JPS6315733A - 金属ベ−ス積層板の製造方法 - Google Patents
金属ベ−ス積層板の製造方法Info
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- JPS6315733A JPS6315733A JP61158939A JP15893986A JPS6315733A JP S6315733 A JPS6315733 A JP S6315733A JP 61158939 A JP61158939 A JP 61158939A JP 15893986 A JP15893986 A JP 15893986A JP S6315733 A JPS6315733 A JP S6315733A
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Landscapes
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- Insulated Metal Substrates For Printed Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業−1−の利用分野〕
本発明は産業機器、電子機器などの各種産業用のプリン
ト基板に用いられる金属ベース積層板の製造方法に関す
るものである。
ト基板に用いられる金属ベース積層板の製造方法に関す
るものである。
従来の金属ベース積層板は、接着絶縁層を金属板の表面
に形成する際、接着絶縁層となる樹脂として加熱硬化形
樹脂を用い、へいでベースとなる金属板と金属箔とを薄
い接着絶縁層で接着して製造している(例λば電子材料
1981年7月号、I゛45、特開昭58i40244
)。
に形成する際、接着絶縁層となる樹脂として加熱硬化形
樹脂を用い、へいでベースとなる金属板と金属箔とを薄
い接着絶縁層で接着して製造している(例λば電子材料
1981年7月号、I゛45、特開昭58i40244
)。
第2図は従来の金属ベース積層++2の製造方法を示す
系統191であり、(A)〜(r;)Ij各丁ネj、l
を示す。図において、(1)はベースとなる金属十反、
(2)l;lこの金属板(1)の表面に塗布された絶縁
樹脂、(:3)はこの絶縁樹脂(2)を塗布する「j−
ルー]−夕、(4)は真空加熱装置、(5)は、#IV
MX樹脂(2)により形成される接着絶縁層、(〔i)
はこの接着絶ね(層(5)に接着されろ金属箔、(7)
は加熱プレス装置、(8)は完成した金属ベース15層
板である。
系統191であり、(A)〜(r;)Ij各丁ネj、l
を示す。図において、(1)はベースとなる金属十反、
(2)l;lこの金属板(1)の表面に塗布された絶縁
樹脂、(:3)はこの絶縁樹脂(2)を塗布する「j−
ルー]−夕、(4)は真空加熱装置、(5)は、#IV
MX樹脂(2)により形成される接着絶縁層、(〔i)
はこの接着絶ね(層(5)に接着されろ金属箔、(7)
は加熱プレス装置、(8)は完成した金属ベース15層
板である。
従来の金属ベース積層板の製造方法は、まず(^)に示
すよ一′)Lこベースとなる金属板(1)を準備し、次
いで(1’()に示すように金属板(1)の表面にrl
−ルコータ(3)により熱硬化型の絶縁樹脂(ン)些塗
布し、(C)に示す真空加熱装置(4)において真空加
熱し、絶縁樹脂(2)を適度の接着強度を有する′XJ
、jハvシコプリプレグ化して、(D)に示すように接
着絶縁層(5)を形成し、次いで(「()に示すように
金属箔(6)を貼り合わせ、(F)に示す加熱プレス装
置(7)により加熱プIノスして接着絶縁層(5)を硬
化させ、(G)に示す金属ベース積層板(8)を製造す
る。
すよ一′)Lこベースとなる金属板(1)を準備し、次
いで(1’()に示すように金属板(1)の表面にrl
−ルコータ(3)により熱硬化型の絶縁樹脂(ン)些塗
布し、(C)に示す真空加熱装置(4)において真空加
熱し、絶縁樹脂(2)を適度の接着強度を有する′XJ
、jハvシコプリプレグ化して、(D)に示すように接
着絶縁層(5)を形成し、次いで(「()に示すように
金属箔(6)を貼り合わせ、(F)に示す加熱プレス装
置(7)により加熱プIノスして接着絶縁層(5)を硬
化させ、(G)に示す金属ベース積層板(8)を製造す
る。
しかしかかる従来法では、ベースとなる金属板(1)の
表面に金属箔(6)を貼り合わせる際、接着絶縁層(5
)と金属箔(6)の界面にボイドが発生しやすくなるこ
とや、加熱硬化後の接着絶縁層(5)にピンホールが発
生しやすいことなどの欠点がある。
表面に金属箔(6)を貼り合わせる際、接着絶縁層(5
)と金属箔(6)の界面にボイドが発生しやすくなるこ
とや、加熱硬化後の接着絶縁層(5)にピンホールが発
生しやすいことなどの欠点がある。
このため、金属ベース積層板(8)の耐電性および耐熱
性などを低下させる原因となっていた。
性などを低下させる原因となっていた。
本発明はかかる従来法の問題点を解決するためになされ
たもので、膜厚の均一さが得られ、かつピンボールなど
の発生確率が極めて低下し、品質が安定した金属ベース
積層板を製造することができる金属ベース積層板の製造
方法を提供することを目的とするものである。
たもので、膜厚の均一さが得られ、かつピンボールなど
の発生確率が極めて低下し、品質が安定した金属ベース
積層板を製造することができる金属ベース積層板の製造
方法を提供することを目的とするものである。
この発明の金属ベース積層板の製造方法は、ベースとな
る金属板の表面に接着絶縁層を介して金属箔を配設一体
化してなる金属ベース積層板の製造方法において、接着
絶縁層となる紫外線硬化形の絶縁樹脂を紫外線によりプ
リプレグ化した接着絶縁層を形成し、この接着絶縁層を
介して金属板と金属箔とを貼り合わせた後、真空中で加
熱硬化させるものである。
る金属板の表面に接着絶縁層を介して金属箔を配設一体
化してなる金属ベース積層板の製造方法において、接着
絶縁層となる紫外線硬化形の絶縁樹脂を紫外線によりプ
リプレグ化した接着絶縁層を形成し、この接着絶縁層を
介して金属板と金属箔とを貼り合わせた後、真空中で加
熱硬化させるものである。
本発明の金属ベース積層板の製造方法においては、ベー
スとなる金属板または金属箔の表面に、紫外線硬化形樹
脂を塗布して、後工程の金属箔との接着の際の接着絶縁
層となる紫外線硬化形樹脂を紫外線照射により適度な接
着強度を有する程度にプリプレグ化し、この接着絶縁層
を介してベースとなる金属板と金属箔とを貼り合わせた
後、真空中で加熱硬化することにより、金属ベース積層
板を製造する。
スとなる金属板または金属箔の表面に、紫外線硬化形樹
脂を塗布して、後工程の金属箔との接着の際の接着絶縁
層となる紫外線硬化形樹脂を紫外線照射により適度な接
着強度を有する程度にプリプレグ化し、この接着絶縁層
を介してベースとなる金属板と金属箔とを貼り合わせた
後、真空中で加熱硬化することにより、金属ベース積層
板を製造する。
以下、本発明を実施例について説明する。
第1図は本発明の一実施例による金属ベース積−3=
層板の製造方法を示す系統図であり、第2図と同−符吋
は同一または相当部分を示す。図において、接着絶縁M
(5)となる絶縁樹脂(2)は紫外線硬化形樹脂である
。(9)は紫外線照射装置、(10)は真空加熱硬化装
置である。
は同一または相当部分を示す。図において、接着絶縁M
(5)となる絶縁樹脂(2)は紫外線硬化形樹脂である
。(9)は紫外線照射装置、(10)は真空加熱硬化装
置である。
製造方法は、第1図(A)に示すベースとなる金属板(
1)の表面に、(8)に示すように接着絶縁層(5)と
なる絶縁樹脂(2)として、紫外線硬化形樹脂をロール
コータ(3)により1回塗布した後、紫外線照射装置(
9)により紫外線を必要時間照射して、(D)に示すプ
リプレグ化した接着絶縁層(5)を形成し、次いで(I
E)に示すように金属板(1)と金属箔(6)を貼り合
わせた後、(F)に示す真空加熱硬化装置(10)で加
熱硬化させて、(G)に示す金属ベース積層板(8)を
形成する。
1)の表面に、(8)に示すように接着絶縁層(5)と
なる絶縁樹脂(2)として、紫外線硬化形樹脂をロール
コータ(3)により1回塗布した後、紫外線照射装置(
9)により紫外線を必要時間照射して、(D)に示すプ
リプレグ化した接着絶縁層(5)を形成し、次いで(I
E)に示すように金属板(1)と金属箔(6)を貼り合
わせた後、(F)に示す真空加熱硬化装置(10)で加
熱硬化させて、(G)に示す金属ベース積層板(8)を
形成する。
本発明に用いるベースとなる金属板(1)は、J’Xぎ
が0 、0 +(〜5mmのアルミニウム板、ステンレ
ス鋼板、真鋳板、鉄板などの一般に使用される金属板で
あれば良く、中休、合金板および表面処理した金属板な
どが制限なく使用できる。絶縁樹脂(2)=4− としては、公知の紫外線硬化ポリエステル樹脂を混合し
た熱硬化エポキシ樹脂などの公知の紫外線硬化形の樹脂
が制限なしに使用できる。また金属箔(6)としては、
銅箔、アルミニウム箔、ニッケル箔、真鋳箔など、用途
に応じて任意のものが使用される。
が0 、0 +(〜5mmのアルミニウム板、ステンレ
ス鋼板、真鋳板、鉄板などの一般に使用される金属板で
あれば良く、中休、合金板および表面処理した金属板な
どが制限なく使用できる。絶縁樹脂(2)=4− としては、公知の紫外線硬化ポリエステル樹脂を混合し
た熱硬化エポキシ樹脂などの公知の紫外線硬化形の樹脂
が制限なしに使用できる。また金属箔(6)としては、
銅箔、アルミニウム箔、ニッケル箔、真鋳箔など、用途
に応じて任意のものが使用される。
接着絶縁層(5)の形成は、ベースとなる金属板(1)
の表面または金属箔(6)の表面のいずれでもよいが、
作業性などの点からベースとなる金属板(1)の表面に
形成する方が良い。接着絶縁層(5)を介してベースと
なる金属板(1)と金属箔(6)とを貼り合わせた後、
真空中で加熱硬化させる際の真空度は、接着絶縁層(5
)と金属箔(6)の界面でボイドが発生しない程度で良
く、真空度100mu+IIg以下が好ましい。また加
熱硬化時の加熱温度は、貼り合わせる時間に依存するが
、好適な温度としては面〜200℃である。
の表面または金属箔(6)の表面のいずれでもよいが、
作業性などの点からベースとなる金属板(1)の表面に
形成する方が良い。接着絶縁層(5)を介してベースと
なる金属板(1)と金属箔(6)とを貼り合わせた後、
真空中で加熱硬化させる際の真空度は、接着絶縁層(5
)と金属箔(6)の界面でボイドが発生しない程度で良
く、真空度100mu+IIg以下が好ましい。また加
熱硬化時の加熱温度は、貼り合わせる時間に依存するが
、好適な温度としては面〜200℃である。
比較例1
第1図において、ベースとなる金属板(1)として厚さ
トIのアルミニウム板上に、接着絶縁層(5)どなる絶
縁樹脂(ン)として、紫外線硬化ポリエステル樹1e7
を混合しへ熱硬化エポキシ樹脂を用いて、ロール下1−
タ(:3)によりj1メさ50μmに塗布した後、紫外
線照射装置((])によl)紫外線ランプを3秒間照射
し、で、ベースとなる金属板(1)の表面にプリゾIノ
ゲ化した接着絶縁層(5)を形成する。次いで金属?+
1(lj’)とし、τノ’lJ 35 μmの銅2高を
貼り合わせ、第2図の加熱プ1ノス装置(7)により1
50°C150kH/c、m′で;3時間、加熱プ1ノ
スして金属ベース積層板(8)を得た。表1に′41拳
られた金属ベース稍層板の特性(金属箔を除いたJlf
き、耐電圧、表面抵抗、半[目虐、1熱性)を示す。
トIのアルミニウム板上に、接着絶縁層(5)どなる絶
縁樹脂(ン)として、紫外線硬化ポリエステル樹1e7
を混合しへ熱硬化エポキシ樹脂を用いて、ロール下1−
タ(:3)によりj1メさ50μmに塗布した後、紫外
線照射装置((])によl)紫外線ランプを3秒間照射
し、で、ベースとなる金属板(1)の表面にプリゾIノ
ゲ化した接着絶縁層(5)を形成する。次いで金属?+
1(lj’)とし、τノ’lJ 35 μmの銅2高を
貼り合わせ、第2図の加熱プ1ノス装置(7)により1
50°C150kH/c、m′で;3時間、加熱プ1ノ
スして金属ベース積層板(8)を得た。表1に′41拳
られた金属ベース稍層板の特性(金属箔を除いたJlf
き、耐電圧、表面抵抗、半[目虐、1熱性)を示す。
比較例2
第1図において、ベースとなる金属板(1)としてJl
fさ1.mmのステンレス板上に、接着絶縁層(5)と
なる絶縁樹脂(2)として、紫外線硬化ポリエステル松
脂を混合した熱硬化エポキシ樹脂を用いて、ロールコー
タ(3)により厚さ50pmに塗布した後、紫外線照射
装置(9)により紫外線ランプを5秒間照射して、ベー
スとなる金属板(1)の表面にプリプレグ化した接着絶
縁層(5)を形成する。次いで金属箔(6)として厚さ
35μmの銅21イを貼り合わせ、第2図の加熱プレス
装置(7)により1;(5°(′、、](lf1kg/
c■2で3.5時間加熱プレスして金属ベース積層板(
8)を得た。表1に得られた金属ベースfI!1層板の
特性を示す。
fさ1.mmのステンレス板上に、接着絶縁層(5)と
なる絶縁樹脂(2)として、紫外線硬化ポリエステル松
脂を混合した熱硬化エポキシ樹脂を用いて、ロールコー
タ(3)により厚さ50pmに塗布した後、紫外線照射
装置(9)により紫外線ランプを5秒間照射して、ベー
スとなる金属板(1)の表面にプリプレグ化した接着絶
縁層(5)を形成する。次いで金属箔(6)として厚さ
35μmの銅21イを貼り合わせ、第2図の加熱プレス
装置(7)により1;(5°(′、、](lf1kg/
c■2で3.5時間加熱プレスして金属ベース積層板(
8)を得た。表1に得られた金属ベースfI!1層板の
特性を示す。
比較例:3
第2図に、1:9いて、ベースとなる金属板(1)とし
て厚さ1mmのアルミニウム板1−に、接着絶縁層(5
)となる絶縁樹脂(2)として溶剤型の熱硬化エポキシ
樹脂を用いて、「1−ルコータ(3)により塗布した後
、ベースとなる金属板(1)の表面にJlfさ50μI
nの接着絶縁層(5)を形成する。次いで金属箔(6)
として厚さ;35μmの銅箔に貼り合わせ、加熱プ1ノ
ス装置(7)により150℃、50kiH/cm27’
3時間加熱ブ1ノスして金属ベース粘層板(8)を得
た。表1に得C。
て厚さ1mmのアルミニウム板1−に、接着絶縁層(5
)となる絶縁樹脂(2)として溶剤型の熱硬化エポキシ
樹脂を用いて、「1−ルコータ(3)により塗布した後
、ベースとなる金属板(1)の表面にJlfさ50μI
nの接着絶縁層(5)を形成する。次いで金属箔(6)
として厚さ;35μmの銅箔に貼り合わせ、加熱プ1ノ
ス装置(7)により150℃、50kiH/cm27’
3時間加熱ブ1ノスして金属ベース粘層板(8)を得
た。表1に得C。
れへ金属ベース1N層板の特性か示す。
比較例4
第2図において、ベースとなる金属板(1)どして厚さ
1.mmのアルミニウム板F−に、接着絶縁層(5)と
なる絶縁樹脂(2)として溶剤型の熱硬化ポリエステル
樹脂を用いて、ロール下1−タ(3)により塗布した後
、ベースとなる金属板(1)の表面に厚さ11007z
の接着絶縁層(5)を形成する。次いで金属1’i’f
(Fi)として厚さ35μmの銅箔を貼り合わせ、加熱
プ1ノス装首(7)により150°C,70kg/cm
2で3時間加熱プレスして金属ベース積層板(8)を得
た。表1に得られた金属ベース積層板の特性を示す。
1.mmのアルミニウム板F−に、接着絶縁層(5)と
なる絶縁樹脂(2)として溶剤型の熱硬化ポリエステル
樹脂を用いて、ロール下1−タ(3)により塗布した後
、ベースとなる金属板(1)の表面に厚さ11007z
の接着絶縁層(5)を形成する。次いで金属1’i’f
(Fi)として厚さ35μmの銅箔を貼り合わせ、加熱
プ1ノス装首(7)により150°C,70kg/cm
2で3時間加熱プレスして金属ベース積層板(8)を得
た。表1に得られた金属ベース積層板の特性を示す。
実施例1
第1図において、ベースとなる金属板(1)として厚さ
1mmのアルミニウノ、扱IJこ、接着絶縁層(5)と
なる絶縁樹脂(2)どして、紫外線硬化ポリエステル樹
脂を混合した熱硬化エポキシ樹脂を用いて、[J−ルT
1−タに3)により厚さ50μ+nに塗布した後、紫外
線照射装置(9)により紫外線ランプを3秒間照射し、
ベースとなる金属板(])の表面にプリプレグ化した接
着絶縁層(5)を形成する。次いで金属箔(6)として
JI7さ351J[11の銅箔を貼り合わせた後、真空
加熱硬化装置(lO)により20mm11gの真空中で
150°Cで2時間保持し、加熱硬化させて金属ベース
積層板(8)を得た。表1に得られた金属ベース積層板
の特性(金属箔を除いた厚さ、 44電圧、表面抵抗、
早目]耐熱性)を示す。
1mmのアルミニウノ、扱IJこ、接着絶縁層(5)と
なる絶縁樹脂(2)どして、紫外線硬化ポリエステル樹
脂を混合した熱硬化エポキシ樹脂を用いて、[J−ルT
1−タに3)により厚さ50μ+nに塗布した後、紫外
線照射装置(9)により紫外線ランプを3秒間照射し、
ベースとなる金属板(])の表面にプリプレグ化した接
着絶縁層(5)を形成する。次いで金属箔(6)として
JI7さ351J[11の銅箔を貼り合わせた後、真空
加熱硬化装置(lO)により20mm11gの真空中で
150°Cで2時間保持し、加熱硬化させて金属ベース
積層板(8)を得た。表1に得られた金属ベース積層板
の特性(金属箔を除いた厚さ、 44電圧、表面抵抗、
早目]耐熱性)を示す。
実施例2
第1図において、ベースとなる金属板(1)として厚さ
1.mmのステンレス板上に、接着絶縁層(5)となる
絶縁樹脂(2)として、紫外線硬化ポリエステル樹脂を
混合した熱硬化エポキシ樹脂を用いて、[j−ルコータ
(3)により厚さ100μmに塗布した後、紫外線照射
装置(9)により紫外線ランプを5秒照射し、ベースと
なる金属板(1)の表面にプリプレグ化した接着絶縁層
(5)を形成する。次いで金属箔(6)として厚さ35
μmの銅箔を貼り合わせた後、真空加熱硬化装@(10
)により30mm1l#にの真空中で150°Cで3時
間保持し、加熱硬化させて金属ベース積層板(8)を得
た。表1に得られた金属ベース積層板の特性を示す。
1.mmのステンレス板上に、接着絶縁層(5)となる
絶縁樹脂(2)として、紫外線硬化ポリエステル樹脂を
混合した熱硬化エポキシ樹脂を用いて、[j−ルコータ
(3)により厚さ100μmに塗布した後、紫外線照射
装置(9)により紫外線ランプを5秒照射し、ベースと
なる金属板(1)の表面にプリプレグ化した接着絶縁層
(5)を形成する。次いで金属箔(6)として厚さ35
μmの銅箔を貼り合わせた後、真空加熱硬化装@(10
)により30mm1l#にの真空中で150°Cで3時
間保持し、加熱硬化させて金属ベース積層板(8)を得
た。表1に得られた金属ベース積層板の特性を示す。
表1に示した結果から、この発明により製造した金属ベ
ース積層板は品質の安定したものであることがわかる。
ース積層板は品質の安定したものであることがわかる。
以上説明したように、この発明によれば、ベースとなる
金属板の表面に、紫外線硬化形樹脂を塗布して、後工程
の金属箔との接着の際の接着絶縁層となる紫外線硬化形
樹脂を紫外線照射により、適度な接着強度を有する程度
にプリプレグ化し、ベースとなる金属板と金属箔とを貼
り合わせた後、真空中で加熱硬化することにより、金属
板の表面に形成した接着絶縁層と金属箔との界面にボイ
ドやピンホールなどの発生がなく、そのため耐電圧およ
び耐熱性が向トし、品質の安定した金属ベース積層板を
製造することができる。
金属板の表面に、紫外線硬化形樹脂を塗布して、後工程
の金属箔との接着の際の接着絶縁層となる紫外線硬化形
樹脂を紫外線照射により、適度な接着強度を有する程度
にプリプレグ化し、ベースとなる金属板と金属箔とを貼
り合わせた後、真空中で加熱硬化することにより、金属
板の表面に形成した接着絶縁層と金属箔との界面にボイ
ドやピンホールなどの発生がなく、そのため耐電圧およ
び耐熱性が向トし、品質の安定した金属ベース積層板を
製造することができる。
第1図は本発明の一実施例による金属ベース積層板の製
造方法を示す系統図、第2図は従来法による金属ベース
積層板の製造方法を示す系統図である。 各図中、同一符号は同一または相当部分を示し、(])
は金属板、(2)は絶縁樹脂、(3)はロールコータ、
(5)は接着絶縁層、(6)は金属箔、(8)は金属ベ
ース積層板、(9)は紫外線照射装置、(10)は真空
加熱硬化装置である。
造方法を示す系統図、第2図は従来法による金属ベース
積層板の製造方法を示す系統図である。 各図中、同一符号は同一または相当部分を示し、(])
は金属板、(2)は絶縁樹脂、(3)はロールコータ、
(5)は接着絶縁層、(6)は金属箔、(8)は金属ベ
ース積層板、(9)は紫外線照射装置、(10)は真空
加熱硬化装置である。
Claims (1)
- (1)ベースとなる金属板の表面に接着絶縁層を介して
金属箔を配設一体化してなる金属ベース積層板の製造方
法において、接着絶縁層となる紫外線硬化形の絶縁樹脂
を紫外線によりプリプレグ化した接着絶縁層を形成し、
この接着絶縁層を介して金属板と金属箔とを貼り合わせ
た後、真空中で加熱硬化させることを特徴とする金属ベ
ース積層板の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61158939A JPS6315733A (ja) | 1986-07-07 | 1986-07-07 | 金属ベ−ス積層板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61158939A JPS6315733A (ja) | 1986-07-07 | 1986-07-07 | 金属ベ−ス積層板の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6315733A true JPS6315733A (ja) | 1988-01-22 |
Family
ID=15682645
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61158939A Pending JPS6315733A (ja) | 1986-07-07 | 1986-07-07 | 金属ベ−ス積層板の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6315733A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0381900A2 (en) * | 1989-02-06 | 1990-08-16 | Somar Corporation | Method of forming electrically conducting layer |
JP2013098270A (ja) * | 2011-10-31 | 2013-05-20 | Denki Kagaku Kogyo Kk | 基板、半導体装置及びその製造方法 |
-
1986
- 1986-07-07 JP JP61158939A patent/JPS6315733A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0381900A2 (en) * | 1989-02-06 | 1990-08-16 | Somar Corporation | Method of forming electrically conducting layer |
JP2013098270A (ja) * | 2011-10-31 | 2013-05-20 | Denki Kagaku Kogyo Kk | 基板、半導体装置及びその製造方法 |
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