JPS63161024A - 新規なチオフエン系重合体、その製造方法およびそれを用いた有機表示材料 - Google Patents
新規なチオフエン系重合体、その製造方法およびそれを用いた有機表示材料Info
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- JPS63161024A JPS63161024A JP30798586A JP30798586A JPS63161024A JP S63161024 A JPS63161024 A JP S63161024A JP 30798586 A JP30798586 A JP 30798586A JP 30798586 A JP30798586 A JP 30798586A JP S63161024 A JPS63161024 A JP S63161024A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、新規なチオフェン重合体、その製造方法およ
びそれを用いた有機表示材料に関するものである。
びそれを用いた有機表示材料に関するものである。
(従来の技術)
従来、ポリ(3−メチルチェニレン)、またはチオフェ
ンと3−メチルチオフェンの共重合体等のチオフェン化
合物を電解重合して有機表示材料組成物を得ることは知
られている(例えば、特開昭60−65062号公報、
特開昭60−120722号公報)、そして、これら組
成物は成形性、可塑性および可どう性に優れており高分
子半導体としてはあるいはそのエレクトロクロミンク現
象を利用した表示素子として利用しうる物であるが5発
現される色調は赤。
ンと3−メチルチオフェンの共重合体等のチオフェン化
合物を電解重合して有機表示材料組成物を得ることは知
られている(例えば、特開昭60−65062号公報、
特開昭60−120722号公報)、そして、これら組
成物は成形性、可塑性および可どう性に優れており高分
子半導体としてはあるいはそのエレクトロクロミンク現
象を利用した表示素子として利用しうる物であるが5発
現される色調は赤。
青の二色だけであるので多様性の点で不十分であり、利
用分野が制限されるのを免れなかった。
用分野が制限されるのを免れなかった。
(解決すべき問題点)
本発明者らは、このような欠点を克服すべく鋭意研究を
行った結果、ある種のチオフェン系化合物の重合体がそ
の目的に適合することを見出し、本発明を完成するに至
ったもので、本発明の目的は、従来の赤、前二色に加え
て緑色に発色しうるチオフェン系誘導体を開発し、三原
色を揃えることによりフルカラーの表示を可能とするこ
とにある。
行った結果、ある種のチオフェン系化合物の重合体がそ
の目的に適合することを見出し、本発明を完成するに至
ったもので、本発明の目的は、従来の赤、前二色に加え
て緑色に発色しうるチオフェン系誘導体を開発し、三原
色を揃えることによりフルカラーの表示を可能とするこ
とにある。
(問題点を解決しようとする手段)
すなわち1本発明は一般式
ン基または置換基を有してもよい1,3−フェニレン基
)で示される繰返し単位から成る重合体であり、此の製
法として一般式 (式中のRは1,3−フェニレン基−P+P’−ジフェ
ニレン基または置換基を有してもよい1,3−フェニレ
ン基)で示される化合物を電解重合させることを特徴と
する (式中のRは前記と同じ) で示される繰返し単位から成る重合体の製造方法(式中
のRは1,3−フェニレン基、PeP’−ジフェニレン
基または置換基を有してもよい1,3−フェニレン基)
で示される繰返し単位から成る重合体に陰イオンをドー
ピングさせて成る有機表示材料である。
)で示される繰返し単位から成る重合体であり、此の製
法として一般式 (式中のRは1,3−フェニレン基−P+P’−ジフェ
ニレン基または置換基を有してもよい1,3−フェニレ
ン基)で示される化合物を電解重合させることを特徴と
する (式中のRは前記と同じ) で示される繰返し単位から成る重合体の製造方法(式中
のRは1,3−フェニレン基、PeP’−ジフェニレン
基または置換基を有してもよい1,3−フェニレン基)
で示される繰返し単位から成る重合体に陰イオンをドー
ピングさせて成る有機表示材料である。
そして、具体的に本発明の重合体を列挙すると次のよう
な一般式を有する繰返し単位から成る重合体であって、
これら重合体は何れも新規な重合体であり、これらの重
合体はそのままでは電気的に絶縁体であるが、テトラフ
ルオロホウ酸イオン、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロ
リン酸イオン、ヘキサフルオロヒ素酸イオン、硫酸イオ
ン、硫酸水素イオン、トリフルオル酢酸イオン、または
p−トルエンスルホン酸イオンのような陰イオンをドー
ピングすると半導体の性質を示すようになる。
な一般式を有する繰返し単位から成る重合体であって、
これら重合体は何れも新規な重合体であり、これらの重
合体はそのままでは電気的に絶縁体であるが、テトラフ
ルオロホウ酸イオン、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロ
リン酸イオン、ヘキサフルオロヒ素酸イオン、硫酸イオ
ン、硫酸水素イオン、トリフルオル酢酸イオン、または
p−トルエンスルホン酸イオンのような陰イオンをドー
ピングすると半導体の性質を示すようになる。
そして、これらの重合体は化合物(I)、(II)、(
111)、(rV)で表わされるチオフェン系化合物を
極性溶媒中、支持電解質存在下、不活性雰囲気下で電解
重合させることにより製造することができる。
111)、(rV)で表わされるチオフェン系化合物を
極性溶媒中、支持電解質存在下、不活性雰囲気下で電解
重合させることにより製造することができる。
(式中のX′はハロゲン原子である)
で示されるハロゲン芳香族化合物と、
(式中のX′はハロゲン原子である)
で示されるチェニルマグネシウムハライドと反応させて
製造できる。電解恒°舜嶋速ゝ脩゛寥偉“去擲74゜例
えば化合物(I)は2−ブロムチオフェンおよび1.3
−ショートベンゼンとのグリニヤール反応により合成さ
れ、化合物(n)は2−ブロムチオフェンおよび3,5
−ジブロムトルエンのグリニヤール反応により合成され
、化合物(N)は2−ブロムチオフェンおよび3,5−
ジブロムアニソールのグリニヤール反応により合成され
、化合物(IV)は2−ブロムチオフェンおよび4,4
′−ジブロムビフェニルのグリニヤール反応により合成
される。
製造できる。電解恒°舜嶋速ゝ脩゛寥偉“去擲74゜例
えば化合物(I)は2−ブロムチオフェンおよび1.3
−ショートベンゼンとのグリニヤール反応により合成さ
れ、化合物(n)は2−ブロムチオフェンおよび3,5
−ジブロムトルエンのグリニヤール反応により合成され
、化合物(N)は2−ブロムチオフェンおよび3,5−
ジブロムアニソールのグリニヤール反応により合成され
、化合物(IV)は2−ブロムチオフェンおよび4,4
′−ジブロムビフェニルのグリニヤール反応により合成
される。
次にこの化合物を重合するのであるが、その条件は前述
のように極性溶媒中、支持電解質存在下、不活性雰囲気
下で電解重合させるのである。この際の極性溶媒として
は、アセトニトリル、ニトロベンゼン、ニトロメタン、
ベンゾニトリル、炭酸プロピレン、テトラヒドロフラン
、塩化メチレン。
のように極性溶媒中、支持電解質存在下、不活性雰囲気
下で電解重合させるのである。この際の極性溶媒として
は、アセトニトリル、ニトロベンゼン、ニトロメタン、
ベンゾニトリル、炭酸プロピレン、テトラヒドロフラン
、塩化メチレン。
ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド。
ヘキサメチルホスホルトリアミド、1−メチル−2−ピ
ロリジノン、ジメチル硫酸、ジエチル硫酸などが好まし
い。また不活性雰囲気としては窒素、アルゴンなどが用
いられる。このように不活性雰囲気下で行なうことによ
り反応中間体が酸素と化合して副生物を生じるのを防ぐ
ことができる。faFii材料には、金、白金などの貴
金属のほかに、酸化第二スズなどをガラス表面に蒸着し
たガラス電極も用いられる。支持電解質としては、テト
ラフルオロホウ酸テトラメチルアンモニウム、テトラフ
ルオロホウ酸テトラエチルアンモニウム、テトラフルオ
ロホウ酸テトラーn−ブチルアンモニウム、テトラフル
オロホウ酸リチウム、過塩素酸テトラエチルアンモニウ
ム、過塩素酸テトラ−n−ブチルアンモニウム、過塩素
酸リチウム、ヘキサフルオロリン酸テトラメチルアンモ
ニウム、ヘキサフルオロリン酸テトラ−n−ブチルアン
モニウム、ヘキサフルオロリン酸ナトリウム、ヘキサフ
ルオ口ヒ素酸テトラ−n−ブチルアンモニウム、ヘキサ
フルオロヒ素酸ナトリウム、硫酸、硫酸水素テトラメチ
ルアンモニウム、トリフルオロ酢酸ナトリウム。
ロリジノン、ジメチル硫酸、ジエチル硫酸などが好まし
い。また不活性雰囲気としては窒素、アルゴンなどが用
いられる。このように不活性雰囲気下で行なうことによ
り反応中間体が酸素と化合して副生物を生じるのを防ぐ
ことができる。faFii材料には、金、白金などの貴
金属のほかに、酸化第二スズなどをガラス表面に蒸着し
たガラス電極も用いられる。支持電解質としては、テト
ラフルオロホウ酸テトラメチルアンモニウム、テトラフ
ルオロホウ酸テトラエチルアンモニウム、テトラフルオ
ロホウ酸テトラーn−ブチルアンモニウム、テトラフル
オロホウ酸リチウム、過塩素酸テトラエチルアンモニウ
ム、過塩素酸テトラ−n−ブチルアンモニウム、過塩素
酸リチウム、ヘキサフルオロリン酸テトラメチルアンモ
ニウム、ヘキサフルオロリン酸テトラ−n−ブチルアン
モニウム、ヘキサフルオロリン酸ナトリウム、ヘキサフ
ルオ口ヒ素酸テトラ−n−ブチルアンモニウム、ヘキサ
フルオロヒ素酸ナトリウム、硫酸、硫酸水素テトラメチ
ルアンモニウム、トリフルオロ酢酸ナトリウム。
P−トルエンスルホン酸テトラメチルアンモニウム、P
−トルエンスルホン酸テトラ−n−ブチルアンモニウム
などがあげられる。
−トルエンスルホン酸テトラ−n−ブチルアンモニウム
などがあげられる。
また、ガラス電極上に電解重合して得た薄膜重合体は、
エレクトロクロミック現象で緑色を示し。
エレクトロクロミック現象で緑色を示し。
従来のチオフェン系化合物と組み合わせて、三原色フル
カラーを示すことができる。 先に列挙した本発明の代
表的な重合体の製造方法について述べると次のようであ
る。
カラーを示すことができる。 先に列挙した本発明の代
表的な重合体の製造方法について述べると次のようであ
る。
本発明の(V)は、貴金属あるいはガラス電極等の電極
を備えた電解槽に(1)で示される化合物0.001〜
1モルIQ、望ましくは0.05〜0.2モル/12と
支持電解質例えばテトラフルオロホウ酸テトラーn−ブ
チルアンモニウム0.001〜1モルIQ、望ましくは
0.01〜0.1モルIQとを極性溶媒例えばニトロベ
ンゼンに溶解させ、不活性雰囲気下、電流密度0.1〜
l0IIA101?、望ましくは0.5〜2 mA/a
1.温度0〜40℃、望ましくは20〜30℃で電解重
合を行なうと、陽極上にテトラフルオロホウ酸イオンが
ドーピングされた重合体として製造される。
を備えた電解槽に(1)で示される化合物0.001〜
1モルIQ、望ましくは0.05〜0.2モル/12と
支持電解質例えばテトラフルオロホウ酸テトラーn−ブ
チルアンモニウム0.001〜1モルIQ、望ましくは
0.01〜0.1モルIQとを極性溶媒例えばニトロベ
ンゼンに溶解させ、不活性雰囲気下、電流密度0.1〜
l0IIA101?、望ましくは0.5〜2 mA/a
1.温度0〜40℃、望ましくは20〜30℃で電解重
合を行なうと、陽極上にテトラフルオロホウ酸イオンが
ドーピングされた重合体として製造される。
本発明の(VI)は、上記と同様な電解槽に(II)で
示される化合物o、ooi〜1モルIQ望ましくは0.
05〜0.2モルIQと支持電解質、例えばテトラフル
オロホウ酸テトラーn−ブチルアンモニウム0.001
〜1モル/g、望ましくは0.01−0.1モル/ρと
を極性溶媒例えばニトロベンゼンに溶解させ、不活性雰
囲気下、電流密度0.1〜10mA/a(、望ましくは
0.5〜2mA/a&、温度O〜40℃、望ましくは2
0〜30℃で電解重合を行なうと、陽極上にテトラフル
オロホウ酸イオンがドーピングされた重合体として製造
される。
示される化合物o、ooi〜1モルIQ望ましくは0.
05〜0.2モルIQと支持電解質、例えばテトラフル
オロホウ酸テトラーn−ブチルアンモニウム0.001
〜1モル/g、望ましくは0.01−0.1モル/ρと
を極性溶媒例えばニトロベンゼンに溶解させ、不活性雰
囲気下、電流密度0.1〜10mA/a(、望ましくは
0.5〜2mA/a&、温度O〜40℃、望ましくは2
0〜30℃で電解重合を行なうと、陽極上にテトラフル
オロホウ酸イオンがドーピングされた重合体として製造
される。
本発明の(■)は、上記と同様な電解槽に(III)で
示される化合物0.001〜1モルIQ望ましくは0.
05〜0.2モル/Qと支持電解質1例えばテトラフル
オロホウ酸テトラーn−ブチルアンモニウム0.001
〜1モル/l望ましくは0.01〜0.1モルIQとを
極性溶媒例えばニトロベンゼンに溶解させ、不活性雰囲
気下、電流密度0.1〜lOmA/ad 、望ましくは
0.5〜2IIIA/cd、温度O〜40℃、望ましく
は20〜30℃で電解重合を行なうと、陽極上にテトラ
フルオロホウ酸イオンがドーピングされた重合体として
製造される。
示される化合物0.001〜1モルIQ望ましくは0.
05〜0.2モル/Qと支持電解質1例えばテトラフル
オロホウ酸テトラーn−ブチルアンモニウム0.001
〜1モル/l望ましくは0.01〜0.1モルIQとを
極性溶媒例えばニトロベンゼンに溶解させ、不活性雰囲
気下、電流密度0.1〜lOmA/ad 、望ましくは
0.5〜2IIIA/cd、温度O〜40℃、望ましく
は20〜30℃で電解重合を行なうと、陽極上にテトラ
フルオロホウ酸イオンがドーピングされた重合体として
製造される。
本発明の(■)は、上記と同様な電解槽に(mV)で示
される化合物0.001〜1モル/Q望ましくは0.0
02〜0.1モルIQと支持電解質、例えばテトラフル
オロポウ酸テトラーn−ブチルアンモニウム0.001
〜1モル/Q、望ましくは0.O1〜0.1モル/aと
を極性溶媒例えばニトロベンゼンに溶解させ、不活性雰
囲気下、電流密度0.1〜10mA/aI、望ましくは
0゜5〜2 vaA/c1.温度0〜50℃、望ましく
は30〜50℃で電解重合を行なうと、陽極上にテトラ
フルオロホウ酸イオンがドーピングされた重合体として
製造される。
される化合物0.001〜1モル/Q望ましくは0.0
02〜0.1モルIQと支持電解質、例えばテトラフル
オロポウ酸テトラーn−ブチルアンモニウム0.001
〜1モル/Q、望ましくは0.O1〜0.1モル/aと
を極性溶媒例えばニトロベンゼンに溶解させ、不活性雰
囲気下、電流密度0.1〜10mA/aI、望ましくは
0゜5〜2 vaA/c1.温度0〜50℃、望ましく
は30〜50℃で電解重合を行なうと、陽極上にテトラ
フルオロホウ酸イオンがドーピングされた重合体として
製造される。
電解重合によって得られた本発明の重合体は、使用した
支持電解質の陰イオン、例えばテトラフルオロホウ酸イ
オン、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロリン酸イオン、
ヘキサフルオロヒ素酸イオン、硫酸イオン、硫酸水素イ
オン、トリフルオル酢酸イオン、またはP−トルエンス
ルホン酸イオンがドーピングされた構造で得られ、これ
は半導体としての性質を持っている。特に薄膜状態では
緑色あるいは青緑色を示し、陰イオンを脱ドープするこ
とにより黄色を示す。このようなエレクI−ロクロミッ
ク現象を利用してエレクトロミンク表示素子としての利
用が可能である。重合体の形状は電極面上に膜として形
成され、膜厚は電解槽に通じた電気量により調整できる
ので成形加工工程を省略することが可能となる。更にド
ーピングされる陰イオンは中性の支持電解質から供給さ
れるが、これは空気中で安定なものが多く1作業性を向
上させ、毒性の点でも有利である。本発明の重合体は溶
媒に不溶であり、赤外吸収スペクトルは、例えば4,4
′−ジ(2−チェニル)ビフェニルの場合は、単量体で
は2位置換チオフェンの吸収(830an−”。
支持電解質の陰イオン、例えばテトラフルオロホウ酸イ
オン、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロリン酸イオン、
ヘキサフルオロヒ素酸イオン、硫酸イオン、硫酸水素イ
オン、トリフルオル酢酸イオン、またはP−トルエンス
ルホン酸イオンがドーピングされた構造で得られ、これ
は半導体としての性質を持っている。特に薄膜状態では
緑色あるいは青緑色を示し、陰イオンを脱ドープするこ
とにより黄色を示す。このようなエレクI−ロクロミッ
ク現象を利用してエレクトロミンク表示素子としての利
用が可能である。重合体の形状は電極面上に膜として形
成され、膜厚は電解槽に通じた電気量により調整できる
ので成形加工工程を省略することが可能となる。更にド
ーピングされる陰イオンは中性の支持電解質から供給さ
れるが、これは空気中で安定なものが多く1作業性を向
上させ、毒性の点でも有利である。本発明の重合体は溶
媒に不溶であり、赤外吸収スペクトルは、例えば4,4
′−ジ(2−チェニル)ビフェニルの場合は、単量体で
は2位置換チオフェンの吸収(830an−”。
750an−1)が観測され、重合体では2,5位置換
チオフェンの吸収(795an−1)が観測された。
チオフェンの吸収(795an−1)が観測された。
次の実施例および参考例により本発明を更に詳細に説明
する。
する。
参考例1
還流冷却器、かきまぜ機、滴下漏斗付50m1三頚フラ
スコにアルゴン雰囲気下で、金属マグネシウム1.50
g (61,7ミリモル)と脱水ジエチルエーテル1
5m1を入れた。滴下漏斗に2−ブロムチオフェン9.
13 g (56,0ミリモル)と脱水ジエチルエーテ
ル25m1を仕込、還流温度を保ちながら滴下した。滴
下後反応を完結させるため30分間還流温度を保持し、
チェニルマグネシウムプロミドを合成した。次に還流冷
却器、かきまぜ機、滴下漏斗付200m1三頚フラスコ
に、アルゴン雰囲気下で1,3−ショートベンゼン8.
40 g (25,2ミリモル)、ジクロロ〔ビス(ジ
フェニルホスフィノ)プロパンツニッケル0.14 g
(0゜25ミリモル)、脱水ジエチルエーテル56m
1を仕込んだ。滴下漏斗に上記のようにして製造したチ
ェニルマグネシウムプロミドを仕込、滴下した。滴下俊
速流下20時間かきまぜ、加水分解後エーテル抽出を行
った。留去後メタノールで再結晶を行ない。
スコにアルゴン雰囲気下で、金属マグネシウム1.50
g (61,7ミリモル)と脱水ジエチルエーテル1
5m1を入れた。滴下漏斗に2−ブロムチオフェン9.
13 g (56,0ミリモル)と脱水ジエチルエーテ
ル25m1を仕込、還流温度を保ちながら滴下した。滴
下後反応を完結させるため30分間還流温度を保持し、
チェニルマグネシウムプロミドを合成した。次に還流冷
却器、かきまぜ機、滴下漏斗付200m1三頚フラスコ
に、アルゴン雰囲気下で1,3−ショートベンゼン8.
40 g (25,2ミリモル)、ジクロロ〔ビス(ジ
フェニルホスフィノ)プロパンツニッケル0.14 g
(0゜25ミリモル)、脱水ジエチルエーテル56m
1を仕込んだ。滴下漏斗に上記のようにして製造したチ
ェニルマグネシウムプロミドを仕込、滴下した。滴下俊
速流下20時間かきまぜ、加水分解後エーテル抽出を行
った。留去後メタノールで再結晶を行ない。
黄色結晶である1、3−ジー(2−チェニル)−ベンゼ
ン1゜78 g (2g、部)が得られた。融点80〜
81’Cであり、元素分析の結果は次の通りであった。
ン1゜78 g (2g、部)が得られた。融点80〜
81’Cであり、元素分析の結果は次の通りであった。
計算値(%) C;69.38. H;4.16.
S;26.46実測値(%) C;68.99.
H;4.13. S;26.51赤外吸収スペク
トルの結果より、2位置換チオフェンを示す850an
″″’、705a++−1の吸収が観測され、核磁気共
鳴スペクトルの結果は次の通りであった。
S;26.46実測値(%) C;68.99.
H;4.13. S;26.51赤外吸収スペク
トルの結果より、2位置換チオフェンを示す850an
″″’、705a++−1の吸収が観測され、核磁気共
鳴スペクトルの結果は次の通りであった。
δ7.08(dd、J(3−4)3.4Hz、J(4−
5)5.2Hz、28.H’)δ7,29(d、2H,
H’):δ7.35(d、2H,H3)δ7.37(d
、J(4’−5’)7.7Hz、18.H”)δ7,5
1(d、2H,H”):δ(S、IH,H”)赤外吸収
スペクトルを第1図に示し、核磁気共鳴スペクトルおよ
び核磁気共鳴スペクトルに対応する水素の位置を示す構
造式をそれぞれ第2,3図に示す。
5)5.2Hz、28.H’)δ7,29(d、2H,
H’):δ7.35(d、2H,H3)δ7.37(d
、J(4’−5’)7.7Hz、18.H”)δ7,5
1(d、2H,H”):δ(S、IH,H”)赤外吸収
スペクトルを第1図に示し、核磁気共鳴スペクトルおよ
び核磁気共鳴スペクトルに対応する水素の位置を示す構
造式をそれぞれ第2,3図に示す。
参考例2
還流冷却器、かきまぜ機5滴下漏斗付三頭フラスコにア
ルゴン雰囲気下で、 4.4’−ジブロムビフェニル7
.53 g (24,1ミリモル)、ジクロロ〔ビス(
ジフェニルホスフィノ)プロパンツニッケル0.15g
(0,28ミリモル)、脱水テトロヒ下フラン110m
1を仕込んだ。滴下漏斗に参考例1において脱水ジエチ
ルエーテルのかわりに脱水テトラヒドロフランで合成し
たチェニルマグネシウムプロミドを仕込、滴下した。滴
下俊速流下で20時間かきまぜ加水分解後エーテル抽出
を行なった。抽出時の不溶物をニトロベンゼンで再結晶
を行ない、黄色結晶である。4)42−ジ(2−チェニ
ル)ジフェニル1.28 g (16,7%)が得られ
た。融点は310〜315℃であり、元素分析の結果は
次の通りであった。
ルゴン雰囲気下で、 4.4’−ジブロムビフェニル7
.53 g (24,1ミリモル)、ジクロロ〔ビス(
ジフェニルホスフィノ)プロパンツニッケル0.15g
(0,28ミリモル)、脱水テトロヒ下フラン110m
1を仕込んだ。滴下漏斗に参考例1において脱水ジエチ
ルエーテルのかわりに脱水テトラヒドロフランで合成し
たチェニルマグネシウムプロミドを仕込、滴下した。滴
下俊速流下で20時間かきまぜ加水分解後エーテル抽出
を行なった。抽出時の不溶物をニトロベンゼンで再結晶
を行ない、黄色結晶である。4)42−ジ(2−チェニ
ル)ジフェニル1.28 g (16,7%)が得られ
た。融点は310〜315℃であり、元素分析の結果は
次の通りであった。
計算値(%) C;75.43. H;4.43.
S;20.14実測値(%) C;75.30.
H;4.16. S;19.98赤外吸収スペク
トルの結果より、2位置換チオフェンを示す830an
−1,705a++−1の吸収が観測された。
S;20.14実測値(%) C;75.30.
H;4.16. S;19.98赤外吸収スペク
トルの結果より、2位置換チオフェンを示す830an
−1,705a++−1の吸収が観測された。
赤外吸収スペクトルを第4図に示す。
実施例1
1■の間隔で2枚の白金板(I X 1=1cJ)を取
付けた電解槽に1,3−ジ(2−チェニル)−ベンゼン
0.243 g(1ミリモル)、テトラフルオロホウ酸
テトラーn−ブチルアンモニウム0.163 g (0
,5ミリモル)、ニトロベンゼン10m1を入れ溶解さ
せた。アルゴンを15分間吹き込んだ後、25℃で電解
重合を行った。電流密度1+aA/ clで2時間30
分重合させると、陽極上にテトラフルオロホウ酸イオン
がドーピングされた黒緑色膜状重合体(3mg)が得ら
れ、体積抵抗値は9.8 X 103Ω・■であった。
付けた電解槽に1,3−ジ(2−チェニル)−ベンゼン
0.243 g(1ミリモル)、テトラフルオロホウ酸
テトラーn−ブチルアンモニウム0.163 g (0
,5ミリモル)、ニトロベンゼン10m1を入れ溶解さ
せた。アルゴンを15分間吹き込んだ後、25℃で電解
重合を行った。電流密度1+aA/ clで2時間30
分重合させると、陽極上にテトラフルオロホウ酸イオン
がドーピングされた黒緑色膜状重合体(3mg)が得ら
れ、体積抵抗値は9.8 X 103Ω・■であった。
赤外吸収スペクトルの結果より、2,5位置換チオフェ
ンを示す780■−1の吸収が観測された。赤外吸収ス
ペクトルを第5図に示す。
ンを示す780■−1の吸収が観測された。赤外吸収ス
ペクトルを第5図に示す。
実施例2
実施例1において、陽極の白金板の代りにガラス電極(
IX2=2an”)を用イテ電流密度1mA/ ci
テ20秒電解重合させるとガラス電極状にテトラフルオ
ロホウ酸イオンがドーピングされた緑色薄膜重合体(3
0nm)が得られた。空気中に数日間放置しても、緑色
のままであった。逆電流を流し電気的脱ドープを行なっ
た結果、黄色の透明膜が得られた。
IX2=2an”)を用イテ電流密度1mA/ ci
テ20秒電解重合させるとガラス電極状にテトラフルオ
ロホウ酸イオンがドーピングされた緑色薄膜重合体(3
0nm)が得られた。空気中に数日間放置しても、緑色
のままであった。逆電流を流し電気的脱ドープを行なっ
た結果、黄色の透明膜が得られた。
実施例3
実施例1において、電流密度1mA/ ciで20秒電
解重合させて、白金板上にテトラフルオロホウ酸イオン
がドーピングされた緑色薄膜重合体(30nm)を得た
。この薄膜を用い電解質溶液としてテトラフルオロホウ
酸、テトラ−n−ブチルアンモニウムの0.033モル
/Qアセトニトリル溶液を用いてサイクリックポルタモ
グラムを測定すると−0,2v←+0.7vvs Ag
/Ag+の走査範囲で電気化学的に活性であり酸化還元
反応が観測され、繰り返しの走査でも膜は安定であった
。−〇、2vvsAg/Ag+で黄色を示し、Ov−+
+0.7vvsAg/Ag+で緑色を示した。
解重合させて、白金板上にテトラフルオロホウ酸イオン
がドーピングされた緑色薄膜重合体(30nm)を得た
。この薄膜を用い電解質溶液としてテトラフルオロホウ
酸、テトラ−n−ブチルアンモニウムの0.033モル
/Qアセトニトリル溶液を用いてサイクリックポルタモ
グラムを測定すると−0,2v←+0.7vvs Ag
/Ag+の走査範囲で電気化学的に活性であり酸化還元
反応が観測され、繰り返しの走査でも膜は安定であった
。−〇、2vvsAg/Ag+で黄色を示し、Ov−+
+0.7vvsAg/Ag+で緑色を示した。
実施例4
1cmの間隔で陽極にガラス電極(I X 2=2a&
)、陰極に白金板(I X 1=1a&)を取り付けた
電解槽に、4゜4′−ジ(2−チェニル)ジフェニル0
.012 g (0,038ミリモル)、テトラフルオ
ロホウ酸テトラーn−ブチルアンモニウム0.038
g (0,12ミリモル)、ニトロベンゼン10m1を
入れ溶解させた。アルゴンを15分間吹込んだ後、40
℃で電解重合を行った。電流密度1mAnalで10秒
電解重合させると、ガラス電極上にテトラフルオロホウ
酸イオンが、ドーピングされた青緑色薄膜重合体が得ら
れた。空気中に放置すると、青→青緑→緑に変化した。
)、陰極に白金板(I X 1=1a&)を取り付けた
電解槽に、4゜4′−ジ(2−チェニル)ジフェニル0
.012 g (0,038ミリモル)、テトラフルオ
ロホウ酸テトラーn−ブチルアンモニウム0.038
g (0,12ミリモル)、ニトロベンゼン10m1を
入れ溶解させた。アルゴンを15分間吹込んだ後、40
℃で電解重合を行った。電流密度1mAnalで10秒
電解重合させると、ガラス電極上にテトラフルオロホウ
酸イオンが、ドーピングされた青緑色薄膜重合体が得ら
れた。空気中に放置すると、青→青緑→緑に変化した。
電気的脱ドープを行なうと黄色の透明膜が得られた。赤
外吸収スペクトルの結果より、2,5位置換チオフェン
を示す795cm−1の吸収が観測された。赤外吸収ス
ペクトルを第6図に示す。
外吸収スペクトルの結果より、2,5位置換チオフェン
を示す795cm−1の吸収が観測された。赤外吸収ス
ペクトルを第6図に示す。
(発明の効果)
本発明の重合体は電解重合により陰イオンがドーピング
された構造で得られ、重合とドーピング過程が実質的に
一段階で行ないうるという長所を有する。酸化第二イン
ジウムをガラス表面に蒸着したガラス電極上に形成した
(V)の薄膜(30nm)は。
された構造で得られ、重合とドーピング過程が実質的に
一段階で行ないうるという長所を有する。酸化第二イン
ジウムをガラス表面に蒸着したガラス電極上に形成した
(V)の薄膜(30nm)は。
従来チオフェン系重合体より成る有機半導体にはなかっ
た緑色を示した。また空気中に放置しても緑色のままで
あり、非常に優れたメモリー効果がある。(VI)、(
■)、(■)に関しても同様の効果が得られた。
た緑色を示した。また空気中に放置しても緑色のままで
あり、非常に優れたメモリー効果がある。(VI)、(
■)、(■)に関しても同様の効果が得られた。
第1図は、1,3−ジ(2−チェニル)ベンゼンの赤外
吸収スペクトル、第2図は、1,3−ジ(2−チェニル
)ベンゼンの核磁気共鳴スペクトル、第3図は、■、3
−ジ(2−チェニル)ベンゼンの核磁気共鳴スペクトル
に対応する水素の位置を示す構造式、第4図は、4゜4
′−ジ(2−チェニル)シフエニンの赤外吸収スペクト
ル、第5図は、ポリ(1,3−ジ(2−チェニル)ベン
ゼン)の赤外吸収スペクトル、第6図は、ポリ(4,’
4’−ジ(2−チェニル)ジフェニル)の赤外吸収スペ
クトルを示す。
吸収スペクトル、第2図は、1,3−ジ(2−チェニル
)ベンゼンの核磁気共鳴スペクトル、第3図は、■、3
−ジ(2−チェニル)ベンゼンの核磁気共鳴スペクトル
に対応する水素の位置を示す構造式、第4図は、4゜4
′−ジ(2−チェニル)シフエニンの赤外吸収スペクト
ル、第5図は、ポリ(1,3−ジ(2−チェニル)ベン
ゼン)の赤外吸収スペクトル、第6図は、ポリ(4,’
4’−ジ(2−チェニル)ジフェニル)の赤外吸収スペ
クトルを示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中のRは1,3−フエニレン基、p,p’−ジフエ
ニレン基または置換基を有してもよい1,3フエニレン
基)で示される繰返し単位から成る重合体。 2)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中のRは1,3−フエニレン基、p,p’−ジフエ
ニレン基または置換基を有してもよい1,3フエニレン
基)で示される化合物を電解重合させることを特徴とす
る。 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中のRは前記と同じ) で示される繰返し単位から成る重合体の製造方法。 3)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中のRは1,3−フエニレン基、p,p’−ジフエ
ニレン基または置換基を有してもよい1,3−フエニレ
ン基)で示される繰返し単位から成る重合体に陰イオン
をドーピングさせて成る有機表示材料。 4)陰イオンがテトラフルオロホウ酸イオン、過塩素酸
イオン、ヘキサフルオロリン酸イオン、ヘキサフルオロ
ヒ素酸イオン、硫酸イオン、硫酸水素イオン、トリフル
オル酢酸イオン、またはP−トルエンスルホン酸イオン
である特許請求の範囲第3項記載の有機表示材料。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30798586A JPS63161024A (ja) | 1986-12-25 | 1986-12-25 | 新規なチオフエン系重合体、その製造方法およびそれを用いた有機表示材料 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30798586A JPS63161024A (ja) | 1986-12-25 | 1986-12-25 | 新規なチオフエン系重合体、その製造方法およびそれを用いた有機表示材料 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63161024A true JPS63161024A (ja) | 1988-07-04 |
JPH0580930B2 JPH0580930B2 (ja) | 1993-11-10 |
Family
ID=17975516
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP30798586A Granted JPS63161024A (ja) | 1986-12-25 | 1986-12-25 | 新規なチオフエン系重合体、その製造方法およびそれを用いた有機表示材料 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63161024A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6046229A (en) * | 1998-01-06 | 2000-04-04 | Industrial Technology Research Institute | Polyaryl antitumor agents |
WO2000036004A1 (en) * | 1998-12-11 | 2000-06-22 | Securency Pty Ltd | Organic salt-containing light-emitting polymer device |
US7871714B2 (en) | 2002-12-25 | 2011-01-18 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Polymer, electroluminescent device, and light emitting device |
WO2016158752A1 (ja) * | 2015-03-27 | 2016-10-06 | 綜研化学株式会社 | 重合体、酸化重合体、重合体組成物、ゲル状重合体組成物及びその用途 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61175035A (ja) * | 1985-01-31 | 1986-08-06 | 株式会社日立製作所 | 樹脂と無機材料との複合体 |
-
1986
- 1986-12-25 JP JP30798586A patent/JPS63161024A/ja active Granted
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61175035A (ja) * | 1985-01-31 | 1986-08-06 | 株式会社日立製作所 | 樹脂と無機材料との複合体 |
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US6046229A (en) * | 1998-01-06 | 2000-04-04 | Industrial Technology Research Institute | Polyaryl antitumor agents |
WO2000036004A1 (en) * | 1998-12-11 | 2000-06-22 | Securency Pty Ltd | Organic salt-containing light-emitting polymer device |
US7871714B2 (en) | 2002-12-25 | 2011-01-18 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Polymer, electroluminescent device, and light emitting device |
WO2016158752A1 (ja) * | 2015-03-27 | 2016-10-06 | 綜研化学株式会社 | 重合体、酸化重合体、重合体組成物、ゲル状重合体組成物及びその用途 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0580930B2 (ja) | 1993-11-10 |
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