JPS63156067A - チタン酸ジルコニウム系セラミツクスの製造方法 - Google Patents
チタン酸ジルコニウム系セラミツクスの製造方法Info
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- JPS63156067A JPS63156067A JP61298908A JP29890886A JPS63156067A JP S63156067 A JPS63156067 A JP S63156067A JP 61298908 A JP61298908 A JP 61298908A JP 29890886 A JP29890886 A JP 29890886A JP S63156067 A JPS63156067 A JP S63156067A
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Landscapes
- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、低膨張性チタン酸ジルコニウム系セラミック
スの製造方法に関する。
スの製造方法に関する。
このセラミックスは低膨張材料として利用されている。
チタン酸ジルコニウム系セラミックスの構成成分の原料
粉末の中で、ジルコニア原料粉末ハ極メて凝集しやすい
。この様なジルコニア原料粉末を使用して乾式法でセラ
ミックス原料粉末を作成しても平均粒径は1〜2μm以
上のものとなる。この程度の原料粉末を使用しても高密
度かつ高性能の構造材料セラミックスを得ることは難か
しい。
粉末の中で、ジルコニア原料粉末ハ極メて凝集しやすい
。この様なジルコニア原料粉末を使用して乾式法でセラ
ミックス原料粉末を作成しても平均粒径は1〜2μm以
上のものとなる。この程度の原料粉末を使用しても高密
度かつ高性能の構造材料セラミックスを得ることは難か
しい。
本発明は前記のチタン酸ジルコニウム系セラミックスの
乾式法による合成における欠点を解消すべくなされたも
ので、その目的は、分散性のよいサブミクロン級の変成
ジルコニア原料粉末を作成し、該粉末をもちいて単なる
乾式法によって易焼結性かつ高嵩密度のチタン酸ジルコ
ニウムセラミソクス原料粉末を合成し、さらにこれら粉
末を焼結して高性能かつ高密度の低膨張性チタン酸ジル
コニウムセラミックスを製造する方法を提供するにある
。
乾式法による合成における欠点を解消すべくなされたも
ので、その目的は、分散性のよいサブミクロン級の変成
ジルコニア原料粉末を作成し、該粉末をもちいて単なる
乾式法によって易焼結性かつ高嵩密度のチタン酸ジルコ
ニウムセラミソクス原料粉末を合成し、さらにこれら粉
末を焼結して高性能かつ高密度の低膨張性チタン酸ジル
コニウムセラミックスを製造する方法を提供するにある
。
本発明者らは前記目標を達成すべく鋭意研究の結果、
低膨張性チタン酸ジルコニウムセラミックスの製造過程
において、該セラミックスを構成するジルコニウム以外
の少くとも一金属成分の適量とジルコニウムとを含有す
る溶液を作り、該溶液に加水分解反応を行なわせてゾル
を生成すると系の不均一のためにジルコニウム含有粒子
の凝集が起こりにくくなり、その後に得られたゾル体を
乾燥し、700〜1300℃で仮焼すると、凝集の極め
て少ないサブミクロン級の粉末(変成ジルコニア粉末)
となし得ることがわかった。これを原料とし、目的とす
るセラミックスの組成の残りの構成部分の化合物を乾式
法によって混合し、仮焼すれば、サブミクロン級の粉末
特性の優れた原料粉末が容易に得られ、これを成型して
焼結すると、焼結助剤なしに極めて高密度のチタン酸ジ
ルコニウム系セラミックスが容易に得られることを究明
し得た。この知見に基づいて本発明を完成した。
において、該セラミックスを構成するジルコニウム以外
の少くとも一金属成分の適量とジルコニウムとを含有す
る溶液を作り、該溶液に加水分解反応を行なわせてゾル
を生成すると系の不均一のためにジルコニウム含有粒子
の凝集が起こりにくくなり、その後に得られたゾル体を
乾燥し、700〜1300℃で仮焼すると、凝集の極め
て少ないサブミクロン級の粉末(変成ジルコニア粉末)
となし得ることがわかった。これを原料とし、目的とす
るセラミックスの組成の残りの構成部分の化合物を乾式
法によって混合し、仮焼すれば、サブミクロン級の粉末
特性の優れた原料粉末が容易に得られ、これを成型して
焼結すると、焼結助剤なしに極めて高密度のチタン酸ジ
ルコニウム系セラミックスが容易に得られることを究明
し得た。この知見に基づいて本発明を完成した。
本発明の要旨は次の三つの工程(a −c )の組合せ
にある。
にある。
工程(a):チタン酸ジルコニウム系セラミックスを構
成するジルコニウム以外の少なくとも一金属成分の適量
と、ジルコニウムとを含有する溶液を作り、加水分解反
応を行なツてゾルを生成し、該ゾル体を乾燥後700〜
1300℃で仮焼する工程。
成するジルコニウム以外の少なくとも一金属成分の適量
と、ジルコニウムとを含有する溶液を作り、加水分解反
応を行なツてゾルを生成し、該ゾル体を乾燥後700〜
1300℃で仮焼する工程。
この工程では、共沈体形成中の凝集が避けられまたPZ
T 、 PLZTなどの製造にも使用することができる
変成ジルコニアが得られる。
T 、 PLZTなどの製造にも使用することができる
変成ジルコニアが得られる。
工程(b):工程(a)で得られた仮焼物と、目的とす
るチタン酸ジルコニウム系セラミックスの組成の残りの
構成金属成分の化合物を混合して500〜1300℃で
仮焼する工程。この工程では、残りの成分の添加によっ
て所望の化合物組成が得られる。
るチタン酸ジルコニウム系セラミックスの組成の残りの
構成金属成分の化合物を混合して500〜1300℃で
仮焼する工程。この工程では、残りの成分の添加によっ
て所望の化合物組成が得られる。
工程(C):工程(b)で得られた仮焼粉末を成型して
700〜1700℃で焼結する工程。
700〜1700℃で焼結する工程。
ジルコニウム溶液を作製するための化合物としては、オ
キシ塩化ジルコニウム、オキシ硝酸ジルコニウム、塩化
ジルコニウム及び硝酸ジルコニウムが挙げられる。ジル
コニウム溶液の溶媒としては上記化合物を溶解させる水
またはアルコールを用いる。上記化合物はすべて水に可
溶であり、オキシ塩化ジルコニウムおよび塩化ジルコニ
ウムはエタノールに可?容である。さらに、ジルコニウ
ム溶液を作製するために、金属ジルコニウムを王水、H
Fで溶解して用いることもできる。ジルコニウム以外の
金属成分の溶液を作成するための化合物、特に、チタン
の化合物としてTi(No3)4+ TiC1a 。
キシ塩化ジルコニウム、オキシ硝酸ジルコニウム、塩化
ジルコニウム及び硝酸ジルコニウムが挙げられる。ジル
コニウム溶液の溶媒としては上記化合物を溶解させる水
またはアルコールを用いる。上記化合物はすべて水に可
溶であり、オキシ塩化ジルコニウムおよび塩化ジルコニ
ウムはエタノールに可?容である。さらに、ジルコニウ
ム溶液を作製するために、金属ジルコニウムを王水、H
Fで溶解して用いることもできる。ジルコニウム以外の
金属成分の溶液を作成するための化合物、特に、チタン
の化合物としてTi(No3)4+ TiC1a 。
Ti (SOa) zなどが挙げられる。この溶液の溶
媒としては水またはアルコールを用いる。ジルコニウム
溶液とジルコニウム以外の溶液は別々に調製してもよ(
、また同一の溶媒に各化合物を溶解させて調整してもよ
い。
媒としては水またはアルコールを用いる。ジルコニウム
溶液とジルコニウム以外の溶液は別々に調製してもよ(
、また同一の溶媒に各化合物を溶解させて調整してもよ
い。
加水分解反応は加熱状態(100℃前後)で行なわせ、
ゾル体はろ過および洗浄によって回収する。
ゾル体はろ過および洗浄によって回収する。
また、チタン酸ジルコニウム系セラミックスにおいては
、その焼結性や特性を改善するために、一般に微量の助
剤(例えばSnug)を添加するのが通例でありこれら
の助剤は工程(a)又は工程(b)で適当に添加すれば
よい。
、その焼結性や特性を改善するために、一般に微量の助
剤(例えばSnug)を添加するのが通例でありこれら
の助剤は工程(a)又は工程(b)で適当に添加すれば
よい。
ジルコニウム含有溶液に溶解させるチタンの量は、その
添加によって最終的に得られるジルコニア粉末の凝集を
抑制し得る量であることが好ましい。得られたゾル体の
仮焼温度は、700〜1300℃である。700℃より
低いと凝集が顕著に起り1300℃を超えると粒子が粗
大化する傾向がある。このようにして得られた粉末に、
残りの成分の不足分を加えて混合する。この場合、加え
るTie、及び5n01などの粒度はサブミクロン級の
ものを使用する。この混合物の仮焼温度は固相反応がほ
ぼまたは完全に終了する最低温度以上で顕著な粒子成長
が生じない最高温度範囲内であることが必要であり、5
00〜1300℃の範囲が好ましい。
添加によって最終的に得られるジルコニア粉末の凝集を
抑制し得る量であることが好ましい。得られたゾル体の
仮焼温度は、700〜1300℃である。700℃より
低いと凝集が顕著に起り1300℃を超えると粒子が粗
大化する傾向がある。このようにして得られた粉末に、
残りの成分の不足分を加えて混合する。この場合、加え
るTie、及び5n01などの粒度はサブミクロン級の
ものを使用する。この混合物の仮焼温度は固相反応がほ
ぼまたは完全に終了する最低温度以上で顕著な粒子成長
が生じない最高温度範囲内であることが必要であり、5
00〜1300℃の範囲が好ましい。
このようにして得られた粉末を成型して焼結する。焼結
温度は前記の混合物の仮焼温度と同様に決めるが、一般
的に700〜1700℃の範囲である。
温度は前記の混合物の仮焼温度と同様に決めるが、一般
的に700〜1700℃の範囲である。
四塩化チタン水溶液(0,75mol/ 11 )43
.57 tagとオキシ塩化ジルコニウム(0,873
mol / jり 150+++1とを混合した。この
水溶液を100℃で100時間保持することによって加
水分解反応を行い、TH4+とZr’″″を含むゾルを
得た。これを洗浄、乾燥した後1200℃で仮焼して(
Zro、 s Tio、 z)Oz鉛粉末作成した。
.57 tagとオキシ塩化ジルコニウム(0,873
mol / jり 150+++1とを混合した。この
水溶液を100℃で100時間保持することによって加
水分解反応を行い、TH4+とZr’″″を含むゾルを
得た。これを洗浄、乾燥した後1200℃で仮焼して(
Zro、 s Tio、 z)Oz鉛粉末作成した。
この粉末の平均粒径は0.32μmであった。
得られた粉末3.44gと、市販のTi01微粉末0.
288 g 、 Sn0w微粉末2.170gと、ボー
ルミルで一昼夜混合した後、740℃で1時間仮焼して
、ZrTiolSno、i 0s粉末を得た。該粉末で
作製したチタン酸ジルコニウム系セラミックスは極めて
高い焼成密度を示した。例えば、この ZrTio、4Sna、60g粉末を1 ton /c
dで成形した後、1400℃で2時間、酸素ガスの雰囲
気下で焼結すると、得られたセラミックスの密度は2.
88で理論密度に極めて近い値であった。
288 g 、 Sn0w微粉末2.170gと、ボー
ルミルで一昼夜混合した後、740℃で1時間仮焼して
、ZrTiolSno、i 0s粉末を得た。該粉末で
作製したチタン酸ジルコニウム系セラミックスは極めて
高い焼成密度を示した。例えば、この ZrTio、4Sna、60g粉末を1 ton /c
dで成形した後、1400℃で2時間、酸素ガスの雰囲
気下で焼結すると、得られたセラミックスの密度は2.
88で理論密度に極めて近い値であった。
本発明の方法によると、第一工程(a)によりチタン酸
ジルコニウム系セラミックス用変成ジルコニア粉末は二
次粒子の極めて少ないサブミクロン粒子となし得、これ
を使用することによって、以後単なる乾式法によって、
容易にサブミクロン級の原料粉末が得られ、更にこれを
原料として極めて高密度のセラミックスが得られる優れ
た効果を奏し得られる。その他人のような効果も奏し得
られる。
ジルコニウム系セラミックス用変成ジルコニア粉末は二
次粒子の極めて少ないサブミクロン粒子となし得、これ
を使用することによって、以後単なる乾式法によって、
容易にサブミクロン級の原料粉末が得られ、更にこれを
原料として極めて高密度のセラミックスが得られる優れ
た効果を奏し得られる。その他人のような効果も奏し得
られる。
(1)仮焼によって得られる(Zro、 s Tio、
z)Oz鉛粉末十分分散されたものが得られるため、
仮焼物の粉砕工程を特に必要としないで原料粉末として
供給し得られる。
z)Oz鉛粉末十分分散されたものが得られるため、
仮焼物の粉砕工程を特に必要としないで原料粉末として
供給し得られる。
(2)該仮焼(Zro、 * Tie、 z)Oz鉛粉
末ら乾式法で得られるZrTiO4系粉末も単分散状態
で得られ、従って粉砕工程を除いても十分易焼結性かつ
高嵩密度の特性を有する。
末ら乾式法で得られるZrTiO4系粉末も単分散状態
で得られ、従って粉砕工程を除いても十分易焼結性かつ
高嵩密度の特性を有する。
(3)極めて高密度のものを要求される低膨張性チタン
酸ジルコニウム系セラミックスをホットプレスやHIP
(熱間ガス焼結)などの操作を省略して単なる固相焼
結によって、かつ焼結助剤を必ずしも必要とせずして、
極めて高密度のものが得られる。
酸ジルコニウム系セラミックスをホットプレスやHIP
(熱間ガス焼結)などの操作を省略して単なる固相焼
結によって、かつ焼結助剤を必ずしも必要とせずして、
極めて高密度のものが得られる。
(4)優れた粉末特性を有する変成ジルコニア粉末を大
量生産することにより、高性能チタン酸ジルコニウム系
セラミック(磁器)を極めて安価に供給し得る。
量生産することにより、高性能チタン酸ジルコニウム系
セラミック(磁器)を極めて安価に供給し得る。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、(a)チタン酸ジルコニウム系セラミックスを構成
するジルコニウム以外の金属成分の適量とジルコニウム
とを含有する溶液を作り、加水分解反応を行なってゾル
を生成し、該ゾル体を乾燥後700〜1300℃で仮焼
する工程、 (b)この仮焼物と、目的とするセラミックス組成の残
りの構成金属成分の化合物を混合して500〜1300
℃で仮焼する工程、 (c)得られた仮焼粉末を成型して700〜1700℃
で焼結する工程、からなることを特徴とするチタン酸ジ
ルコニウム系セラミックスの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61298908A JPH0678191B2 (ja) | 1986-12-17 | 1986-12-17 | チタン酸ジルコニウム系セラミツクスの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61298908A JPH0678191B2 (ja) | 1986-12-17 | 1986-12-17 | チタン酸ジルコニウム系セラミツクスの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63156067A true JPS63156067A (ja) | 1988-06-29 |
JPH0678191B2 JPH0678191B2 (ja) | 1994-10-05 |
Family
ID=17865722
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61298908A Expired - Fee Related JPH0678191B2 (ja) | 1986-12-17 | 1986-12-17 | チタン酸ジルコニウム系セラミツクスの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0678191B2 (ja) |
-
1986
- 1986-12-17 JP JP61298908A patent/JPH0678191B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0678191B2 (ja) | 1994-10-05 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |