JPS63128537A - X線源 - Google Patents

X線源

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Publication number
JPS63128537A
JPS63128537A JP27566386A JP27566386A JPS63128537A JP S63128537 A JPS63128537 A JP S63128537A JP 27566386 A JP27566386 A JP 27566386A JP 27566386 A JP27566386 A JP 27566386A JP S63128537 A JPS63128537 A JP S63128537A
Authority
JP
Japan
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generated
plasma pinch
ice
rays
vacuum container
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Pending
Application number
JP27566386A
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English (en)
Inventor
Seiichi Iwamatsu
誠一 岩松
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はX線源に関し、主としてxm露光用X線源に関
する。
〔従来の技術〕
従来、X線源としては、アルミニウム・ターゲート表面
にレーザー光を集束して照射し、プラズマ・ピンチを発
生させ、該プラズマ・ピンチ部から発生するX線をxI
l源とする方式や、炭素チップ間に高電圧を印加して、
放電させ、放電時に発生するプラズマのピンチ部からの
xlsをX線源とする方式が用いられていた。
〔発明が解決しようとする問題〕
しかし、上記従来技術によると、プラズマ化したアルミ
ニウムや炭素が単原子あるいは単分子に戻るに際し、x
II発生装置容器の側壁や窓部に付着したり、あるいは
被照射体表面に付着して、X線の照射効率を低下させた
り、被照射体表面を汚染するという問題点があった。
本発明は、かかる従来技術の問題点をなくし、高効率で
且つ披゛照射体表面の汚染等のないX線源を提供する事
を目的とする。
〔問題点を解決するための手段〕
上記問題点を解決する為に、本発明はプラズマ生成元素
を水素、酸素、窒素、硝酸、塩酸、弗酸、アンモニア等
の化合分子から成る溶液、氷、水溶液等にレーザー照射
あるいは高電圧印加を施し、プラズマ・ピンチ現象を発
生させる手段をとる〔実施例〕 以下、本発明の実施例を第1図により詳述する第1図に
おいて、1はレーザー発生源、2は真空容器、3はレー
ザー7が通るレーザー通過室、4は氷、5はX線通過窓
、6はX線である。
いま、真空容器2内に氷4を設置し、該氷に工午シマ・
レーザー7による短波長紫外線を集束して真空容器に設
けられた窓3から照射すると、氷表面にてプラズマ・ピ
ンチ現象が発生、シ、該プラズマ・ピンチ部からX線6
が発生する。この発生したX線6は真空容器内の被照射
物に照射するか効果がある。
、あるいは真空容器に設けられた窓5を通して真空容器
外の被照射物に照射する事ができるが、その場合、プラ
ズマ・ピンチ部からは、水素あるいは酸素はガス化して
、真空容器外に排出され、氷の成分の真空容器内や、窓
、あるいは被照射物への付着によるX線発生効率の低下
や汚染はない。
更に、いま、硝酸水溶液の液滴間に高電圧を印加して、
放電させてプラズマ・ピンチ現象を発生させると、該プ
ラズマ゛・ピンチ部からX@が発生すると共に、硝酸水
溶液を構成する元素はガス化して大気中に放散する為に
、X線発生効率が高く得られると共に、被照射物への汚
染もないクリーンなX線源となる。
〔発明の効果〕
本発明の如く、水素、l!1素、窒素、ハロゲン。
ガス等のガス成分を構成成分とする溶液、水溶液あるい
は氷をターゲットにしたレーザー照射あるいは高電圧放
電によるプラズマ・ピンチ現象からのX線は、高効率で
且つクリーンなX線源となる
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の実施例によるX@源を示す概略図で
ある。 1・・・・・・・・・レーザー発生源 2・・・・・・・・・真空容器 3・・・・・・・・・レーザー通過窓 4・・・・・・・・・氷 5・・・・・・・・・X線通過窓 6・・・・・・・・・X線 7・・・・・・・・・レーサー 以  上

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 硝酸、塩酸、弗酸、アンモニア等の窒素、水素、酸素、
    ハロゲン・ガス等のガス化成分を主成分とする液体、水
    溶液またはそれらを氷結させた固体、氷または水にレー
    ザーを照射するか、高電圧放電するかさせて、プラズマ
    ・ピンチ現象を発生させ、該プラズマ・ピンチ部よりX
    線を発生させることを特徴とするX線源。
JP27566386A 1986-11-19 1986-11-19 X線源 Pending JPS63128537A (ja)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH025334A (ja) * 1988-06-23 1990-01-10 Toshiba Corp X線装置
JP2006198185A (ja) * 2005-01-20 2006-08-03 Okuma Corp 物体の展示方法及びその装置、物体展示用の画像作成プログラム及びその記録媒体
JP2010101561A (ja) * 2008-10-23 2010-05-06 Ihi Corp オゾン氷製造方法及びオゾン氷製造装置
JP2011080671A (ja) * 2009-10-06 2011-04-21 Ihi Plant Construction Co Ltd オゾン含有氷の製造方法及びその装置

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