JPS6280276A - プラズマｃｖｄ装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はプラズマＣＶＤ装置に関するものである。

〔従来の技術〕

従来、この種のプラズマＣＶＤ装置は第３図（α）。

（ｂ）に示すように側力室Ｙに未処理ウェーハーストレ
ー１３を処理室１に搬入する為の真空予備室７と、処理
済のウェーハーストレー９を処理室１から搬出する為の
真空予備室１８　、１９と、ウェーハースを処理する処
理室１が設置され、作業面Ｍより搬入された未処理のウ
ェーハーストレー１３は側力室Ｙに設置された処理部１
で処理され、再び作業ｉｆｆｉＭへ回収される構成とな
っていた。２はガス吹き出し板、３はガス供給機構、４
は高周波源、５はウェーハーストレー搬送機構である。

６は排気装置、１４　、１５はパルプ、１７は壁である
。

〔発明が解決しようとする問題点〕

上述した従来のプラズマＧＯ装置においては、ウェーハ
ーストレーを搬入する真空予備室と処理済のウェー・・
−ストレーを処理室から回収する真空予備室とから構成
されているために、作業面から搬入されたウェーハース
トレーを再び作業面に取り出すには回収用の真空予備室
から作業面までの搬送系を必要とし、装置の設置面積を
広くとるという欠点がある＠ 本発明は前記問題点を解消し、装置の設置面積を小さく
するプラズマＣＶＤ装置を提供するものである。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明はプラズマＧ〕を行うウエーノ１−ス処理ｉ１　
ト前記つニーハース処理室ヘウエーノ１−ストレーを搬
入・搬出する真空予備室を有するプラズマＣＶＤ装置に
おいて、前記真空予備室にウェーハーストレーを上下２
段に収納するトレーホルダーと・トレーホルダーを上下
に動かす機構と、２段のトレーホルダーのウェーハース
トレーをそれぞれ単独で作業面から真空予備室を通して
ウエーノ・−ス処理室へ搬入・搬出する機構を有するこ
とを特徴とするプラズマＱの装置である。

〔実施例〕

以下、本発明の一実施例を図により説明する。

第１図は本発明の一実施例の断面図である。ウェーハー
ス処理室１には下からガスが吹き出す吹き出し板２と、
吹き出し板２にガスを供給するガス供給機構３があり、
ガス吹き出し板２には高周波源４が印加され、ウェーハ
ーストレー搬送機構５を有し、排気装置６で排気される
構成になっており、真空予備室７にはウェーハーストレ
ー搬送機構８と、ウェーハーストレー９，１３を２段に
収納するトレーホルダー１０と、２段のトレーホルダー
１０を上下に動作させる機構１１を有し、排気装置１２
で排気できる構成になっており、作業面Ｍにあるウェー
ハーストレー１３をパルプ１４を開け、２段のトレーホ
ルダー１０を下げ上段に乗せ、バルブ１４を閉じ排気機
構１２で真空引きした後、バルブ１５を開け、あらかじ
め真空引きしであるウエーノ・−ス処理室１へ搬送し、
パルプ１５を閉じ処理を行う。

一方真空予備室７を大気圧にして、再び作業面のウェー
ハーストレー１３を真空予備室７０２段トレーホルダー
の上段に乗せ、真空引きを行い、２段のトレホルダーを
上下に動作させる機構１１で上に上げておき、ヒーター
１６で加熱しながら待機させておく。ウェーハース処理
室１で処理が終了したウェーハーストレー９をパルプ１
５を通して２段トレーホルダーの下段に搬出し、２段ト
レーホルダー１１を下に下げ上段に入っていたウェーハ
ーストレー１３をウェーハース処理室１へ搬入させバル
ブ１５を閉じ、真空予備室７を大気圧にし作業面より未
処理のウェーハーストレー１３を２段トレーホルダー１
０の上段に入れ、２段トレーホルダー１０を上に上げ、
下段に入っている処理済のウェーハーストレー１３を作
業面へ取り出し、バルブ１４を閉じ真空引きする。２段
トレーの上段と下段の駆動は第２図に示すようにトレー
ホルダー１０が上下に移動するときは外部からの駆動伝
達部を切り離し、トレーホルダー１０が所定の位置に達
しウェーハーストレー９，１３を移動させるときには、
駆動伝達部を接続することにより目的を達成させる。

〔発明の効果〕

以上説明したように本発明は真空予備室に２段のトレー
ホルダーとトレーホルダーを外部より上下に駆動させる
機構とトレーホルダーのウェーハーストレーをウェーハ
ース処理室へ搬入及び搬出させる機構を有することによ
って、真空予備室を１つだけにすることができ、装置の
設置面積を小さくすることができる効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図（α）は本発明の一実施例を示す平面図、（ｂ）
は第１図（ωのＡ−Ａ′線断面図、第２図はトレーホル
ダーの斜視図、第３図（α）は従来例を示す平面図、（
ｂ）は第３図（α）のＡ−Ｎ線断面図である。 １・・・ウェーハース処理室、２・・・ガス吹き出し板
、３・・・ガス供給機構、４・・・高周波源、５・・・
ウェーハーストレー搬送機構、６・・・排気装置、７・
・・真空予備室、８・・・真空予備室搬送機構、９・・
・処理済のウェーハーストレー、１０・・・トレーホル
ダー、１１・・・トレーホルダー上下動作機構、１２・
・・真空予備室の排気装置、１３・・・未処理のウェー
ハーストレー、１４．１５・・・パルプ、１６・・・ヒ
ーター、１７・・・壁、１８．１９・・・回収用真空予
備室 特許出願人　　九州日本電気株式会社 ＼−，，ニー′

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）プラズマＣＶＤを行うウェーハース処理室と前記
   ウェーハース処理室へウェーハーストレーを搬入・搬出
   する真空予備室を有するプラズマＣＶＤ装置において、
   前記真空予備室にウェーハーストレーを上下２段に収納
   するトレーホルダーと、トレーホルダーを上下に動かす
   機構と、２段のトレーホルダーのウェーハーストレーを
   それぞれ単独で作業面から真空予備室を通してウェーハ
   ース処理室へ搬入・搬出する機構を有することを特徴と
   するプラズマＣＶＤ装置。