気で洗浄される。基板の信号面も乾燥した空気
で洗浄される。中心孔と信号面の洗浄が終了した後、信
号面上に反射膜が形成され、さらにその上に保護膜が形
成される。

〔実施例〕

第１図はコンパクトディスクを製造する場合における本
発明の工程を表わしている。先ず記録情報が転写された
信号面を有するポリカーボネイト等の合成樹脂よりなる
基板が用意される。例えば所定の金型に合成樹脂を射出
したり、金型で合成樹脂をプレスしたりして基板が得ら
れる。得られた基板は先ずその中心孔が洗浄される。

第２図はこの洗浄を行なう装置を表わしている。

同図において１１は基板１を載置する基台であり。

中心に孔１２を有している。１３はモータであり、例え
ば動物の毛、合成樹脂等よりなる所定の部材（ブラシ）
１４を回転させる。動作時ブラシ１４は上方に移動され
、中心孔４内に挿入、配置される。

この状態でモータ１３が通電され、ブラシ１４が回転さ
れる。ブラシ１４が物理的に接触するので、中心孔４の
パリ等が確実に除去される。このとき上方からイオナイ
ズされた空気が所定の圧力で吹き付けられるとともに、
下方から吸引される。これにより除去されたパリは信号
面（図中上方の面）に飛散せず、下方から排出される。

また空気はイオナイズされているので静電気が帯電せず
、パリ、チリ、ホコリ等が付着するのが防止される。そ
の結果後に反射膜を形成するとき、ピンホール等が発生
し難い。また洗浄は乾いた空気による′ものなので、後
に乾燥等の工程は不要である。

次に信号面の洗浄が行なわれる。この場合の洗浄も前述
した場合と同様にイオナイズされた空気により行なわれ
る。その場合の効果も前述した場合と同様である。中心
孔の洗浄と信号面の洗浄は同時に行なうことができる。

信号面の洗浄が終了した基板は複数枚所定のケースにス
トックされる。ケースに基板が所定枚数ストックされた
とき、このケースは反射膜を形成する装置（メタライズ
装置）まで搬送される。

メタライズ装置において基板１は例えば第３図に示すよ
うにホルダ２１にローディングされる。

ホルダ２１は基板１の中心孔４に略対応した凹部２２を
有している。凹部２２の底には磁石２３が固定されてい
る。マスク６は合成樹脂よりなる把持部２５と磁性ステ
ンレス等よりなる突出部２４とより構成され、突出部２
４は凹部２２に挿入され、磁石２３に吸引される。この
吸引力により把持部２５が基板１をホルダ２１側に押圧
し、基板１がホルダ２１に保持される。このとき基板１
の外周端部はホルダ２１に環状に形成された突出部２６
と対向するようになっている。

尚図示はしていないが例えば突出部２４の外周に板バネ
等よりなるクランパを設ける等してマスク６は中心孔４
に対して着脱自在となっている。

このようにして基板１を所定枚数保持したホルダ２１は
メタライズ装置としての例えば蒸着装置内に搬送される
。ここで例えばアルミニウムが基板１の信号面上に蒸着
される。第３図において信号面は上方に配置されている
。従って反射膜２はマスク６により覆われていない部分
にだけ形成される。またこのとき突出部２６が対向して
いるので基板１の外周端部には反射膜２は形成されない
。

反射膜の形成（メタライズ）が終了したとき、基板１は
ホルダ２１からアンローディングされ、次の外周切削工
程に回される。

第４図は外周切削装置を表わしている。基板１は基台３
１上に載置される。モータ３２により基台３１が回転さ
れると、基板１が一緒に回転する。

このとき上方よりバイト３３が下降してきて反射膜２の
外周部（図中斜線を施した部分）を切削、除去する。バ
イト３３の先端は若干丸味を帯びており、反射膜２をこ
すり取るようになっている。

反射膜２の外周部の切削が終了したとき（あるいは切削
と同時であってもよい）、再び前述した場合と同様にイ
オナイズされた空気による洗浄が行なわれ、切削された
反射膜のカス等が除去される。この洗浄が終了した後、
反射膜２上に紫外線硬化樹脂よりなる保護膜がロールコ
ート、スピンコード等によりコーティングされる。さら
にその上に紫外線を照射して保護膜３を硬化、乾燥させ
る。

〔効果〕

以上の如く本発明はディスク製造方法において、記録情
報が転写された信号面を有する合成樹脂よりなる基板を
用意する工程と、基板の中心孔を所定の部材でこすると
同時に乾燥した空気で洗浄する工程と、信号面を乾燥し
た空気で洗浄する工程と、洗浄した基板の信号面上に反
射膜を形成する工程と、反射膜上に保護膜を形成する工
程とからなるようにしたので、ピンホールの発生をより
確実に防止し、歩留まりを向上させることができるとと
もに、単時間でディスクを製造することが可能になる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明のディスク製造方法の工程の説明図、第
２図はその中心孔洗浄装置の側面図、第３図はそのディ
スクをローディングした状態の説明図、第４図はその外
周切削装置の側面図、第５図はコンパクトディスクの断
面図、第６図は従来のマスクの説明図である。 １・・・基板 ２・・・反射膜 ３・・・保護膜 ４・・・中心孔 ５．６・・・マスク １１・・・基台 １２・・・孔 １３・・・モータ １４・・・ブラシ ２１・・・ホルダ ２２・・・凹部 ２３・・・磁石 ２４・・・突出部 ２５・・・把持部 ２６・・・突出部 ３１・・・基台 ３２・・　・モータ ３３・・・バイト 以上

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 記録情報が転写された信号面を有する合成樹脂よりなる
   基板を用意する工程と、該基板の中心孔を所定の部材で
   こすると同時に乾燥した空気で洗浄する工程と、該信号
   面を乾燥した空気で洗浄する工程と、洗浄した該基板の
   該信号面上に反射膜を形成する工程と、該反射膜上に保
   護膜を形成する工程とからなることを特徴とするディス
   ク製造方法。