JPS63131060U - - Google Patents

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JPS63131060U
JPS63131060U JP2368387U JP2368387U JPS63131060U JP S63131060 U JPS63131060 U JP S63131060U JP 2368387 U JP2368387 U JP 2368387U JP 2368387 U JP2368387 U JP 2368387U JP S63131060 U JPS63131060 U JP S63131060U
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JP
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ion beam
aperture plate
deflection electrode
secondary electron
electron detector
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Landscapes

  • Electron Sources, Ion Sources (AREA)
  • Electron Beam Exposure (AREA)

Description

【図面の簡単な説明】
第１図は本考案の一実施例を示す光学図、第２
図及び第３図はその説明図、第４図は本考案の他
の実施例を示す図、第５図は従来の装置を示す光
学図である。 １：イオン源、２：集束レンズ、３：対物レン
ズ、４：試料、５：偏向電極、６：走査信号発生
回路、７：２次電子検出器、８：増幅器、９：陰
極線管、１０：ブランキング用偏向電極、１１：
ブランキング電源、１２：アパーチヤ板、１３，
１４：アライメント用偏向電極、１５：走査回路
、１６：アパーチヤ板、１７：直流電源、１８：
第２のブランキング用偏向電極、１９：アパーチ
ヤ板、２０：２次電子検出器、２１：増幅器、２
２：加算器。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 (1) イオン源と、該イオン源からのイオンビー
    ムを集束するための少なくとも２段の集束レンズ
    と、そのレンズ間に結像されたクロスオーバー像
    の位置に配置された微小開口を有するアパーチヤ
    板と、このアパーチヤ板の上方に置かれたブラン
    キング用偏向電極又はＥＸＢマスフイルタと、同
    じくアパーチヤ板の上方に配置された２次電子検
    出器と、前記アパーチヤ板上でのイオンビームの
    照射位置を変えるため該イオンビームとアパーチ
    ヤ板とを相対的に移動する手段と、そのイオンビ
    ームでアパーチヤ板上の所望領域を面走査する手
    段と、その面走査に同期し前記２次電子検出器か
    らの検出信号が輝度信号として供給される表示装
    置とからなる集束イオンビーム装置。 (2) 前記ブンランキング用偏向電極又はＥＸＢ
    マスフイルタはアパーチヤ板の後方にも設置され
    ている実用新案登録請求の範囲第１項記載の集束
    イオンビーム装置。 (3) 前記面走査の走査信号をイオンビーム通路
    に配置したアライメント用の偏向電極に供給する
    実用新案登録請求の範囲第１項又は第２項に記載
    の集束イオンビーム装置。 (4) 前記イオンビームをアパーチヤ板上の所望
    領域に移動させるために前記ブランキング用偏向
    電極に一定電圧を印加する実用新案登録請求の範
    囲第１項乃至第３項に記載の集束イオンビーム装
    置。 (5) 前記イオンビームをアパーチヤ板の所望領
    域に移動させるため該アパーチヤ板をイオンビー
    ムに対し直角方向に機械的に移動させる実用新案
    登録請求の範囲第１項乃至第３項記載の集束イオ
    ンビーム装置。
JP2368387U 1987-02-20 1987-02-20 Expired JPH0448627Y2 (ja)

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JPS63131060U true JPS63131060U (ja) 1988-08-26
JPH0448627Y2 JPH0448627Y2 (ja) 1992-11-16

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008530785A (ja) * 2005-02-04 2008-08-07 バリアン・セミコンダクター・エクイップメント・アソシエイツ・インコーポレイテッド ビームグリッチを回復するための高速ビーム偏向部を有するウェハ走査イオン注入器
JP2008536309A (ja) * 2005-04-02 2008-09-04 バリアン・セミコンダクター・エクイップメント・アソシエイツ・インコーポレイテッド 高速イオンビーム制御を用いた固定ビームによるイオン注入処理におけるグリッチからの回復方法及び装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008530785A (ja) * 2005-02-04 2008-08-07 バリアン・セミコンダクター・エクイップメント・アソシエイツ・インコーポレイテッド ビームグリッチを回復するための高速ビーム偏向部を有するウェハ走査イオン注入器
JP2008536309A (ja) * 2005-04-02 2008-09-04 バリアン・セミコンダクター・エクイップメント・アソシエイツ・インコーポレイテッド 高速イオンビーム制御を用いた固定ビームによるイオン注入処理におけるグリッチからの回復方法及び装置

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