JPS63156518A - 脱臭装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、化学工場において化学プラントから排出さ
れる悪臭成分を含むガスを脱臭処理する装置に関するも
のである。

〔従来技術〕

従来、脱臭装置としては、第６図に示すように、被処理
ガス入口を肩する酸洗浄塔２のガス出口にアルカリ洗浄
塔６のガス入口全凄続し、そのアルカリ洗浄塔５のガス
出口に接続された排気用ファンＦ１の吐出口に、第１吸
着塔９および第２吸着塔１０のガス入口を、それぞれダ
ンパ１１　、１’　２を介して接続し、各吸着塔９．１
０のガス出口をそれぞれダンパ１３，１４を介してガス
放出管１５に接続した脱臭装置が知られている。

そして前記排気用ファンＦ１により吸引される被処理ガ
スは、まずゑ洗浄塔２内で酸の水溶液により洗浄されて
、酸と反応する臭気成分が除去され、次いで前記被処理
ガスがアルカリ洗浄塔６内でアルカリの水溶液により洗
浄されてアルカリと反応する臭気成分が除去される。

続いてアルカリ洗浄塔５を通過した被処理ガスは第１吸
着塔９に送られ、その第１吸着塔９内の吸着剤に、被処
理ガスに残っている悪臭成分が吸着されると共に、前記
第１吸着塔９を通過した処理済ガスがガス放出管１５か
ら大気中に放出され、前記第１吸着塔９における吸着剤
が飽和状態になるまで吸着し念とき、ダンパ全切換えて
被処理ガス′ｆ：第２吸着塔１０に供給している。

〔発明が解決しようとする問題点〕

しかるに、前記従来の脱臭装置の場合は、生産設備から
ガスを排気用ファンＦ１により常時吸引しているので、
原料ガスが無駄に放出されると共に、生産設備における
プロセスの生成に悪影響を及ぼすという問題がある。

〔発明の目的、構成〕

この発明は前述の問題を有利に解決できる脱臭装置を提
供することを目的とするものであって、この発明の要旨
とするところは、生産設備の被処理ガス排出管路１が酸
洗浄塔２およびアルカリ洗浄塔５を介して排気用ファン
Ｆ１の吸引口に接続され、その排気用ファンＦ１の吐出
口は吸着塔のガス入口にガス供給管路４を介して接続さ
れ、吸着塔のガス出口はガス排出管路６を介して循環用
ファンＦ２の吸引口に接続され、その循環用ファンＦ２
の吐出口は前記ガス供給管路４に接続され、前記被処理
ガス排出管路ＩＫ、圧力検出制御器ＰＩＣ−１とその被
処理ガス排出管路１内のガス圧が低下したときその圧力
検出制御器ＰＩＣ−１の信号によジ開放度が縮小される
調節弁Ｖ１とが設けられ、前記ガス排出管路６と排気用
ファンＦ１の吸引口とｔ　ｙＨ続する連絡管路７に、前
記被処理ガス排出管路１内のガス圧が低下したとき前記
圧力検出制御器ＰＩＣ−１の信号により開放度が拡大さ
れる絞り弁Ｖ２が設けられ、前記ガス排出管路乙に圧力
検出制御器ＰＩＣ−２が設けられると共にガス放出管路
８が接続され、そのガス放出管路８には、ガス排出管路
６内のガス圧が設定値よりも高くなったとき前記圧力検
出制御器ＰＩＣ−２の信号により開放される放出弁Ｖ３
が設けられていることを特徴とする脱臭装置にある。

〔実施例〕

次にこの発明全図示の例によって詳細に説明する。

第１図はこの発明の一実施例に係る脱臭装置金示すもの
であって、化学工場における化学プラントの被処理ガス
排出管路１が酸洗浄塔２のガス入口に接続され、その酸
洗浄塔２のガス出口は管路１６全介してアルカリ洗浄塔
６のガス入口に接続され、かつそのアルカリ洗浄塔ろの
ガス出口は管路１７を介してミストエリミネータ１８の
ガス入口番で接続され、そのミストエリミネータ１８の
ガス出口は管路１９を介して排気用ファンＦ１のガス入
口に接続され、さらにその排気用ファンＦ１のガス出口
はガス供給管路４を介して第１吸着塔９および第２吸着
塔１０のガス入口に接続され、各吸着塔９．１０内に、
活性炭からなる吸着剤層が設けられている。

第１吸着塔９および第２吸着塔１０に対するガス供給管
路４は分岐され、その分岐されたガス供給管路４は接続
管路２０により接続され、その接続管路２０は管路２１
によりガスクーラ５のガス出口に接続され、前記分岐し
たガス供給管路４には接続管路２０の接続部よりも上流
においてダンパＤ１　、Ｄ２が設けられ、さらに接続管
路２０には管路２１とガス供給管路４との間においてダ
ンパＤ５．Ｄ４が設けられている。

前記第１吸着塔９および第２吸着塔１０のガス出口とガ
スクーラ５のガス入口とは冷却用管路２２を介して接続
され、その冷却用管路２２における各分岐部分にダン、
ｅＤ５．Ｄ６が設けられ、かつガスクーラ５のガス出口
にガス排出管路６の一端部が接続されると共に、そのガ
ス排出管路乙の他端部は循環用ファンＦ２の吸引口に接
続され、さらに前記冷却用管路２２における各分岐部分
とガス排出管路６とはダンパＤ７．Ｄ８’！に！する管
路２５　、２４ｔ−介して接続され、ま几ガス排出管路
６におけるガスクーラ５側にはダンパＤ９が設けられて
いる。

前記循環用ファンＦ２の吐出口はガス供給管路４に接続
され、かつ前記ミストエリミネータ１８および排気用フ
ァンＦ１の間の管路１９とガス排出管路６とは絞、り弁
Ｖ２ｅ有する連絡管路７を介して接続され、前記被処理
ガス排出管路１に上流側から下流側に向かって異常圧力
検出警報スイッチＰＡＳ　、圧力検出制御器ＰＩＣ−１
および調節弁ｖ１が順次膜けられ、被処理ガス排出管路
１内のガス圧が設定値よりも低くなると、圧力検出制御
器ＰＩＣ−１の信号により、調節弁Ｖ１の開放度が小さ
くなるように調整されると共に、絞り弁ｖ２の開放度が
大きくなるように調節される。

被処理ガス排出管路１における異常圧力検出警報スイッ
チＰＡＳおよび圧力検出制御器ＰＩＣ−１の接続部の間
の部分に、異常時放出管路２５の一端部が接続され、そ
の異常時放出管路２５の他端部はシールポット２６の水
中に配置され、かつそのシールポット２６の上部に接続
されｔ放出管２７にはフレームアレスタ（逆火防止装置
）２８が設けられ、さらに前記異常時放出管路２５には
、被処理ガス排出管路１内のガス圧が異常に高くなった
とき、前記異常圧力検出警報スイッチＰＡＳの信号によ
り開放される電磁開閉弁ｖ４が設けられている。

前記ガス排出管路６における連絡管路７の接ゼと部と循
環用ファンＦ２との闇の部分に、圧力検出スイッチＰＳ
および圧力検出制御器ＰＩＣ−２が設けられると共に、
ガス放出管路８の一端部が接続され、そのガス放出管路
８には、ガス排出管路６内のガス圧が設定値よりも高く
なつ念とき、圧力検出スイッチＰＳの信号により開放さ
れるダンノξＤ１０と、ガス排出管路６内のガス圧に比
例して圧力検出制御器ＰＩＣ−２の信号により開放度が
大きくなるように調節される放出弁ｖ５と、フレームア
レスタ２９とが設けられている。

前記第１吸着塔９におけるガス入口側に第１コンデンサ
５０の上部が管路を介して接続されると共に、第２吸着
塔１０におけるガス入口側に第２コンデンサ５１の上部
が管路を介して接続され、かつ第１コンデンサ５０およ
び第２コンデンサ５１の下部とガスクーラ５のドレン排
出口とはそれぞれドレン管５２に接続され、さらに第１
吸着塔９および第２吸着塔１０の下端部はスチームトラ
ップＳＴを肩する管路によりドレン管５２に接続され、
さらに第１コンデンサ５０．第２コンデンサ５１、ガス
クーラ５およびミストエリミネータ１８の下部に水戻り
管路′５５が接続されている。

酸供給源５４は’ｉｎ開閉弁ＶＦＩ介して酸洗浄塔２の
下部の酸性液貯槽５５に接続され、かつ酸性液循環用ポ
ンプＰ１の吸込管は酸性液貯槽５５に接続され、前記酸
性液循環用ポンプＰ１の吐出管は酸洗浄塔２における酸
性液散布用ノズル６６に接続され、さらに前記吐出管に
ＰＨ検出計５７が接続され、ＰＨの値が設定値よりも高
くなつｔとき、前記ＰＨ検出計５７からの信号により電
磁開閉弁ｖ５が開放されて、酸供給源５４から酸性液貯
槽！＋５に酸が供給される。

アルカリ供給源５８は電磁開閉弁Ｖ６’を介してアルカ
リ洗浄塔５の下部のアルカリ性液貯槽５９に接続され、
かつアルカリ性液循環用ポンプＰ２の吸込管はアルカリ
性液貯槽５９に接続され、前記アルカリ性液循環用ポン
プＰ２の吐出管はアルカリ洗浄塔６におけるアルカリ性
液散布ノズル４０に接続され、さらに吐出管にＰＥ（検
出計４１が接続され、ＰＨの値が設定値よりも低くなつ
ｔとき、ＰＨ検出計４１からの信号により電磁開閉弁ｖ
６が開放されて、アルカリ供給源５８からアルカリ性液
貯槽ろ９にアルカリが供給される。また酸洗浄塔２の底
部に開閉弁ｖ７を有する排敵管４２が接続されると共に
、アルカリ洗浄塔ろの底部に開閉弁ＶＥＩＷする排液管
４５が接続されている。

前記ガス排出管路６における連絡管路７の接続部とガス
放出管路８の接続部との間の部分に、窒素ガス共給源４
４に接続された窒素ガス供給管路４５が接続され、その
窒素ガス供給管路４５には前記ガス排出管路６内の圧力
が設定値以下になったとき圧力検出スイッチＰＳの信号
により開放される電磁開閉弁Ｖ９が設けられ、循環用フ
ァンＦ２全始動するとき、ガス排出管路６内に窒素ガス
を供給してガス排出管路６内を昇圧させる。

水供給源４６に接続された水供給管路４７は、前記ガス
クーラ５．ミストエリミネータ１８．第１コンデンサ５
０．第２コンデンサ５１．酸性液貯槽５５およびアルカ
ＩＪ　注液貯槽３９に対しそれぞれ電磁開閉弁を介して
接続され、かつ蒸気供給源４８に接続された蒸気供給管
４９は、電磁開閉弁Ｖ１０を介して第１吸着塔９の下部
に接続されると共に電磁開閉弁Ｖ１１を介して第２吸着
塔１０の下部に接続されている。

第１図に示す脱臭装置において、ダンパξＤＩ。

Ｄ５．Ｄ９を開放すると共に他のダンパを閉じ几状態で
、排気用ファンＦｌ、循環用ファンＦ２゜酸性液循環用
ポンプＰ１およびアルカ’Ｊ　注液循環用ポンプＰ２Ｔ
ｈ運転すると、化学工場の化学プラントから排出される
悪臭成分金倉む被処理ガスは排気用ファンＦ１により吸
引されて被処理ガス管路１の調節弁Ｖ１ｅ通って酸洗浄
塔２に導かれ、ここで酸性液により洗浄されて、被処理
ガス中の酸と反応する臭気成分例えばアンモニア、アミ
ン類等の塩基性成分が除去され、次いで酸洗浄塔２から
出た被処理ガスはアルカリ洗浄塔５に導かれ、ここでア
ルカリ性液により洗浄されて、被処理ガス中のアルカリ
と反応する臭気成分例えば硫化水素その他の有機酸類等
の酸性物質が除去される。

アルカリ洗浄塔５から排出された被処理ガスはミストエ
リミネータ１８を通って排気用ファンＦ１により第１吸
着塔９に送られ、その第１吸着塔９内で被処理ガスに残
っている爆発性悪臭ガス成分あるｂはその他の悪臭ガス
成分が吸着剤に吸着され、第１吸着塔９から排出された
ガスは、冷却用管路２２．ガスクーラ５およびガス排出
管路６を通って循環用ファンＦｌ：より吸引され、その
循環用ファンＦ２から吐出されたガスは排気用ファンＦ
１から吐出されたガスと合流して前記第１吸着塔９に供
給され、第２図に示すように、ガスは第１吸着塔９とガ
スクーラ５と循環用ファンＦ２とを循環する。この場合
、循環用ファンＦ２から吐出されるガス量は排気用ファ
ンＦ１から吐出されるガス量の５〜６倍に設定される。

ガスの循環路に対して排気用ファンＦ１から被処理ガス
が供給されるので、循環路のガス圧が上昇していくが、
ガス排出管路６内のガス圧が一定以上になると、圧力検
出制御器ＰＩＣ−２および圧力検出スイッチＰＳが作動
して、その圧力検出制御器Ｐ　Ｉ　Ｃ−２の信号により
ダンパＤ１０の開放度が調整されると共に、圧力検出ス
イッチＰＳの信号により放出弁Ｖろが開放される。循環
路における循環用ファンＦ２の吸引側のガスがダンパＤ
１０゜フレームアレスタ２９および放出弁Ｖ３Ｔｈ通っ
て大気中に放出される。

前記ガス排出管路６内のガス圧が下限設定値よりも低く
なった場合は、圧力検出制御器ＰＩＣ−１が動作して、
その圧力検出制御器ＰＩＣ−１の信号により、調節弁Ｖ
１の開放度が小さくなるように調整されると共に、絞り
弁Ｖ２の開放度が太きくなるように調整され、そのため
被処理ガス排出管路１からの被処理ガスと前記ガス排出
管路６のガスとが排気用ファンＦ１により吸引されるの
で、被処理ガス排出管路１から排気用ファンＦ１に吸引
されるガス量は少なくなる。

第１吸着塔９内の吸着剤が飽和状態あるいはこれに近い
状態まで臭気成分を吸着したのち、ダンパＤ１．Ｄ５を
閉じると共に、ダンパＤ２．Ｄ６を開き、第６図に示す
ように、ガス全第２吸着塔１０、ガスクーラ５および循
環用ファンＦ２に循環させ、第２吸着塔１０内の吸着剤
に悪臭成分を吸着させる。

一万゛電磁開閉弁を開いて第１コンデンサ５０に冷却用
水金供給し、かつ電磁開閉弁Ｖ１０’！ｒ開いて蒸気供
給源４８から蒸気を第１吸着塔９に供給して第１吸着塔
９内の吸着剤を脱着させ、第１吸着塔９から出た蒸気ｆ
ｃ第１コンデンサ３０に導きその第１コンデンサ５０か
らドレンをドレン管ろ２に排出する。

第２吸着塔１０内の吸着剤が飽和状態あるいはこれに近
い状態まで臭気成分を吸着したのち、再びダンノξＤ２
　、Ｄ６に閉じると共にダン、ｅｐｌ。

Ｄ５を開いて、ガスを第１吸着塔９．ガスクーラ５およ
び循環用ファンＦ２＋Ｃ循環させ、かつ第２コンデンサ
５１に冷却水を供給し、電磁開閉弁Ｖ１０を閉じると共
に、電磁開閉弁Ｖ１１を開いて蒸気供給源４８から蒸気
全第２吸着塔１０に供給して、第２吸着塔１０内の吸着
剤を脱着させる。

吸着塔内に蒸気２送って吸着剤の脱着を行なうと、吸着
剤に水分が付着する。吸着剤に水分が付着していると吸
着効率が低下するので、脱着後に吸着剤を乾燥する必要
がある。

前記実施例の脱臭装置において、ダンパＤ２゜Ｄ５　、
Ｄ６　、Ｄ７　、Ｄ９を閉じると共に、ダンノξＤｉ　
、Ｄ４　、Ｄ５　、Ｄ８を開くことシでより、第４図に
示すように、循環用ファンＦ２から吐出されるガスを、
第１吸着塔９．ガスクーラ５．および第２吸着塔１０お
よび循環用ファンＦ２に循環させると、第１吸着塔９内
の吸着剤は脱着直後であって高温で湿潤しているので吸
着能力がなく、そのため第１吸着塔９内の吸着剤が乾燥
されると共に、第２吸着塔１０内の吸着剤により脱臭が
行なわれる。

まｔダンパＤ１　、Ｄ４　、Ｄ５　、Ｄ８　、Ｄ９を閉
じると共に、ダンノξＤ２．Ｄ５．Ｄ６．Ｄ７を開くこ
とにより、第５図に示すように、循環ファンＦ２から吐
出されるガスを、第２吸着塔１０．ガスクーラ５．第１
吸着塔９および循環用ファンＦ２に循環させると、第２
吸着塔１０内の吸着剤は脱着直後であって高温で湿潤し
ているので吸着能力がなく、そのため第２吸着塔１０内
の吸着剤が乾燥されると共に、第１吸着塔９内の吸着剤
により脱臭が行なわれる。

この発明を実施する場合、酸洗浄塔２を下流側に配置す
ると共にアルカリ洗浄塔５を上流側に配置してもよく、
またミストエリミネータ１８を省略してもよい。さらに
また吸着塔の台数は１台または６台であってもよい。

〔発明の効果〕

この発明によれば、被処理ガス排出管路１から酸洗浄塔
２およびアルカリ洗浄塔５を経て排気用ファンＦ１に吸
引された被処理ガスは、循環用ファンＦ２と吸着塔とガ
スクーラ５とを循環するガス循環路における循環用ファ
ンＦ２と吸着塔との間に供給され、前記被処理ガス排出
管路１内のガス圧が低下したとき、その被処理ガス排出
管路１に設けられた圧力検出制御器ＰＩＣ−１の信号に
より、調節弁Ｖ１の開放度が小さくなると共に絞り弁ｖ
２の開放度が大きくなるように調節されるので、生産設
備から被処理ガス排出管路１内に排出される被処理ガス
量が少なくなったときは、生産設備から被処理ガス排出
管路１に排出されてくる被処理ガスと前記ガス循環路に
おけるガス排出′Ｕ路６のガスとを排気用ファンＦ１に
吸引させることができ、そのため排気用ファンＦ１によ
って化学プラントから原料ガス金無、駄に放出させるこ
とはなく、かつ化学プラントにおけるプロセスの生成に
悪影響を及ぼすこともなく、さらに前記ガス循環路にお
けるガス排出管路６内のガス圧が設定値よりも高くなっ
たとき、そのガス排出管路６に設けられた圧力検出制御
器ＰＩＣ−２の信号によりガス放出管路８の放出弁Ｖ５
が開かれて、ガス排出管路６内のガスの一部がガス放出
管路８から大気中に放出されるので、化学プラントから
排出されて脱臭装置に導かれるガス量の増加に応じｔ量
の脱臭処理済ガス全大気中に自動的に放出させることが
できる等の効果が得られる。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の一実施例に係る脱臭装置を示す回路
図、第２図および第５図は吸着塔により吸着を行なう場
合のガス循環状態を示す図、第４図および第５図は吸着
剤の乾燥および吸着全行なう場合のガス循環状Ｂｗ示す
図である。第６図は従来の脱臭装置を示す回路図である
。 図において、１は被吸着処理ガス排出管路、２は酸洗浄
塔、５はアルカリ洗浄塔、４はガス供給管路、５はガス
クーラ、６はガス排出管路、７は連絡管路、８はガス放
出管路、９は第１吸着塔、１０は第２吸着塔、１８はミ
ストエリミネータ、２０は接続管路、ろＯは第１コンデ
ンサ、５１は第２コンデンサ、Ｆｌは排気用ファン、Ｆ
２は循環用ファン、ＰＩＣ−１およびＰＩＣ−２は圧力
検出制個器、ｖｌは調節弁、Ｆ２は絞ジ弁、Ｆ５は放出
弁、Ｄ１〜Ｄ１０はダンパである。 第５図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 生産設備の被処理ガス排出管路１が酸洗浄塔２およびア
   ルカリ洗浄塔３を介して排気用フアンＦ１の吸引口に接
   続され、その排気用フアンＦ１の吐出口は吸着塔のガス
   入口にガス供給管路４を介して接続され、吸着塔のガス
   出口はガス排出管路６を介して循環用フアンＦ２の吸引
   口に接続され、その循環用フアンＦ２の吐出口は前記ガ
   ス供給管路４に接続され、前記被処理ガス排出管路１に
   、圧力検出制御器ＰＩＣ−１とその被処理ガス排出管路
   １内のガス圧が低下したときその圧力検出制御器ＰＩＣ
   −１の信号により開放度が縮小される調節弁Ｖ１とが設
   けられ、前記ガス排出管路６と排気用フアンＦ１の吸引
   口とを接続する連絡管路７に、前記被処理ガス排出管路
   １内のガス圧が低下したとき前記圧力検出制御器ＰＩＣ
   −１の信号により開放度が拡大される絞り弁Ｖ２が設け
   られ、前記ガス排出管路６に圧力検出制御器ＰＩＣ−２
   が設けられると共にガス放出管路８が接続され、そのガ
   ス放出管路８には、ガス排出管路６内のガス圧が設定値
   よりも高くなつたとき前記圧力検出制御器ＰＩＣ−２の
   信号により開放される放出弁Ｖ５が設けられていること
   を特徴とする脱臭装置。