JPH0326093B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、化学工場において化学プラントか
ら排出される悪臭成分を含むガスを脱臭処理する
装置に関するものである。

〔従来技術〕

従来、脱臭装置としては、第６図に示すよう
に、被処理ガス入口を有する酸洗浄塔２のガス出
口にアルカリ洗浄塔３のガス入口を接続し、その
アルカリ洗浄塔３のガス出口に接続された排気用
フアンＦ１の吐出口に、第１吸着塔９および第２
吸着塔１０のガス入口を、それぞれダンパ１１，
１２を介して接続し、各吸着塔９，１０のガス出
口をそれぞれダンパ１３，１４を介してガス放出
管１５に接続した脱臭装置が知られている。

そして前記排気用フアンＦ１により吸引される
被処理ガスは、まず酸洗浄塔２内で酸の水溶液に
より洗浄されて、酸と反応する臭気成分が除去さ
れ、次いで前記被処理ガスがアルカリ洗浄塔３内
でアルカリの水溶液により洗浄されてアルカリと
反応する臭気成分が除去される。

続いてアルカリ洗浄塔３を通過した被処理ガス
は第１吸着塔９に送られ、その第１吸着塔９内の
吸着剤に、被処理ガスに残つている悪臭成分が吸
着されると共に、前記第１吸着塔９を通過した処
理済ガスがガス放出管１５から大気中に放出さ
れ、前記第１吸着塔９における吸着剤が飽和状態
になるまで吸着したとき、ダンパを切換えて被処
理ガスを第２吸着塔１０に供給している。

〔発明が解決しようとする問題点〕

しかるに、前記従来の脱臭装置の場合は、生産
設備からガスを排気用フアンＦ１により常時吸引
しているので、原料ガスが無駄に放出されると共
に、生産設備におけるプロセスの生成に悪影響を
及ぼすという問題がある。

〔発明の目的、構成〕

この発明は前述の問題を有利に解決できる脱臭
装置を提供することを目的とするものであつて、
この発明の要旨とするところは、生産設備の被処
理ガス排出管路１が酸洗浄塔２およびアルカリ洗
浄塔３を介して排気用フアンＦ１の吸引口に接続
され、その排気用フアンＦ１の吐出口は吸着塔の
ガス入口にガス供給管路４を介して接続され、吸
着塔のガス出口はガス排出管路６を介して循環用
フアンＦ２の吸引口に接続され、その循環用フア
ンＦ２の吐出口は前記ガス供給管路４に接続さ
れ、前記被処理ガス排出管路１に、圧力検出制御
器PIC−１とその被処理ガス排出管路１内のガス
圧が低下したときその圧力検出制御器PIC−１の
信号により開放度が縮小される調節弁Ｖ１とが設
けられ、前記ガス排出管路６と排気用フアンＦ１
の吸引口とを接続する連絡管路７に、前記被処理
ガス排出管路１内のガス圧が低下したとき前記圧
力検出制御器PIC−１の信号により開放度が拡大
される絞り弁Ｖ２が設けられ、前記ガス排出管路
６に圧力検出制御器PIC−２が設けられると共に
ガス放出管路８が接続され、そのガス放出管路８
には、ガス排出管路６内のガス圧が設定値よりも
高くなつたとき前記圧力検出制御器PIC−２の信
号により開放される放出弁Ｖ３が設けられている
ことを特徴とする脱臭装置にある。

〔実施例〕

次にこの発明を図示の例によつて詳細に説明す
る。

第１図はこの発明の一実施例に係る脱臭装置を
示すものであつて、化学工場における化学プラン
トの被処理ガス排出管路１が酸洗浄塔２のガス入
口に接続され、その酸洗浄塔２のガス出口は管路
１６を介してアルカリ洗浄塔３のガス入口に接続
され、かつそのアルカリ洗浄塔３のガス出口は管
路１７を介してミストエリミネータ１８のガス入
口に接続され、そのミストエリミネータ１８のガ
ス出口は管路１９を介して排気用フアンＦ１のガ
ス入口に接続され、さらにその排気用フアンＦ１
のガス出口はガス供給管路４を介して第１吸着塔
９および第２吸着塔１０のガス入口に接続され、
各吸着塔９，１０内に、活性炭からなる吸着剤層
が設けられている。

第１吸着塔９および第２吸着塔１０に対するガ
ス供給管路４は分岐され、その分岐されたガス供
給管路４は接続管路２０により接続され、その接
続管路２０は管路２１によりガスクーラ５のガス
出口に接続され、前記分岐したガス供給管路４に
は接続管路２０の接続部よりも上流においてダン
パＤ１，Ｄ２が設けられ、さらに接続管路２０に
は管路２１とガス供給管路４との間においてダン
パＤ３，Ｄ４が設けられている。

前記第１吸着塔９および第２吸着塔１０のガス
出口とガスクーラ５のガス入口とは冷却用管路２
２を介して接続され、その冷却用管路２２におけ
る各分岐部分にダンパＤ５，Ｄ６が設けられ、か
つガスクーラ５のガス出口にガス排出管路６の一
端部が接続されると共に、そのガス排出管路６の
他端部は循環用フアンＦ２の吸引口に接続され、
さらに前記冷却用管路２２における各分岐部分と
ガス排出管路６とはダンパＤ７，Ｄ８を有する管
路２３，２４を介して接続され、またガス排出管
路６におけるガスクーラ５側にはダンパＤ９が設
けられている。

前記循環用フアンＦ２の吐出口はガス供給管路
４に接続され、かつ前記ミストエリミネータ１８
および排気用フアンＦ１の間の管路１９とガス排
出管路６とは絞り弁Ｖ２を有する連絡管路７を介
して接続され、前記被処理ガス排出管路１に上流
側から下流側に向かつて異常圧力検出警報スイツ
チPAS、圧力検出制御器PIC−１および調節弁Ｖ
１が順次設けられ、被処理ガス排出管路１内のガ
ス圧が設定値よりも低くなると、圧力検出制御器
PIC−１の信号により、調節弁Ｖ１の開放度が小
さくなるように調整されると共に、絞り弁Ｖ２の
開放度が大きくなるように調節される。

被処理ガス排出管路１における異常圧力検出警
報スイツチPASおよび圧力検出制御器PIC−１の
接続部の間の部分に、異常時放出管路２５の一端
部が接続され、その異常時放出管路２５の他端部
はシールポツト２６の水中に配置され、かつその
シールポツト２６の上部に接続された放出管２７
にはフレームアレスタ（逆火防止装置）２８が設
けられ、さらに前記異常時放出管路２５には、被
処理ガス排出管路１内のガス圧が異常に高くなつ
たとき、前記異常圧力検出警報スイツチPASの
信号により開放される電磁開閉弁Ｖ４が設けられ
ている。

前記ガス排出管路６における連絡管路７の接続
部と循環用フアンＦ２との間の部分に、圧力検出
スイツチPSおよび圧力検出制御器PIC−２が設
けられると共に、ガス放出管路８の一端部が接続
され、そのガス放出管路８には、ガス排出管路６
内のガス圧が設定値よりも高くなつたとき、圧力
検出スイツチPSの信号により開放されるダンパ
Ｄ１０と、ガス排出管路６内のガス圧に比例して
圧力検出制御器PIC−２の信号により開放度が大
きくなるように調節される放出弁Ｖ３と、フレー
ムアレスタ２９とが設けられている。

前記第１吸着塔９におけるガス入口側に第１コ
ンデンサ３０の上部が管路を介して接続されると
共に、第２吸着塔１０におけるガス入口側に第２
コンデンサ３１の上部が管路を介して接続され、
かつ第１コンデンサ３０および第２コンデンサ３
１の下部とガスクーラ５のドレン排出口とはそれ
ぞれドレン管３２に接続され、さらに第１吸着塔
９および第２吸着塔１０の下端部はスチームトラ
ツプSTを有する管路によりドレン管３２に接続
され、さらに第１コンデンサ３０、第２コンデン
サ３１、ガスクーラ５およびミストエリミネータ
１８の下部に水戻り管路３３が接続されている。

酸供給源３４は電磁開閉弁Ｖ５を介して酸洗浄
塔２の下部の酸性液貯槽３５に接続され、かつ酸
性液循環用ポンプＰ１の吸込管は酸性液貯槽３５
に接続され、前記酸性液循環用ポンプＰ１の吐出
管は酸洗浄塔２における酸性液散布用ノズル３６
に接続され、さらに前記吐出管にPH検出計３７が
接続され、PHの値が設定値よりも高くなつたと
き、前記PH検出計３７からの信号により電磁開閉
弁Ｖ５が開放されて、酸供給源３４から酸性液貯
槽３５に酸が供給される。

アルカリ供給源３８は電磁開閉弁Ｖ６を介して
アルカリ洗浄塔３の下部のアルカリ性液貯槽３９
に接続され、かつアルカリ性液循環用ポンプＰ２
の吸込管はアルカリ性液貯槽３９に接続され、前
記アルカリ性液循環用ポンプＰ２の吐出管はアル
カリ洗浄塔３におけるアルカリ性液散布ノズル４
０に接続され、さらに吐出管にPH検出計４１が接
続され、PHの値が設定値よりも低くなつたとき、
PH検出計４１からの信号により電磁開閉弁Ｖ６が
開放されて、アルカリ供給源３８からアルカリ性
液貯槽３９にアルカリが供給される。また酸洗浄
塔２の底部に開閉弁Ｖ７を有する排液管４２が接
続されると共に、アルカリ洗浄塔３の底部に開閉
弁Ｖ８を有する排液管４３が接続されている。

前記ガス排出管路６における連絡管路７の接続
部とガス放出管路８の接続部との間の部分に、窒
素ガス供給源４４に接続された窒素ガス供給管路
４５が接続され、その窒素ガス供給管路４５には
前記ガス排出管路６内の圧力が設定値以下になつ
たとき圧力検出スイツチPSの信号により開放さ
れる電磁開放弁Ｖ９が設けられ、循環用フアンＦ
２を始動するとき、ガス排出管路６内に窒素ガス
を供給してガス排出管路６内を昇圧させる。

水供給源４６に接続された水供給管路４７は、
前記ガスクーラ５、ミストエリミネータ１８、第
１コンデンサ３０、第２コンデンサ３１、酸性液
貯槽３５およびアルカリ性液貯槽３９に対しそれ
ぞれ電磁開閉弁を介して接続され、かつ蒸気供給
源４８に接続された蒸気供給管４９は、電磁開閉
弁Ｖ１０を介して第１吸着塔９の下部に接続され
ると共に電磁開閉弁Ｖ１１を介して第２吸着塔１
０の下部に接続されている。

第１図に示す脱臭装置において、ダンパＤ１，
Ｄ５，Ｄ９を開放すると共に他のダンパを閉じた
状態で、排気用フアンＦ１、循環用フアンＦ２、
酸性液循環用ポンプＰ１およびアルカリ性液循環
用ポンプＰ２を運転すると、化学工場の化学プラ
ントから排出される悪臭成分を含む被処理ガスは
排気用フアンＦ１により吸引されて被処理ガス管
路１の調節弁Ｖ１を通つて酸洗浄塔２に導かれ、
ここで酸性液により洗浄されて、被処理ガス中の
酸と反応する臭気成分例えばアンモニア、アミン
類等の塩基性成分が除去され、次いで酸洗浄塔２
から出た被処理ガスはアルカリ洗浄塔３に導か
れ、ここでアルカリ性液により洗浄されて、被処
理ガス中のアルカリと反応する臭気成分例えば硫
化水素その他の有機酸類等の酸性物質が除去され
る。

アルカリ洗浄塔３から排出された被処理ガスは
ミストエリミネータ１８を通つて排気用フアンＦ
１により第１吸着塔９に送られ、その第１吸着塔
９内で被処理ガスに残つている爆発性悪臭ガス成
分あるいはその他の悪臭ガス成分が吸着剤に吸着
され、第１吸着塔９から排出されたガスは、冷却
用管路２２、ガスクーラ５およびガス排出管路６
を通つて循環用フアンＦ２により吸引され、その
循環用フアンＦ２から吐出されたガスは排気用フ
アンＦ１から吐出されたガスと合流して前記第１
吸着塔９に供給され、第２図に示すように、ガス
は第１吸着塔９とガスクーラ５と循環用フアンＦ
２とを循環する。この場合、循環用フアンＦ２か
ら吐出されるガス量は排気用フアンＦ１から吐出
されるガス量の５〜６倍に設定される。

ガスの循環路に対して排気用フアンＦ１から被
処理ガスが供給されるので、循環路のガス圧が上
昇していくが、ガス排出管路６内のガス圧が一定
以上になると、圧力検出制御器PIC−２および圧
力検出スイツチPSが作動して、その圧力検出制
御器PIC−２の信号によりダンパＤ１０の開放度
が調整されると共に、圧力検出スイツチPSの信
号により放出弁Ｖ３が開放される。循環路におけ
る循環用フアンＦ２の吸引側のガスがダンパＤ１
０、フレームアレスタ２９および放出弁Ｖ３を通
つて大気中に放出される。

前記ガス排出管路６内のガス圧が下限設定値よ
りも低くなつた場合は、圧力検出制御器PIC−１
が動作して、その圧力検出制御器PIC−１の信号
により、調節弁Ｖ１の開放度が小さくなるように
調整されると共に、絞り弁Ｖ２の開放度が大きく
なるように調整され、そのため被処理ガス排出管
路１からの被処理ガスと前記ガス排出管路６のガ
スとが排気用フアンＦ１により吸引されるので、
被処理ガス排出管路１から排気用フアンＦ１に吸
引されるガス量は少なくなる。

第１吸着塔９内の吸着剤が飽和状態あるいはこ
れに近い状態まで臭気成分を吸着したのち、ダン
パＤ１，Ｄ５を閉じると共に、ダンパＤ２，Ｄ６
を開き、第３図に示すように、ガスを第２吸着塔
１０、ガスクーラ５および循環用フアンＦ２に循
環させ、第２吸着塔１０内の吸着剤に悪臭成分を
吸着させる。

一方電磁開閉弁を開いて第１コンデンサ３０に
冷却用水を供給し、かつ電磁開閉弁Ｖ１０を開い
て蒸気供給源４８から蒸気を第１吸着塔９に供給
して第１吸着塔９内の吸着剤を脱着させ、第１吸
着塔９から出た蒸気を第１コンデンサ３０に導き
その第１コンデンサ３０からドレンをドレン管３
２に排出する。

第２吸着塔１０内の吸着剤が飽和状態あるいは
これに近い状態まで臭気成分を吸着したのち、再
びダンパＤ２，Ｄ６を閉じると共にダンパＤ１，
Ｄ５を開いて、ガスを第１吸着塔９、ガスクーラ
５および循環用フアンＦ２に循環させ、かつ第２
コンデンサ３１に冷却水を供給し、電磁開閉弁Ｖ
１０を閉じると共に、電磁開閉弁Ｖ１１を開いて
蒸気供給源４８から蒸気を第２吸着塔１０に供給
して、第２吸着塔１０内の吸着剤を脱着させる。

吸着塔内に蒸気を送つて吸着剤の脱着を行なう
と、吸着剤に水分が付着する。吸着剤に水分が付
着していると吸着効率が低下するので、脱着後に
吸着剤を乾燥する必要がある。

前記実施例の脱臭装置において、ダンパＤ２，
Ｄ３，Ｄ６，Ｄ７，Ｄ９を閉じると共に、ダンパ
Ｄ１，Ｄ４，Ｄ５，Ｄ８を開くことにより、第４
図に示すように、循環用フアンＦ２から吐出され
るガスを、第１吸着塔９、ガスクーラ５、および
第２吸着塔１０および循環用フアンＦ２に循環さ
せると、第１吸着塔９内の吸着剤は脱着直後であ
つて高温で湿潤しているので吸着能力がなく、そ
のため第１吸着塔９内の吸着剤が乾燥されると共
に、第２吸着塔１０内の吸着剤により脱臭が行な
われる。

またダンパＤ１，Ｄ４，Ｄ５，Ｄ８，Ｄ９を閉
じると共に、ダンパＤ２，Ｄ３，Ｄ６，Ｄ７を開
くことにより、第５図に示すように、循環フアン
Ｆ２から吐出されるガスを、第２吸着塔１０、ガ
スクーラ５、第１吸着塔９および循環用フアンＦ
２に循環させると、第２吸着塔１０内の吸着剤は
脱着直後であつて高温で湿潤しているので吸着能
力がなく、そのため第２吸着塔１０内の吸着剤が
乾燥されると共に、第１吸着塔９内の吸着剤によ
り脱臭が行なわれる。

この発明を実施する場合、酸洗浄塔２を下流側
に配置すると共にアルカリ洗浄塔３を上流側に配
置してもよく、またミストエリミネータ１８を省
略してもよい。さらにまた吸着塔の台数は１台ま
たは３台であつてもよい。

〔発明の効果〕

この発明によれば、被処理ガス排出管路１から
酸洗浄塔２およびアルカリ洗浄塔３を経て排気用
フアンＦ１に吸引された被処理ガスは、循環用フ
アンＦ２と吸着塔とガスクーラ５とを循環するガ
ス循環路における循環用フアンＦ２と吸着塔との
間に供給され、前記被処理ガス排出管路１内のガ
ス圧が低下したとき、その被処理ガス排出管路１
に設けられた圧力検出制御器PIC−１の信号によ
り、調節弁Ｖ１の開放度が小さくなると共に絞り
弁Ｖ２の開放度が大きくなるように調節されるの
で、生産設備から被処理ガス排出管路１内に排出
される被処理ガス量が少なくなつたときは、生産
設備から被処理ガス排出管路１に排出されてくる
被処理ガスと前記ガス循環路におけるガス排出管
路６のガスとを排気用フアンＦ１に吸引させるこ
とができ、そのため排気用フアンＦ１によつて化
学プラントから原料ガスを無駄に放出させること
はなく、かつ化学プラントにおけるプロセスの生
成に悪影響を及ぼすこともなく、さらに前記ガス
循環路におけるガス排出管路６内のガス圧が設定
値よりも高くなつたとき、そのガス排出管路６に
設けられた圧力検出制御器PIC−２の信号により
ガス放出管路８の放出弁Ｖ３が開かれて、ガス排
出管路６内のガスの一部がガス放出管路８から大
気中に放出されるので、化学プラントから排出さ
れて脱臭装置に導かれるガス量の増加に応じた量
の脱臭処理済ガスを大気中に自動的に放出させる
ことができる等の効果が得られる。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の一実施例に係る脱臭装置を
示す回路図、第２図および第３図は吸着塔により
吸着を行なう場合のガス循環状態を示す図、第４
図および第５図は吸着剤の乾燥および吸着を行な
う場合のガス循環状態を示す図である。第６図は
従来の脱臭装置を示す回路図である。 図において、１は被吸着処理ガス排出管路、２
は酸洗浄塔、３はアルカリ洗浄塔、４はガス供給
管路、５はガスクーラ、６はガス排出管路、７は
連絡管路、８はガス放出管路、９は第１吸着塔、
１０は第２吸着塔、１８はミストエリミネータ、
２０は接続管路、３０は第１コンデンサ、３１は
第２コンデンサ、Ｆ１は排気用フアン、Ｆ２は循
環用フアン、PIC−１およびPIC−２は圧力検出
制御器、Ｖ１は調節弁、Ｖ２は絞り弁、Ｖ３は放
出弁、Ｄ１〜Ｄ１０はダンパである。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １ 生産設備の被処理ガス排出管路１が酸洗浄塔
   ２およびアルカリ洗浄塔３を介して排気用フアン
   Ｆ１の吸引口に接続され、その排気用フアンＦ１
   の吐出口は吸着塔のガス入口にガス供給管路４を
   介して接続され、吸着塔のガス出口はガス排出管
   路６を介して循環用フアンＦ２の吸引口に接続さ
   れ、その循環用フアンＦ２の吐出口は前記ガス供
   給管路４に接続され、前記被処理ガス排出管路１
   に、圧力検出制御器PIC−１とその被処理ガス排
   出管路１内のガス圧が低下したときその圧力検出
   制御器PIC−１の信号により開放度が縮小される
   調節弁Ｖ１とが設けられ、前記ガス排出管路６と
   排気用フアンＦ１の吸引口とを接続する連絡管路
   ７に、前記被処理ガス排出管路１内のガス圧が低
   下したとき前記圧力検出制御器PIC−１の信号に
   より開放度が拡大される絞り弁Ｖ２が設けられ、
   前記ガス排出管路６に圧力検出制御器PIC−２が
   設けられると共にガス放出管路８が接続され、そ
   のガス放出管路８には、ガス排出管路６内のガス
   圧が設定値よりも高くなつたとき前記圧力検出制
   御器PIC−２の信号により開放される放出弁Ｖ３
   が設けられていることを特徴とする脱臭装置。