JPS63130060A - レ−ザメスの製造方法 - Google Patents

レ−ザメスの製造方法

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JPS63130060A
JPS63130060A JP61278264A JP27826486A JPS63130060A JP S63130060 A JPS63130060 A JP S63130060A JP 61278264 A JP61278264 A JP 61278264A JP 27826486 A JP27826486 A JP 27826486A JP S63130060 A JPS63130060 A JP S63130060A
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carbon film
carbon
probe
laser
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 （産業上の利用分野） 本発明は、プローブ部が発熱する医療用のレーザメスの
製造り法に関する。
（従来の技術） 従来、一般に用いられているレーザメスは、光源からの
レーザ光出力を光ファイバーにより先端のたとえばサフ
アイヤ（α−Ａｊ！ｚＯａ＞また（ユ石英ガラス（Ｓｉ
Ｏｚ）からなるプローブ部に導き、このプローブ部を患
部または施術部に押圧しながら、または押圧することな
くプローブ部から光照射して切断、切開、凝固止血等を
行なうものである。
しかしこのようなレーザメスは、細胞にレーザエネルギ
ーを与え、細胞内でレーザエネルギーを吸収してから熱
エネルギーに変換するので、切断、切除等の効率が悪い
。
そこで、レーザメスのプローブ部の表面に炭素膜を設け
、この炭素膜でレーザ光エネルギーの一部を熱エネルギ
ーに変換して、レーザ光エネルギーと熱エネルギーとで
患部または施術部を切開または切断し、高効率化を図る
ことが考えられる。
この場合、一般的な方法としては、プローブ部の表面に
不定形炭素粉をバインダーと共に塗布して炭素膜を形成
し、その炭素粉が燃焼しないように、さらに炭素膜上に
、例えば４ノフ１イヤ（α−Ａｊ！ｚＯａ）または石英
ガラス（ＳｉＯｚ）の溶融液を塗布して保護膜を形成す
ることが考えられる。
〈発明が解決しようとする問題点） しかしながら、上記のように炭素膜および保５膜を塗布
により形成するのでは、プローブ部との密着強度が弱く
て剥離しやすく、耐久性が弱い。
また、膜厚を一定にすることが困難で、発熱むら等を生
じやすい。
本発明は、上記問題に篤みなされたしので、耐久性を右
し、かつ安定して発熱するレーザメスの製造方法を提供
することを目的とづる。
〔発明の構成〕
（問題点を解決するための手ＦＡ） 本発明のレーザメスの製造方法は、レーザメスのプロー
ブ部の表面に炭素膜および保護膜を、スパッターリング
法またはイオンブレーティング法のいずれかの方法によ
って順次それぞれ塗膜するものである。
（作用） 本発明は、まず、レーザメスのプローブ部に炭素をスパ
ッターリング法またはイオンブレーティング法で塗膜し
て炭素膜を形成し、その後、炭素膜上に保護材をスパッ
ターリング法またはイオンブーティング法で塗膜して保
護膜を形成する。
（実施例） 以下、本発明のレーザメスの一実施例を図面を参照して
説明する。
図において、１は図示しないレーザ光源に接続されたた
とえば石英ガラス（ＳｉＯｚ）からなる断面円形状のフ
ァイバー導光体で、このファイバー導光体１の外周には
水路を構成する空間部２を介して同軸状に外管材３が設
けられ、この外管材３の先端近くに流出孔４が穿設され
ている。
また、５はサフアイヤ、ルビー等（α−ＡＪ！２０３）
または石英ガラス（ＳｉＯｚ）からなりたとえば円錐形
としたプローブ部である。口のプＤ　−ブ部５の先端部
６には、第２図に示すように、表面に炭素からなる炭素
膜７が約５０（μ〕の厚さで被着され、この炭素膜７の
上にサファイヤ、ルビー′５（（２−Ａｊｚ０３）　マ
タＧｉ石英ｔｊう：１．　（ＳｉＯｚ）からなる保護膜
８が約５０〔μ〕の厚さで被るされている。
この炭素膜７および保護膜８を形成するには、まず、プ
ローブ部５の炭素膜７を必要とする先端部６と炭素膜７
を必要としない部分との境界部にニッケルまたは鉄から
なるマスクを配設し、炭素膜７を必要としない部分を遮
閉する。
そして、プローブ部５を３００℃以上に加熱するととも
に、プローブ部５に陰極電圧を加える。
このとき、たとえばマグネトロンにより強電界を作って
ｖＩｉ場を生じさせ、雰囲気中のアルゴンを陽イオンに
してターゲットどしての炭素片に衝突さけて表面の炭素
原子をスパッタ蒸発させて陰極のプローブ部５に炭素原
子を吸着させ、プローブ部５を加熱しながら必要厚さま
で炭素原子を被着させ、すなわちスパッターリング法に
より炭素膜７を形成する。そして、必要な膜厚の炭素膜
７が形成された後、この炭素膜７の表面に、同様にスパ
ッターリング法でリフ１イヤ、ルビー等（α−＾ｊ！ｚ
　Ｏａ　）または石英ガラス（ＳｉＯｚ）からなる保護
材を必要厚さまで被着し、保き膜８を形成する。
また、被膜の方法として上記スパッターリング法のほか
、プローブ部５を加熱するとともに陰極にし、被膜させ
る材料を蒸発させた後プラズマ中を通過させ、陽イオン
化し、陰極のプローブ部５に電界により加速して吸着さ
せるイオンブレーティング法を用いてもよい。寸なわら
、被膜される材料とプローブ部５を互いに吸引する相反
する性質にして、吸着させるのである。
そうして、このレーザメスの使用時には、図示しないレ
ーザ光源からファイバー導光体１を介してプローブ部５
にたとえば波長が１０１０６０（ｎのレーザ光出力を供
給し、プローブ部５の先端部６からレーザ光エネルギー
を照射するとともに、先端部６−の炭素膜７でレーザ光
エネルギーの一部を熱エネルギーに変換して照射し、患
部または施術部を切開または切断する。このとき空間部
２に水または薬品等の液体を導き、流出孔４から流出さ
せ、プローブ部５の先端部６の冷却用または血液等の洗
浄に用いる。
また、炭素ｆｆ！Ｊ７および保護膜８は同一方法に限ら
ず、一方をスパッターリング法、他りをイオンブレーテ
ィング法により形成することもできる。
上記実施例によれば、炭素膜７および保護膜８をスパッ
ターリング法またはイオンブレーティレグ法により被膜
するので、膜厚が均一で発熱むらが生じにクク、かつ炭
素膜７および保護膜８の密着強度が高いので耐久性が向
上する。また、炭素膜７を設けたことにより、プローブ
部５からレーザ光エネルギーのみならず熱エネルギーも
同時に照射できるので、施術部または患部の切断、切開
、凝固止血の効率の向上が図れる。
また、炭素膜７上に保護膜８を被膜したので、レーザ光
エネルギーで炭素が燃焼することを防止できる。また、
先端部６のみ炭素膜７を形成するので、把持する部分の
発熱がなく、使用に便利である。
〔発明の効果〕
本発明によれば、炭素膜および保護膜をスパッターリン
グ法またはイオンブレーティング法により被膜するので
、膜厚が均一で光熱むらが生じにクク、かつ炭素膜およ
び保護膜の密着強度が高いので耐久性が向上し、ジ−１
１メスの使用効率を向上することができる。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明の一実施例を示すレー［アメスの一部を
切り欠いた側面図、第２図は同上一部の断面図である。 ５・・プローブ部、７・・炭素膜、８・・保護膜。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. （１）レーザメスのプローブ部の表面に炭素膜および保
    護膜を、スパッターリング法またはイオンプレーティン
    グ法のいずれかの方法によつて順次それぞれ塗膜するこ
    とを特徴とするレーザメスの製造方法。
JP61278264A 1986-11-21 1986-11-21 レ−ザメスの製造方法 Pending JPS63130060A (ja)

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