JPS63129604A - 高周波チヨ−ク - Google Patents
高周波チヨ−クInfo
- Publication number
- JPS63129604A JPS63129604A JP27697786A JP27697786A JPS63129604A JP S63129604 A JPS63129604 A JP S63129604A JP 27697786 A JP27697786 A JP 27697786A JP 27697786 A JP27697786 A JP 27697786A JP S63129604 A JPS63129604 A JP S63129604A
- Authority
- JP
- Japan
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- resistor
- substrate
- conductor
- high frequency
- conductor piece
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims abstract description 21
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 18
- 239000010409 thin film Substances 0.000 abstract description 8
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 abstract description 4
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 abstract 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 abstract 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Coils Or Transformers For Communication (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概要〕
誘電体基板の表面に導体薄膜を螺旋状に蒸着したインダ
クタンス・コイルにおいて、螺旋状の導体以外の周囲部
分を抵抗体とすることによって、小形で、かつ、使用周
波数帯域の広い高周波チョークを実現したもの。
クタンス・コイルにおいて、螺旋状の導体以外の周囲部
分を抵抗体とすることによって、小形で、かつ、使用周
波数帯域の広い高周波チョークを実現したもの。
本発明はマイクロ波回路における高周波チョークに係り
、特に誘電体基板の表面に薄膜材料を蒸着させて構成回
路を集積化するMIC回路の薄膜技術により作られる高
周波チョークに関する。
、特に誘電体基板の表面に薄膜材料を蒸着させて構成回
路を集積化するMIC回路の薄膜技術により作られる高
周波チョークに関する。
高周波回路でよく用いられるマイクロストリップライン
などで構成されるマイクロ波回路において、トランジス
タなどの能動デバイスに直流バイアスを加える場合、マ
イクロ波信号が直流バイアス回路に漏洩するのを防止す
るため、高周波チョークが用いられる。
などで構成されるマイクロ波回路において、トランジス
タなどの能動デバイスに直流バイアスを加える場合、マ
イクロ波信号が直流バイアス回路に漏洩するのを防止す
るため、高周波チョークが用いられる。
MIC化されたマイクロ波回路の高周波チョークとして
は、小形で使用周波数帯域が広いことが望まれている。
は、小形で使用周波数帯域が広いことが望まれている。
従来の高周波チョークは第2図へに示すごとく、誘電体
基板lの表面に薄膜導体2を螺旋状に付着させて高周波
信号を寒流するインダクタンス・コイルをつくるものと
、同図Bに示すごとく、誘電体基板の表面にλg/4長
の導体片(但しλgは誘電体基板の誘電率などで定まる
動作マイクロ波信号の実効波長である)を形成させ、直
流バイアスの給電点で動作マイクロ波信号に対して無限
大インピーダンスを呈する回路をつくるものがある。
基板lの表面に薄膜導体2を螺旋状に付着させて高周波
信号を寒流するインダクタンス・コイルをつくるものと
、同図Bに示すごとく、誘電体基板の表面にλg/4長
の導体片(但しλgは誘電体基板の誘電率などで定まる
動作マイクロ波信号の実効波長である)を形成させ、直
流バイアスの給電点で動作マイクロ波信号に対して無限
大インピーダンスを呈する回路をつくるものがある。
従来の高周波チョークのうち、前者の図へのインダクタ
ンス・コイルを形成する高周波チョークは、インダクタ
ンスの値としてあまり高い値を得ることが出来ず、然も
、形が大きくなるという問題がある。
ンス・コイルを形成する高周波チョークは、インダクタ
ンスの値としてあまり高い値を得ることが出来ず、然も
、形が大きくなるという問題がある。
また、後者の図Bのλg/4線路を形成する高周波チョ
ークは、分布定数共振回路を用いているため、漏洩を防
止できる信号の周波数帯域が狭く、然も、形が大きくな
るという問題がある。
ークは、分布定数共振回路を用いているため、漏洩を防
止できる信号の周波数帯域が狭く、然も、形が大きくな
るという問題がある。
上記の従来の高周波チョークの問題点は、第1図に示す
ごとく、誘電体基板1の表面に導体片2を螺旋状に設け
たインダクタンス・コイルにおいて、螺旋状の導体片2
以外の周囲部分を抵抗体3とすることによって解決され
る。
ごとく、誘電体基板1の表面に導体片2を螺旋状に設け
たインダクタンス・コイルにおいて、螺旋状の導体片2
以外の周囲部分を抵抗体3とすることによって解決され
る。
螺旋状の導体片2以外の周囲部分を抵抗体3とすること
により、インダクタンス・コイルとしての寒流作用の他
に、抵抗体の吸収作用により高周波信号の漏洩を広い周
波数帯域にわたって少なくすることが出来る。
により、インダクタンス・コイルとしての寒流作用の他
に、抵抗体の吸収作用により高周波信号の漏洩を広い周
波数帯域にわたって少なくすることが出来る。
第1図は本発明の実施例の高周波チョークの構成を示す
構造図である。
構造図である。
本実施例の高周波チョークは、誘電体基板1としてセラ
ミック板を用い、導体片2として導電率の良%s Au
を用い、抵抗体3としてCrを用いる。
ミック板を用い、導体片2として導電率の良%s Au
を用い、抵抗体3としてCrを用いる。
作り方としては、図Bの断面図に示すごとく、誘電体基
板Iのセラミック基板の表面に抵抗体3としてのCrと
その上に導体片2としてのAuの2重の薄膜層を蒸着し
、裏面には接地導体としてCuを蒸着した素基板を用い
る。
板Iのセラミック基板の表面に抵抗体3としてのCrと
その上に導体片2としてのAuの2重の薄膜層を蒸着し
、裏面には接地導体としてCuを蒸着した素基板を用い
る。
この素基板の表面の抵抗体Crと導体片Auの2重の薄
膜層は、マスク印刷技術によって螺旋状の導体片Auを
残し、その周囲の導体Auをエツチングにより取り除い
て下層の抵抗体Crを表面に出す。
膜層は、マスク印刷技術によって螺旋状の導体片Auを
残し、その周囲の導体Auをエツチングにより取り除い
て下層の抵抗体Crを表面に出す。
すると、セラミック基板1の表面には、図Aに示すごと
き、周囲が抵抗体Crで囲まれた導体片^Uによりコイ
ルのパターンが得られ高周波チョークが得られる。
き、周囲が抵抗体Crで囲まれた導体片^Uによりコイ
ルのパターンが得られ高周波チョークが得られる。
本実施例の高周波チョークは、導体片Auで形成される
コイルのインダクタンスによる寒流作用の他に、抵抗体
Crによる吸収作用が加わるので、小形で、かつ、広い
周波数帯域で高周波信号の漏洩を少な(できる高周波チ
ョーク生なる。
コイルのインダクタンスによる寒流作用の他に、抵抗体
Crによる吸収作用が加わるので、小形で、かつ、広い
周波数帯域で高周波信号の漏洩を少な(できる高周波チ
ョーク生なる。
上述したごとく、本発明によれば、小形で、かつ、広い
周波数帯域で高周波信号の漏洩を少なくできる?IIC
回路用の高周波チョークを実現できる効果がある。
周波数帯域で高周波信号の漏洩を少なくできる?IIC
回路用の高周波チョークを実現できる効果がある。
第1図は本発明の実施例の高周波チョークの構成を示す
構造図、 第2図は従来例の高周波チョークの構成を示す構造図で
ある。 第1図において、 1は誘電体基板、 2は導体、 3は抵抗体である。 回 B 精it口 第1図 図へ スパイラルコイル 図8 χ匙1蝶滲形 在来例み高置X+Fーフカ構成を示イ 溝」を田 第 Z 図
構造図、 第2図は従来例の高周波チョークの構成を示す構造図で
ある。 第1図において、 1は誘電体基板、 2は導体、 3は抵抗体である。 回 B 精it口 第1図 図へ スパイラルコイル 図8 χ匙1蝶滲形 在来例み高置X+Fーフカ構成を示イ 溝」を田 第 Z 図
Claims (1)
- 誘電体基板(1)の表面に導体(2)を螺旋状に設け
たインダクタンス・コイルにおいて、前記螺旋状の導体
(2)以外の部分を抵抗体(3)とすることを特徴とす
る高周波チョーク。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27697786A JPS63129604A (ja) | 1986-11-20 | 1986-11-20 | 高周波チヨ−ク |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27697786A JPS63129604A (ja) | 1986-11-20 | 1986-11-20 | 高周波チヨ−ク |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63129604A true JPS63129604A (ja) | 1988-06-02 |
Family
ID=17577048
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP27697786A Pending JPS63129604A (ja) | 1986-11-20 | 1986-11-20 | 高周波チヨ−ク |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63129604A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0353609A (ja) * | 1989-07-20 | 1991-03-07 | Murata Mfg Co Ltd | 積層型lrフィルタの製造方法 |
JPH0353607A (ja) * | 1989-07-20 | 1991-03-07 | Murata Mfg Co Ltd | 積層型lrフィルタの製造方法 |
JPH0353608A (ja) * | 1989-07-20 | 1991-03-07 | Murata Mfg Co Ltd | 積層型lrフィルタの製造方法 |
JPH0353606A (ja) * | 1989-07-20 | 1991-03-07 | Murata Mfg Co Ltd | 積層型lrフィルタの製造方法 |
EP0436385A2 (en) * | 1989-12-28 | 1991-07-10 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | High-frequency inductor and manufacturing method thereof |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5731831B2 (ja) * | 1977-12-26 | 1982-07-07 |
-
1986
- 1986-11-20 JP JP27697786A patent/JPS63129604A/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5731831B2 (ja) * | 1977-12-26 | 1982-07-07 |
Cited By (5)
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JPH0353609A (ja) * | 1989-07-20 | 1991-03-07 | Murata Mfg Co Ltd | 積層型lrフィルタの製造方法 |
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JPH0353608A (ja) * | 1989-07-20 | 1991-03-07 | Murata Mfg Co Ltd | 積層型lrフィルタの製造方法 |
JPH0353606A (ja) * | 1989-07-20 | 1991-03-07 | Murata Mfg Co Ltd | 積層型lrフィルタの製造方法 |
EP0436385A2 (en) * | 1989-12-28 | 1991-07-10 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | High-frequency inductor and manufacturing method thereof |
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