JPS63128537A - X線源 - Google Patents
X線源Info
- Publication number
- JPS63128537A JPS63128537A JP27566386A JP27566386A JPS63128537A JP S63128537 A JPS63128537 A JP S63128537A JP 27566386 A JP27566386 A JP 27566386A JP 27566386 A JP27566386 A JP 27566386A JP S63128537 A JPS63128537 A JP S63128537A
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- plasma pinch
- ice
- rays
- vacuum container
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- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
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Landscapes
- X-Ray Techniques (AREA)
- Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はX線源に関し、主としてxm露光用X線源に関
する。
する。
従来、X線源としては、アルミニウム・ターゲート表面
にレーザー光を集束して照射し、プラズマ・ピンチを発
生させ、該プラズマ・ピンチ部から発生するX線をxI
l源とする方式や、炭素チップ間に高電圧を印加して、
放電させ、放電時に発生するプラズマのピンチ部からの
xlsをX線源とする方式が用いられていた。
にレーザー光を集束して照射し、プラズマ・ピンチを発
生させ、該プラズマ・ピンチ部から発生するX線をxI
l源とする方式や、炭素チップ間に高電圧を印加して、
放電させ、放電時に発生するプラズマのピンチ部からの
xlsをX線源とする方式が用いられていた。
しかし、上記従来技術によると、プラズマ化したアルミ
ニウムや炭素が単原子あるいは単分子に戻るに際し、x
II発生装置容器の側壁や窓部に付着したり、あるいは
被照射体表面に付着して、X線の照射効率を低下させた
り、被照射体表面を汚染するという問題点があった。
ニウムや炭素が単原子あるいは単分子に戻るに際し、x
II発生装置容器の側壁や窓部に付着したり、あるいは
被照射体表面に付着して、X線の照射効率を低下させた
り、被照射体表面を汚染するという問題点があった。
本発明は、かかる従来技術の問題点をなくし、高効率で
且つ披゛照射体表面の汚染等のないX線源を提供する事
を目的とする。
且つ披゛照射体表面の汚染等のないX線源を提供する事
を目的とする。
上記問題点を解決する為に、本発明はプラズマ生成元素
を水素、酸素、窒素、硝酸、塩酸、弗酸、アンモニア等
の化合分子から成る溶液、氷、水溶液等にレーザー照射
あるいは高電圧印加を施し、プラズマ・ピンチ現象を発
生させる手段をとる〔実施例〕 以下、本発明の実施例を第1図により詳述する第1図に
おいて、1はレーザー発生源、2は真空容器、3はレー
ザー7が通るレーザー通過室、4は氷、5はX線通過窓
、6はX線である。
を水素、酸素、窒素、硝酸、塩酸、弗酸、アンモニア等
の化合分子から成る溶液、氷、水溶液等にレーザー照射
あるいは高電圧印加を施し、プラズマ・ピンチ現象を発
生させる手段をとる〔実施例〕 以下、本発明の実施例を第1図により詳述する第1図に
おいて、1はレーザー発生源、2は真空容器、3はレー
ザー7が通るレーザー通過室、4は氷、5はX線通過窓
、6はX線である。
いま、真空容器2内に氷4を設置し、該氷に工午シマ・
レーザー7による短波長紫外線を集束して真空容器に設
けられた窓3から照射すると、氷表面にてプラズマ・ピ
ンチ現象が発生、シ、該プラズマ・ピンチ部からX線6
が発生する。この発生したX線6は真空容器内の被照射
物に照射するか効果がある。
レーザー7による短波長紫外線を集束して真空容器に設
けられた窓3から照射すると、氷表面にてプラズマ・ピ
ンチ現象が発生、シ、該プラズマ・ピンチ部からX線6
が発生する。この発生したX線6は真空容器内の被照射
物に照射するか効果がある。
、あるいは真空容器に設けられた窓5を通して真空容器
外の被照射物に照射する事ができるが、その場合、プラ
ズマ・ピンチ部からは、水素あるいは酸素はガス化して
、真空容器外に排出され、氷の成分の真空容器内や、窓
、あるいは被照射物への付着によるX線発生効率の低下
や汚染はない。
外の被照射物に照射する事ができるが、その場合、プラ
ズマ・ピンチ部からは、水素あるいは酸素はガス化して
、真空容器外に排出され、氷の成分の真空容器内や、窓
、あるいは被照射物への付着によるX線発生効率の低下
や汚染はない。
更に、いま、硝酸水溶液の液滴間に高電圧を印加して、
放電させてプラズマ・ピンチ現象を発生させると、該プ
ラズマ゛・ピンチ部からX@が発生すると共に、硝酸水
溶液を構成する元素はガス化して大気中に放散する為に
、X線発生効率が高く得られると共に、被照射物への汚
染もないクリーンなX線源となる。
放電させてプラズマ・ピンチ現象を発生させると、該プ
ラズマ゛・ピンチ部からX@が発生すると共に、硝酸水
溶液を構成する元素はガス化して大気中に放散する為に
、X線発生効率が高く得られると共に、被照射物への汚
染もないクリーンなX線源となる。
本発明の如く、水素、l!1素、窒素、ハロゲン。
ガス等のガス成分を構成成分とする溶液、水溶液あるい
は氷をターゲットにしたレーザー照射あるいは高電圧放
電によるプラズマ・ピンチ現象からのX線は、高効率で
且つクリーンなX線源となる
は氷をターゲットにしたレーザー照射あるいは高電圧放
電によるプラズマ・ピンチ現象からのX線は、高効率で
且つクリーンなX線源となる
第1図は、本発明の実施例によるX@源を示す概略図で
ある。 1・・・・・・・・・レーザー発生源 2・・・・・・・・・真空容器 3・・・・・・・・・レーザー通過窓 4・・・・・・・・・氷 5・・・・・・・・・X線通過窓 6・・・・・・・・・X線 7・・・・・・・・・レーサー 以 上
ある。 1・・・・・・・・・レーザー発生源 2・・・・・・・・・真空容器 3・・・・・・・・・レーザー通過窓 4・・・・・・・・・氷 5・・・・・・・・・X線通過窓 6・・・・・・・・・X線 7・・・・・・・・・レーサー 以 上
Claims (1)
- 硝酸、塩酸、弗酸、アンモニア等の窒素、水素、酸素、
ハロゲン・ガス等のガス化成分を主成分とする液体、水
溶液またはそれらを氷結させた固体、氷または水にレー
ザーを照射するか、高電圧放電するかさせて、プラズマ
・ピンチ現象を発生させ、該プラズマ・ピンチ部よりX
線を発生させることを特徴とするX線源。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27566386A JPS63128537A (ja) | 1986-11-19 | 1986-11-19 | X線源 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27566386A JPS63128537A (ja) | 1986-11-19 | 1986-11-19 | X線源 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63128537A true JPS63128537A (ja) | 1988-06-01 |
Family
ID=17558611
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP27566386A Pending JPS63128537A (ja) | 1986-11-19 | 1986-11-19 | X線源 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63128537A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH025334A (ja) * | 1988-06-23 | 1990-01-10 | Toshiba Corp | X線装置 |
JP2006198185A (ja) * | 2005-01-20 | 2006-08-03 | Okuma Corp | 物体の展示方法及びその装置、物体展示用の画像作成プログラム及びその記録媒体 |
JP2010101561A (ja) * | 2008-10-23 | 2010-05-06 | Ihi Corp | オゾン氷製造方法及びオゾン氷製造装置 |
JP2011080671A (ja) * | 2009-10-06 | 2011-04-21 | Ihi Plant Construction Co Ltd | オゾン含有氷の製造方法及びその装置 |
-
1986
- 1986-11-19 JP JP27566386A patent/JPS63128537A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH025334A (ja) * | 1988-06-23 | 1990-01-10 | Toshiba Corp | X線装置 |
JP2006198185A (ja) * | 2005-01-20 | 2006-08-03 | Okuma Corp | 物体の展示方法及びその装置、物体展示用の画像作成プログラム及びその記録媒体 |
JP2010101561A (ja) * | 2008-10-23 | 2010-05-06 | Ihi Corp | オゾン氷製造方法及びオゾン氷製造装置 |
JP2011080671A (ja) * | 2009-10-06 | 2011-04-21 | Ihi Plant Construction Co Ltd | オゾン含有氷の製造方法及びその装置 |
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