JPS63132443A - ウエハ搬送装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 （産業上の利用分野） 本発明は、例えばウェハのエツチング処理のためにウェ
ハを搬送するウェハ搬送装置に関する。

（従来の技術） 一般に、ウェハのエツチング処理のためにはウェハをロ
ードロツタ室に入れ、次いで真空室でエツチング処理を
し、処理済のウェハをアンロード室に移し、その後に大
気中に取出すようにしている。

（発明が解決しようとする問題点） このように、ウェハはそのエツチング処理のために一定
の手順で搬送する必要があるが、従来はウェハ１枚を単
独で処理室へ入れているので、不安定であり処理室内で
の処理において応用性がなかった。本発明は、かかる点
に鑑み、ウェハをトレーと一緒に搬送しトレーに載置し
た状態でエツチング処理ができるような搬送装置を提供
することを目的とする。

〔発明の構成〕

（問題点を解決するための手段） そこで、本発明は、処理前の積層ウェハを一枚ずつ移送
するウェハの繰り出し装置と、この繰り出されたウェハ
を一旦受けてトレー上の所定位置に裁置するウェハ載置
装置と、ウェハが載置されたトレーをウェハ処理室へ搬
送する第１ウェハ搬送装置と、処理の済んだウェハをト
レーとともに搬送する第２ウェハ搬送装置と、前記第２
ウェハ搬送装置によって送られた処理済ウェハをトレー
から取上げるウェハ分離装置と、トレーから取上げた処
理済ウェハを積層載置せしめるウェハ収納装置と、前記
ウェハ載置装置とウェハ分離装置間を連絡し両装置間に
おいてトレーを搬送するトレー搬送装置とで構成されて
いる。

（作　用） 処理前のウェハＷは一枚ずつウェハ載置装置によってト
レー上に載置され、ウェハはトレーとともに搬送装置３
によってロードロック室を経て真空処理室でエツチング
処理される。エツチング処理されたウェハは搬送装置に
よってアンロード室に搬送されてウェハとトレーが分離
され、空のトレーはウェハ載置装置内に戻って次の未処
理ウェハのために待機し、処理済のウェハはウェハ収納
装置に収納される。このように、ウェハをトレー上に載
せて搬送すればウェハを安定して搬送できるばかりでな
く、真空処理室内でのエツチング処理の際トレー上にウ
ェハがｉ！置されているのでウェハの処理に応用ができ
、処理効率が上昇する。

（実施例） 以下、図面を参照して本発明の実施例について説明する
。

第１．２図において、大気圧の室Ｒ１には処理前のウェ
ハＷを積層せしめ、その一枚を次々に繰り出すウェハＷ
の繰り出し装置１が設けられ、この繰り出し装置１から
送られたウェハＷは、隣接室Ｒ２内に設けられたウェハ
載置装置２に送られる。前記室Ｒ２も大気圧であり、前
記ウェハ載置装置２は前記繰り出し装置１から送られた
ウェハＷをトレー上の所定位置に載置するためのもので
ある。トレー上に載せられたウェハＷはウェハ搬送装置
３によってロードロック室Ｒ３に運ばれ、更に別の搬送
装置（図示なし）によって真空処理室Ｒ４に搬送される
。

前記処理室Ｒ４でエツチング処理されたウェハＷは搬送
装置４によってアンロード室Ｒ５内に設けられ処理済ウ
ェハをトレー上から分離するウェハ分離装置５に移送さ
れ、分離されたウェハＷは室Ｒ６のウェハ収納装置６に
搬送される。そして、前記ウェハ分離装置５でウェハが
除かれた後のトレーはトレー搬送装置７によって前記ウ
ェハ載置装置２に移される。

前記繰り出し装置１は、第２図、第３図に示すように、
左右に間隔を配して設けられたキャリアステージ１０ａ
、１０ａ上に載置されたウェハキャリアｌｌａ、ｌｌａ
を有し、このウェハキャリアｌｌａにはウェハＷが上下
に積層されている。

前記キャリアステージ１０ａの中央にはフレーム１２ａ
が設けられ、このフレーム１２ａの左右には２対の搬送
ベルト１３ａ、１３ａが設けられ、この搬送ベルト１３
ａによってウェハキャリア１１ａの最下位に位置するウ
ェハＷが逐次前記ウェハ載置装置２に送られる。

前記ウェハ載置装置２はフレーム１２ａと同一平面上に
おいて左右に開閉しウェハを支持する一対の支持装置１
４ａ、１４ａを備え、各支持装置１４ａは第４図に示す
ように、水平支持板１５ａと、この水平支持板１５ａの
内側端面に設けられた搬送ベルト１６ａを備え、前記水
平支持板１５ａは垂直フレーム１７ａによって水平に保
持され、この垂直フレーム１７ａは駆動スクリュー１８
ａを備え、この駆動スクリュー１８ａを回転させること
によって左右一対の支持袋Ｎ　１４　ａがガイド１９ａ
に沿って左右に開閉する。

前記支持装置１．４ａの下方には第５図に示すような形
状のウェハ持上装置２０ａが設けられ、このウェハ支持
装置２０ａの外側にはトレー持上装置２１ａが設置され
ている。これら両装置２０ａ。

２１ａはコ字状の枠２２ａ、　　２３ａと、これら枠上
に立設された支持ピン２４ａ、２５ａと、これら枠２２
ａ、２３ａを上下動させる駆動シリンダ２６ａ、２７ａ
からなる。前記ウェハ持上装置２０ａの支持ピン２４ａ
は、第６図に示すようなトレーＴの中心支持部２７の貫
通穴２８．２８・・・２８に挿通されるようになってお
り、前記トレーＴの中心支持部２７にはウェハＷが載置
される（第７図）。

前記支持装置２０ａとほぼ同一平面においてその近傍に
ウェハ位置決め装置３０ａが設けられ、このウェハ位置
決め装置３０ａは、前記一対の支持装置２０ａが開いて
いる状態でウェハＷの下に入り込んでそれを支持し、ウ
ェハＷを所定角度回転せしめてトレーＴのオリフラ対応
位置に整合せしめるように位置決めする。前記ウェハ位
置決め装置３０ａは水平動する支持棒３１ａと、これに
支持されモータによって回転する回転テーブル３２ａと
、ウェハＷの位置を検知するセンサ３３ａを有し、この
センサ３３ａはウエノ１のオリフラがトレーＴの中心支
持部２７に対応する位置に整合したときに回転テーブル
３２ａを停止せしめる。

前記ウェハ載置装置２によってトレーＴの所定位置に載
置されたウェハＷはトレーＴとともに第８図に示すよう
な搬送体４０ａによってロードミック室Ｒ３に運ばれる
。前記搬送体４０ａはトレ一台４１ａと支持フレーム４
２ａとローラ４３ａからなり、前記ローラ４３ａはレー
ル４４ａ上を転勤する。なお、搬送体４０ａに代えて、
第９図に示すような前後に分離したトレ一台４６ａ。

４６ａを有する搬送体４５ａを使用してもよい。

前記搬送装置４は、前記搬送装置３と同じような構造の
搬送体４０ｂを備え、この搬送体４０ｂはレール４４ｂ
上を移動する。また、前記搬送装置４によって移送され
たトレーＴと処理済のウェハＷはウェハＷをトレーＴか
ら分離するウェハ分離装置５によって処理されるが、こ
のウェハ分離装置５は前記ウェハ載置装置２とほぼ同一
構造を有している。すなわち、一対の支持装置１４ｂ。

１４ｂ１この支持装置ｔ１４ｂの内側に設けられた搬送
ベルト１６ｂ、ガイド１９ｂ１前記ウェハ載置装Ｒ２の
ウェハ持上装置２０ａ−、トレー持上装置２１ａに対向
して設けられたウェハ持上装置２０ｂ、　　トレー持上
装置２１ｂ１更にそれらの駆動シリンダ２６ｂ、２７ｂ
を備えている。前記ウェハ持上装置２０ｂはコ字状の枠
２２ｂと支持ピン２４ｂ、２４ｂ・・・２４ｂを有し、
前記トレー持上装置２１ｂはコ字状の枠２３ｂと支持ピ
ン２５ｂ、２５ｂ・・・２５ｂを有している。

前記両つェハ支持装置２０ａ、２Ｏｂ間にはトレー搬送
装置７が設けられ、この装置７はレール５０とこの上を
移行する搬送体５１からなり、この搬送体５１は転動ロ
ーラ５２を有している。

前記ウェハ分離装置５に隣接して設けられたウェハ収納
装置６は前記繰り出し装置１と同様の構造を有し、処理
済のウェハＷが一枚ずつ積層される。前記ウェハ収納装
置６はキャリアステージ１０ｂ、１０ｂ、ウェハキャリ
アｌｌｂ、ｌｌｂ。

フレーム１２ｂおよび搬送ベルト１３ｂ、１３ｂを有し
ている。

次に、本装置の作用について説明する。

トレーは予め複数枚装置内にセットされる。前記繰り出
し装置１上の未処理のウェハＷは搬送ベルト１３ａによ
ってウェハＷの両端部分を支持するように間隔が閉じら
れた一対の支持装置１４ａ上に送られる。このときには
、トレーＴは第３図に示すようにウェハ載置装置２内に
位置したトレー搬送装置７の搬送体５１上にある。次い
で、駆動シリンダ２６ａがウェハ持上装置２０ａを持ち
上げる。このとき、その支持ピン２４ａはトレーＴの貫
通穴２８を通って上方に突き抜は支持装置１４ａ上から
ウェハＷを浮かせる。この状態において、ウェハ位置決
め装置３０ａがウェハＷの下に入り込み、これと同時に
前記支持装置１４ａが開放する。次いで、支持ピン２４
ａが若干下降し、ウェハＷが回転テーブル３２ａ上に載
る。回転テーブル３２ａが回転し、センサ３３ａがウェ
ハＷのオリフラを検出すると回転テーブル３２ａが停止
する。

その後、再び支持ピン２４ａが上昇しウェハＷを回転テ
ーブル３２ｂ上からＷかせて前記ウェハ位置決め装置３
０ａを待機位置まで戻す。次いで前記支持ビン２４ａを
大きく下降せしめウェハＷを搬送体５１上のトレーＴの
中心支持部２７に整合した位置に載置する。

次いで、トレー持上装置２１ａを上昇せしめてトレーＴ
を若干搬送体５１から浮かせる。この状態で搬送体５１
を前記ウェハ分離装置５のウェハ持上装置ｆ２Ｏｂ側に
移行せし空のトレーを受取りにいくと同時に搬送装置３
の搬送体４０ａをトレーＴの下側に移行させ、トレー持
上装置２１ａを下降させてトレーＴを搬送体４０ａ上に
載置せしめる。こうして、ウェハＷはトレーＴ上に載置
されたままロードロツタ室Ｒ３に移され、更に処理室Ｒ
４に搬送されて真空処理される。

真空処理されたウェハＷは前記搬送体４０ｂ上に移され
、この搬送体４０ｂはウェハ分離装置内に入る。次いで
、トレー持上装置２１ｂを上昇させトレーＴを持ち上げ
、この状態で搬送体４０ｂを元の位置に戻す。次いで、
ウェハ支持装置２０ｂを上昇させてウェハＷを支持装置
１４ｂ上方まで持ち上げる。このとき、支持装置１４ｂ
はウェハＷが通り抜けることができるように開いており
、ウェハＷが上方に通り抜けると支持装置１ｆ１４ｂの
間隔が挟まり、ウェハ持上装置２０ｂが下降するとウェ
ハＷの両端部分がウェハ支持装置１４ｂに載置される。

前記ウェハ持上装置２０ｂの下降が終了すると前記搬送
体５１がウェハ持上装置２Ｏｂ内に入ってくる。次いで
、トレー持上装置２１ｂが下降し空のトレーＴが搬送体
５１上に載置され、空のトレーＴは前記ウェハ裁置装置
２内に送られる。処理済のウェハＷは搬送ベルト１６ｂ
の駆動によりウェハ収納装置６上へ送られる。この動作
が次々に繰り返され、トレーＴは第２図の矢印Ａのよう
に移動する。

〔発明の効果〕

本発明は、以上のように構成したので、ウェハをトレー
上に載せたまま真空処理を行なうことができ、ウェハの
搬送が安定して行なうことができるばかりでなく、真空
室内をトレーによって上下に仕切りその上方室でウェハ
を真空処理する等のウェハ処理が可能となり真空処理の
応用性が増大する。

【図面の簡単な説明】

第１図は本装置の概略全体構成図、第２図は本装置の概
略全体平面構成図、第３図は同側面図、第４図はウェハ
支持装置の斜視図、第５図はウェハ持上装置の斜視図、
第６図はトレーの平面図、第７図はトレーの側面図、第
８．９図はウェハ搬送装置の斜視図である。 １・・・ウェハの繰り出し装置、２・・・ウェハ載置装
置、３，４・・・ウェハ搬送装置、５・・・ウェハ分離
装置、６・・・ウェハ収納装置、２０ａ、２０ｂ・・・
ウェハ持上装置、２１ａ、２１ｂ・・・トレー持上装置
。 出願人代理人　　佐　　藤　　−雄 第２図 ？６ 第７図 手続補正書 昭和６２年１月７日 １　事件の表示 昭和６１年　特許願　第’２７９４１６号２　発明の名
称 ウェハ搬送装置 ３　補正をする者 事件との関係　　特許出願人 株式会社　他出製作所 （ほか１名） ４代理人 （２）　　図面を別紙の通り浄書する（内容に変更なし
）。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 処理前の積層ウェハを一枚ずつ移送するウェハの繰り出
   し装置と、この繰り出されたウェハを一旦受けてトレー
   上の所定位置に載置するウェハ載置装置と、ウェハが載
   置されたトレーをウェハ処理室へ搬送する第１ウェハ搬
   送装置と、処理の済んだウェハをトレーとともに搬送す
   る第２ウェハ搬送装置と、前記第２ウェハ搬送装置によ
   って送られた処理済ウェハをトレーから取上げるウェハ
   分離装置と、トレーから取上げた処理済ウェハを積層載
   置せしめるウェハ収納装置と、前記ウェハ載置装置とウ
   ェハ分離装置間を連絡し両装置間においてトレーを搬送
   するトレー搬送装置からなるウェハ搬送装置。