JPS63153502A - アルミニウムミラ−の製造方法 - Google Patents
アルミニウムミラ−の製造方法Info
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- JPS63153502A JPS63153502A JP30081286A JP30081286A JPS63153502A JP S63153502 A JPS63153502 A JP S63153502A JP 30081286 A JP30081286 A JP 30081286A JP 30081286 A JP30081286 A JP 30081286A JP S63153502 A JPS63153502 A JP S63153502A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は付着力１反射率、信頼性にすぐれたアルミニ
ウムミラーの製造方法に関するものである。
ウムミラーの製造方法に関するものである。
第２図は例えば雑誌（’Ｌ’ｈｉｎ ５ｏｌｉｄ Ｆｉ
ｌｍｓ。
ｌｍｓ。
１０７（１９８３）Ｐ３３７）に示されたシャワーイオ
ン源を付加した真空蒸着装置を示す断面構成図であり、
ミラー（一般に銅ミラー）を作成するために従来用いら
れていたものである。
ン源を付加した真空蒸着装置を示す断面構成図であり、
ミラー（一般に銅ミラー）を作成するために従来用いら
れていたものである。
図において、（１）は基板（一般には銅）、（２１は基
板表面の酸化膜、（３）は金被膜、（４）は蒸発した金
蒸気、（５）はるつは、（６）はイオンビーム、（７）
はクヤワーイオンｍ＋ ＋８）、＋９１はシャッター
である。
板表面の酸化膜、（３）は金被膜、（４）は蒸発した金
蒸気、（５）はるつは、（６）はイオンビーム、（７）
はクヤワーイオンｍ＋ ＋８）、＋９１はシャッター
である。
軽ｌｄ・化を図るために銅ミラーにかえて、上記の真空
蒸着装置を用いてアルミニウムミラーを作成するには、
容器を真空排気した後、るつは（５）を加熱して、蒸着
材料（金）を蒸発させる。
蒸着装置を用いてアルミニウムミラーを作成するには、
容器を真空排気した後、るつは（５）を加熱して、蒸着
材料（金）を蒸発させる。
この状態でシャッター（８）を開けるとるつは（５）上
方に設置されたアルミニウム基板（１）に金被膜（３）
が形成される。そして、所定の膜厚まで金を蒸着した後
、シャッター（８）を閉じる。このようにして所望の薄
膜をｆ替ていた。なお付着力を高める目的でシャッター
（８）を開けて金蒸着を行なうプロセスの前に、シャワ
ーイオン源（７）を働かせ、イオンビーム（６）を用い
て基板（１）の表面に存在する酸化膜（２）を除去した
後、上述の成膜を行なう方法もある。
方に設置されたアルミニウム基板（１）に金被膜（３）
が形成される。そして、所定の膜厚まで金を蒸着した後
、シャッター（８）を閉じる。このようにして所望の薄
膜をｆ替ていた。なお付着力を高める目的でシャッター
（８）を開けて金蒸着を行なうプロセスの前に、シャワ
ーイオン源（７）を働かせ、イオンビーム（６）を用い
て基板（１）の表面に存在する酸化膜（２）を除去した
後、上述の成膜を行なう方法もある。
しかしながら、上述したごとき従来のミラー製造方法で
は、金の蒸着を材料の加熱蒸発たけで行っていたので、
加熱蒸発された材料が基板（１）に達するときのエネル
ギーは０．１〜１ｅＶ程度の小さな埴でしかなかった。
は、金の蒸着を材料の加熱蒸発たけで行っていたので、
加熱蒸発された材料が基板（１）に達するときのエネル
ギーは０．１〜１ｅＶ程度の小さな埴でしかなかった。
このためその基板（１）に蒸着された薄膜の付着力が弱
くて剥離しやすく１例えば粘着テープなどによっても剥
離されてしまうものであった。つまり通常の方法で作成
されたアルミニウムミラーは、その耐久性などの信頼性
に乏しいものであった。
くて剥離しやすく１例えば粘着テープなどによっても剥
離されてしまうものであった。つまり通常の方法で作成
されたアルミニウムミラーは、その耐久性などの信頼性
に乏しいものであった。
なお、付着力を高める目的で、アルミニウム基板の表面
に存在する自然酸化膜を除去してこの上に金の成膜を行
うと、アルミニウムと金とが直接に接触し、金属同志の
結合が達成され。
に存在する自然酸化膜を除去してこの上に金の成膜を行
うと、アルミニウムと金とが直接に接触し、金属同志の
結合が達成され。
付着力は優れたものが得られる。しかしながらこのよう
なメタルシステムでは、ミラーの使用時の熱負荷及び長
期の使用において、とくにアルミニウムの場合は金とア
ルミニウムとが相互に拡散しｅ Ａ４＋”＊’θｗＪな
どのもろい金属間化合物を形成し１反射率の低下や、膜
の剥離を引きおこしやすく、実用的ではなかった。
なメタルシステムでは、ミラーの使用時の熱負荷及び長
期の使用において、とくにアルミニウムの場合は金とア
ルミニウムとが相互に拡散しｅ Ａ４＋”＊’θｗＪな
どのもろい金属間化合物を形成し１反射率の低下や、膜
の剥離を引きおこしやすく、実用的ではなかった。
この発明は上記のような問題点を解決するためになされ
たもので、基板との付着力が強く。
たもので、基板との付着力が強く。
また熱負荷や長期使用に対しても信頼性の高いアルミニ
ウムミラーを作成する方法を得ようとするものである。
ウムミラーを作成する方法を得ようとするものである。
この発明に係るアルミニウムミラーの製造方法は、アル
ミニウム基板面に形成された酸化膜の上に、少なくとも
一部がイオン化された金属蒸気を加速して蒸着するもの
である。
ミニウム基板面に形成された酸化膜の上に、少なくとも
一部がイオン化された金属蒸気を加速して蒸着するもの
である。
この発明におけるアルミニウムの製造方法においては、
アルミニウム基板表面に存在する酸化膜を残した１まで
、あるいはさらにこの酸化膜の膜層を増加させた上で、
金を蒸着するというメタルシステムをとるので、金とア
ルミニウムとの間に存在する酸化膜が金−アルミニウム
の拡散の防水層として働く。このため、長期のｆｇ幀性
と耐熱性が確保される。さらに、金を蒸着する際、一部
あるいは全体をイオン化した金蒸気を加速してアルミニ
ウム基板に蒸着するので、アルミニウム基板表面の酸化
膜と金との極めて薄いミキシング層が形成され９強い付
層力が舟られる。
アルミニウム基板表面に存在する酸化膜を残した１まで
、あるいはさらにこの酸化膜の膜層を増加させた上で、
金を蒸着するというメタルシステムをとるので、金とア
ルミニウムとの間に存在する酸化膜が金−アルミニウム
の拡散の防水層として働く。このため、長期のｆｇ幀性
と耐熱性が確保される。さらに、金を蒸着する際、一部
あるいは全体をイオン化した金蒸気を加速してアルミニ
ウム基板に蒸着するので、アルミニウム基板表面の酸化
膜と金との極めて薄いミキシング層が形成され９強い付
層力が舟られる。
以下、この発明の実施例を図面にもとづいて説明する。
第１図はこの発明の一実施例によるアルミニウムミラー
の製造方法に使用される蒸着装置を示す断面構成図であ
り、クラスタイオンビーム法を用いたものである。
の製造方法に使用される蒸着装置を示す断面構成図であ
り、クラスタイオンビーム法を用いたものである。
図において（１）はアルミニウム基板、（２）はアルミ
ニウム基板面に存在する酸化膜、（３）は蒸着された金
被膜、（４）はクラスタイオン化された金蒸気、（５）
はるつは、（６）は加速電極、 ０（Ｉは真空容器、Ｑ
１＋はるつは（５）を加熱するヒータ、（２）は蒸着材
料で金である。時はヒータ０の電源、 ０４）は金蒸気
をイオン化する電子放射源、（至）は電子放射源α４の
印加電源、αｅは加速電極（６）への印加電源。
ニウム基板面に存在する酸化膜、（３）は蒸着された金
被膜、（４）はクラスタイオン化された金蒸気、（５）
はるつは、（６）は加速電極、 ０（Ｉは真空容器、Ｑ
１＋はるつは（５）を加熱するヒータ、（２）は蒸着材
料で金である。時はヒータ０の電源、 ０４）は金蒸気
をイオン化する電子放射源、（至）は電子放射源α４の
印加電源、αｅは加速電極（６）への印加電源。
αηはアースである。次にクラスタイオンビーム法によ
るアルミニウムミラーの製造方法について説明する。
るアルミニウムミラーの製造方法について説明する。
まず、真空容器００を１０−＠Ｔｏｒｒ程度に排気した
後、るつは（５）をヒータ０により加熱し、るつ？’！
（５）内の材料（ハ）の蒸気圧がＩ Ｔｏｒｒ 前
後となるように加熱する。この状態でるつは（５）から
金のクラスタ（５００〜１０００個の原子よりなる塊状
集団）が噴出する。このクラスタに電子放射源α４より
電子シャワーをあびせるとクラスタはイオン化される。
後、るつは（５）をヒータ０により加熱し、るつ？’！
（５）内の材料（ハ）の蒸気圧がＩ Ｔｏｒｒ 前
後となるように加熱する。この状態でるつは（５）から
金のクラスタ（５００〜１０００個の原子よりなる塊状
集団）が噴出する。このクラスタに電子放射源α４より
電子シャワーをあびせるとクラスタはイオン化される。
クラスタイオン化された全蒸気（４）は加速電極（６）
によって運動エネルギーを与えられ基板（１）上に膜堆
積する。ここで膜形成の初期（膜厚５０＾ぐらいまで）
には少なくとも３ｋＶ以上の加速圧を印加して蒸着する
と、クラスタは大きな運動エネルギーをもって基板（１
）に衝突し、酸化膜（２）の最表面数原子層とのミキシ
ングＨＩ全形致し、このため、基板（１）との付着力が
強い膜が形成される。
によって運動エネルギーを与えられ基板（１）上に膜堆
積する。ここで膜形成の初期（膜厚５０＾ぐらいまで）
には少なくとも３ｋＶ以上の加速圧を印加して蒸着する
と、クラスタは大きな運動エネルギーをもって基板（１
）に衝突し、酸化膜（２）の最表面数原子層とのミキシ
ングＨＩ全形致し、このため、基板（１）との付着力が
強い膜が形成される。
以上のようにして得られた金被膜（３）は酸化膜（２）
′ｆ：中間層として残してアルミニウム基板（１１に付
着する構造をとるので、金とアルミニウムとの間に存在
するアルミナの酸化膜（２）が、金−アルミニウムの拡
散に対する防止層として働き。
′ｆ：中間層として残してアルミニウム基板（１１に付
着する構造をとるので、金とアルミニウムとの間に存在
するアルミナの酸化膜（２）が、金−アルミニウムの拡
散に対する防止層として働き。
耐熱性、長期信頼性に浚れたメタルシステムとなる。
なお、上記実施例ではアルミニウム基板（１）上に存在
する自然酸化膜（２）（膜厚３０〜５０＾）を拡散に対
する防止層として利用する例を示したが、この他に、よ
り耐熱性を高める目的で、積極的に酸化膜（２）の膜厚
を増加させてもよい。
する自然酸化膜（２）（膜厚３０〜５０＾）を拡散に対
する防止層として利用する例を示したが、この他に、よ
り耐熱性を高める目的で、積極的に酸化膜（２）の膜厚
を増加させてもよい。
酸化膜（２）の膜厚を増加させる方法としては。
酸素が存在する雰囲気にてアルミニウム基板（１）の温
度を２００′Ｃ以上に加熱保持するか、または酸素イオ
ンビームをアルミニウム基板（１）に打ち込むなどの手
段をとればよい。
度を２００′Ｃ以上に加熱保持するか、または酸素イオ
ンビームをアルミニウム基板（１）に打ち込むなどの手
段をとればよい。
このようにして酸化膜（２）の膜厚を増せば、耐熱性、
長期信頼性はより高められる。
長期信頼性はより高められる。
なお、上記実施例ではアルミニウム基板上の酸化膜の上
に金を蒸着したが、被膜（３）の材料として金の地銀等
も適用可能である。
に金を蒸着したが、被膜（３）の材料として金の地銀等
も適用可能である。
以上のように、この発明によればアルミニウム基板面に
形成された酸化膜の上に、少なくとも一部がイオン化さ
れた金属蒸気を加速して蒸着し、アルミニウムミラーを
製造したので、基板との付着力が強い被膜が形成でき、
またアルミニウムとの間に拡散層を生じない耐熱性、長
期信頼性に優れたアルミニウムミラーが優られる効果が
ある。
形成された酸化膜の上に、少なくとも一部がイオン化さ
れた金属蒸気を加速して蒸着し、アルミニウムミラーを
製造したので、基板との付着力が強い被膜が形成でき、
またアルミニウムとの間に拡散層を生じない耐熱性、長
期信頼性に優れたアルミニウムミラーが優られる効果が
ある。
第１図はこの発明の一実施例によるアルミニウムミラー
の製造方法に使用される蒸着装置を示す断面構成図、及
び第２図は従来のミラーの製造方法に使用される蒸着装
置を示す断面構成図である。 （１）・・・アルミニウム基板、（２）・・・酸化膜、
（３）・・・金被膜、（４）・・・全蒸気、（６）・・
・加速電極、ａ２・・・金材料、０４１・・・電子放射
源 なお９図中、同一符号は同−又は相当部分を示す。
の製造方法に使用される蒸着装置を示す断面構成図、及
び第２図は従来のミラーの製造方法に使用される蒸着装
置を示す断面構成図である。 （１）・・・アルミニウム基板、（２）・・・酸化膜、
（３）・・・金被膜、（４）・・・全蒸気、（６）・・
・加速電極、ａ２・・・金材料、０４１・・・電子放射
源 なお９図中、同一符号は同−又は相当部分を示す。
Claims (6)
- （１）アルミニウム基板面に形成された酸化膜の上に、
少なくとも一部がイオン化された金属蒸気を加速して蒸
着したアルミニウムミラーの製造方法。 - （２）金属蒸気は金蒸気である特許請求の範囲第１項記
載のアルミニムウミラーの製造方法。 - （３）酸化膜は自然酸化膜である特許請求の範囲第１項
又は第２項記載のアルミニウムミラーの製造方法。 - （４）酸化膜は酸素雰囲気中でアルミニウム基板を高温
保持して形成された特許請求の範囲第１項又は第２項記
載のアルミニウムミラーの製造方法。 - （５）酸化膜は酸素イオンビームをアルミニウム基板に
打ち込んで形成された特許請求の範囲第１項又は第２項
記載のアルミニウムミラーの製造方法。 - （６）蒸着される膜の厚さが５０Åになるまで加速電圧
を３ｋＶ以上かける特許請求の範囲第１項ないし第５項
のいずれかに記載のアルミニウムミラーの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30081286A JPS63153502A (ja) | 1986-12-17 | 1986-12-17 | アルミニウムミラ−の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30081286A JPS63153502A (ja) | 1986-12-17 | 1986-12-17 | アルミニウムミラ−の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63153502A true JPS63153502A (ja) | 1988-06-25 |
Family
ID=17889398
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30081286A Pending JPS63153502A (ja) | 1986-12-17 | 1986-12-17 | アルミニウムミラ−の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63153502A (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS55110203A (en) * | 1979-02-16 | 1980-08-25 | Sumitomo Electric Ind Ltd | Mirror for laser guide |
| JPS57114103A (en) * | 1981-01-06 | 1982-07-15 | Agency Of Ind Science & Technol | Manufacture of mirror for infrared laser |
-
1986
- 1986-12-17 JP JP30081286A patent/JPS63153502A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS55110203A (en) * | 1979-02-16 | 1980-08-25 | Sumitomo Electric Ind Ltd | Mirror for laser guide |
| JPS57114103A (en) * | 1981-01-06 | 1982-07-15 | Agency Of Ind Science & Technol | Manufacture of mirror for infrared laser |
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