JPH0768162A - 付着物の洗浄方法及びその装置 - Google Patents
付着物の洗浄方法及びその装置Info
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- JPH0768162A JPH0768162A JP24196793A JP24196793A JPH0768162A JP H0768162 A JPH0768162 A JP H0768162A JP 24196793 A JP24196793 A JP 24196793A JP 24196793 A JP24196793 A JP 24196793A JP H0768162 A JPH0768162 A JP H0768162A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 被洗浄物に形成された内部空間の内表面に付
着した付着物を分子レベルで効果的に取除く。 【構成】 着脱もしくは挿入可能な紫外線ランプ４を真
空容器２の内部空間３に配設し、着脱可能な供給口１４
を介して供給される空気、酸素及びオゾンのうち少なく
ともいずれかを含む洗浄用ガスの下で、紫外線ランプ４
から発せられる紫外線を内部空間３の内表面８に照射す
ることにより、内表面８に付着した付着物を取除く。
着した付着物を分子レベルで効果的に取除く。 【構成】 着脱もしくは挿入可能な紫外線ランプ４を真
空容器２の内部空間３に配設し、着脱可能な供給口１４
を介して供給される空気、酸素及びオゾンのうち少なく
ともいずれかを含む洗浄用ガスの下で、紫外線ランプ４
から発せられる紫外線を内部空間３の内表面８に照射す
ることにより、内表面８に付着した付着物を取除く。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、容器や配管部品などの
内表面に付着した付着物を取除く洗浄方法及びその装置
に関する。
内表面に付着した付着物を取除く洗浄方法及びその装置
に関する。
【０００２】
【従来の技術】真空中においては、気流が全く無いか又
は気流があったとしても極くわずかであるため、内部が
真空の容器または配管部品の壁に付着している微粒子を
剥離させたり、床面上の微粒子を舞い上げたりするよう
なことは少ない。
は気流があったとしても極くわずかであるため、内部が
真空の容器または配管部品の壁に付着している微粒子を
剥離させたり、床面上の微粒子を舞い上げたりするよう
なことは少ない。
【０００３】したがって、真空中ではクラス０（零）の
空間を作り出せる可能性がある。半導体製造プロセスが
真空の下で行われることがあり、例えば真空中で半導体
や液晶パネルに成膜する場合がある。また、ウエハやガ
ラス基板などの対象物を真空中で保管したり搬送したり
する場合がある。
空間を作り出せる可能性がある。半導体製造プロセスが
真空の下で行われることがあり、例えば真空中で半導体
や液晶パネルに成膜する場合がある。また、ウエハやガ
ラス基板などの対象物を真空中で保管したり搬送したり
する場合がある。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】このように真空中にお
いてはクラス０（零）の高清浄度の空間を作り出せる可
能性がある反面、その時に問題になることの一つにプロ
セス中または保管中における汚染の問題がある。汚染の
中でも分子レベルの汚染は特に解決が困難な問題であ
り、近年特に注目されてきた。分子レベルの汚染でも酸
素（Ｏ2 ）による酸化物の形成は、真空中の保管や搬送
では酸素濃度が低いのでその分低減され、問題になるこ
とは少ない。
いてはクラス０（零）の高清浄度の空間を作り出せる可
能性がある反面、その時に問題になることの一つにプロ
セス中または保管中における汚染の問題がある。汚染の
中でも分子レベルの汚染は特に解決が困難な問題であ
り、近年特に注目されてきた。分子レベルの汚染でも酸
素（Ｏ2 ）による酸化物の形成は、真空中の保管や搬送
では酸素濃度が低いのでその分低減され、問題になるこ
とは少ない。
【０００５】しかしながら有機物による汚染の問題が残
る。この有機物汚染は、真空状態を形成するための排気
ポンプに使用されている油の蒸気の逆流や、真空容器や
配管部品などに付着した汚染物が離脱して分子状になる
ことにより発生する。即ち、ウエハやガラス基板などの
保管対象物または製造中の対象物に炭素系（Ｃ系）の分
子が付着するために引き起こされる。
る。この有機物汚染は、真空状態を形成するための排気
ポンプに使用されている油の蒸気の逆流や、真空容器や
配管部品などに付着した汚染物が離脱して分子状になる
ことにより発生する。即ち、ウエハやガラス基板などの
保管対象物または製造中の対象物に炭素系（Ｃ系）の分
子が付着するために引き起こされる。
【０００６】真空中でウエハやガラス基板に付着する有
機物の膜厚は、１乃至数分子に相当する数オングストロ
ーム乃至数十オングストローム程度である。有機物がウ
エハやガラス基板などに付着した状態で、その上に成膜
を行った場合には、膜が剥離しやすくなり製品の歩留り
低下の原因となる。
機物の膜厚は、１乃至数分子に相当する数オングストロ
ーム乃至数十オングストローム程度である。有機物がウ
エハやガラス基板などに付着した状態で、その上に成膜
を行った場合には、膜が剥離しやすくなり製品の歩留り
低下の原因となる。
【０００７】油の蒸気の逆流を原因とする有機物汚染に
対しては、最近はドライポンプを使用したり、排気ポン
プと真空容器などとの間に油を吸収するゼオライト等の
物質を装着することにより、次第に減ってきている。
対しては、最近はドライポンプを使用したり、排気ポン
プと真空容器などとの間に油を吸収するゼオライト等の
物質を装着することにより、次第に減ってきている。
【０００８】しかしながら、真空容器などに付着した汚
染物を原因とする有機物汚染に関してはいまだ効果的な
解決策がなく、大きな問題として残っている。これは、
真空容器などの内表面に付着した有機物を取除くには、
内表面を洗浄し且つベーキングをしなくてはならない
が、内表面に付着した分子オーダの有機物を完全に取除
くことは非常に困難であるからである。
染物を原因とする有機物汚染に関してはいまだ効果的な
解決策がなく、大きな問題として残っている。これは、
真空容器などの内表面に付着した有機物を取除くには、
内表面を洗浄し且つベーキングをしなくてはならない
が、内表面に付着した分子オーダの有機物を完全に取除
くことは非常に困難であるからである。
【０００９】本発明は上述の事情に鑑みてなされたもの
で、真空容器や配管部品などの被洗浄物に形成された内
部空間の内表面に付着した付着物を分子レベルで効果的
に取除くことができる付着物の洗浄方法及びその装置を
提供することを目的とする。
で、真空容器や配管部品などの被洗浄物に形成された内
部空間の内表面に付着した付着物を分子レベルで効果的
に取除くことができる付着物の洗浄方法及びその装置を
提供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
め、本発明に係る付着物の洗浄方法は、着脱もしくは挿
入可能な紫外線ランプを被洗浄物の内部空間に配設し、
着脱可能な供給口を介して供給される空気、酸素及びオ
ゾンのうち少なくともいずれかを含む洗浄用ガスの下
で、前記紫外線ランプから発せられる紫外線を前記内部
空間の内表面に照射することにより、この内表面に付着
した付着物を取除くことを特徴とするものである。な
お、前記内部空間の開口部を覆う着脱可能な板部材に前
記紫外線ランプ及び前記洗浄用ガスの供給口を取付けて
もよい。
め、本発明に係る付着物の洗浄方法は、着脱もしくは挿
入可能な紫外線ランプを被洗浄物の内部空間に配設し、
着脱可能な供給口を介して供給される空気、酸素及びオ
ゾンのうち少なくともいずれかを含む洗浄用ガスの下
で、前記紫外線ランプから発せられる紫外線を前記内部
空間の内表面に照射することにより、この内表面に付着
した付着物を取除くことを特徴とするものである。な
お、前記内部空間の開口部を覆う着脱可能な板部材に前
記紫外線ランプ及び前記洗浄用ガスの供給口を取付けて
もよい。
【００１１】また、本発明に係る付着物の洗浄装置は、
被洗浄物の内部空間に着脱もしくは挿入可能に配設さ
れ、前記内部空間の内表面に紫外線を照射して、この内
表面に付着した付着物を取除く紫外線ランプと、前記被
洗浄物に着脱可能に取付けられ、空気、酸素及びオゾン
のうち少なくともいずれかを含む洗浄用ガスを前記内部
空間に供給するガス供給装置とを備えたことを特徴とす
るものである。なお、前記内部空間の開口部を覆う着脱
可能な板部材に前記紫外線ランプ及び前記洗浄用ガスの
供給口を取付けてもよい。
被洗浄物の内部空間に着脱もしくは挿入可能に配設さ
れ、前記内部空間の内表面に紫外線を照射して、この内
表面に付着した付着物を取除く紫外線ランプと、前記被
洗浄物に着脱可能に取付けられ、空気、酸素及びオゾン
のうち少なくともいずれかを含む洗浄用ガスを前記内部
空間に供給するガス供給装置とを備えたことを特徴とす
るものである。なお、前記内部空間の開口部を覆う着脱
可能な板部材に前記紫外線ランプ及び前記洗浄用ガスの
供給口を取付けてもよい。
【００１２】
【作用】本発明においては、空気、酸素（Ｏ2 ）及びオ
ゾン（Ｏ3 ）のうち少なくともいずれかを含む洗浄用ガ
スの下で、紫外線ランプから発せられる紫外線（ＵＶ＝
Ultraviolet Rays）によって、被洗浄物の内表面に付着
した有機物を除去している。このように紫外線とオゾン
とを組合せた乾式の洗浄方法は「ＵＶ／Ｏ3 洗浄」と呼
ばれている。
ゾン（Ｏ3 ）のうち少なくともいずれかを含む洗浄用ガ
スの下で、紫外線ランプから発せられる紫外線（ＵＶ＝
Ultraviolet Rays）によって、被洗浄物の内表面に付着
した有機物を除去している。このように紫外線とオゾン
とを組合せた乾式の洗浄方法は「ＵＶ／Ｏ3 洗浄」と呼
ばれている。
【００１３】紫外線ランプ（ＵＶランプ）から照射され
る紫外線の波長はランプの種類によって様々であるが、
その中で低圧水銀ランプがＵＶ／Ｏ3 洗浄には広く用い
られている。低圧水銀ランプから発せられる紫外線の輝
線は１８４．９ｎｍと２５３．７ｎｍである。波長が１
８４．９ｎｍの紫外線は空気中の酸素に吸収されて酸素
をオゾンに変化させる作用を有している。波長が２５
３．７ｎｍの紫外線は酸素に吸収されることはないが、
有機物に吸収されてこの有機物を励起する作用を有して
おり、更に、オゾンを分解して酸素（Ｏ2 ）と発生基の
酸素（Ｏ* ）とに分解する作用も有している。炭素
（Ｃ）、水素（Ｈ）及び酸素（Ｏ）を含む有機物（Ｃl
ＨmＯn ）に紫外線が照射されると、有機物は励起され
る。これと同時に、接合力が強い発生基の酸素イオンが
有機物と結合して、一酸化炭素（ＣＯ）と二酸化炭素
（ＣＯ2）と水（Ｈ2Ｏ）になり、有機物は灰化（アッシ
ング）されて消滅する。
る紫外線の波長はランプの種類によって様々であるが、
その中で低圧水銀ランプがＵＶ／Ｏ3 洗浄には広く用い
られている。低圧水銀ランプから発せられる紫外線の輝
線は１８４．９ｎｍと２５３．７ｎｍである。波長が１
８４．９ｎｍの紫外線は空気中の酸素に吸収されて酸素
をオゾンに変化させる作用を有している。波長が２５
３．７ｎｍの紫外線は酸素に吸収されることはないが、
有機物に吸収されてこの有機物を励起する作用を有して
おり、更に、オゾンを分解して酸素（Ｏ2 ）と発生基の
酸素（Ｏ* ）とに分解する作用も有している。炭素
（Ｃ）、水素（Ｈ）及び酸素（Ｏ）を含む有機物（Ｃl
ＨmＯn ）に紫外線が照射されると、有機物は励起され
る。これと同時に、接合力が強い発生基の酸素イオンが
有機物と結合して、一酸化炭素（ＣＯ）と二酸化炭素
（ＣＯ2）と水（Ｈ2Ｏ）になり、有機物は灰化（アッシ
ング）されて消滅する。
【００１４】本発明に係る洗浄方法及びその装置はこの
原理を応用することにより、被洗浄物の内表面に付着し
た炭素系（Ｃ系）の有機物を含む付着物を除去してい
る。
原理を応用することにより、被洗浄物の内表面に付着し
た炭素系（Ｃ系）の有機物を含む付着物を除去してい
る。
【００１５】
【実施例】以下、本発明の一実施例を図１乃至図５に基
づいて説明する。図１は、本発明の第１実施例に係る付
着物の洗浄装置を示す正面断面図であり、洗浄時に紫外
線ランプを取付けるタイプを示している。図２は図１の
洗浄装置のII−II線断面図、図３は本発明の原理を示す
説明図である。図１及び図２に示すように、付着物の洗
浄装置１は、容器又は配管部品などの被洗浄物２の内部
空間３に着脱可能に配設された複数の紫外線ランプ４
と、被洗浄物２に着脱可能に取付けられ、空気、酸素及
びオゾンのうち少なくともいずれかを含む洗浄用ガスを
内部空間３に供給するガス供給装置５とを備えている。
づいて説明する。図１は、本発明の第１実施例に係る付
着物の洗浄装置を示す正面断面図であり、洗浄時に紫外
線ランプを取付けるタイプを示している。図２は図１の
洗浄装置のII−II線断面図、図３は本発明の原理を示す
説明図である。図１及び図２に示すように、付着物の洗
浄装置１は、容器又は配管部品などの被洗浄物２の内部
空間３に着脱可能に配設された複数の紫外線ランプ４
と、被洗浄物２に着脱可能に取付けられ、空気、酸素及
びオゾンのうち少なくともいずれかを含む洗浄用ガスを
内部空間３に供給するガス供給装置５とを備えている。
【００１６】被洗浄物としての真空容器２の内部空間３
にウエハやガラス基板などを収納してこれらを真空状態
で保管又は搬送している。真空容器２は、容器本体６
と、容器本体６に着脱可能に取付けられて容器本体６と
ともに内部に内部空間３を形成する蓋材７とを備えてお
り、内部空間３は密封構造になっている。
にウエハやガラス基板などを収納してこれらを真空状態
で保管又は搬送している。真空容器２は、容器本体６
と、容器本体６に着脱可能に取付けられて容器本体６と
ともに内部に内部空間３を形成する蓋材７とを備えてお
り、内部空間３は密封構造になっている。
【００１７】紫外線ランプ４は、内部空間３の内表面８
に紫外線を照射して、内表面８に付着した有機物などの
付着物を取除くためのものである。紫外線ランプ４は、
低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、キセノンランプ及び
重水素ランプ等紫外線を発するものであればどのような
ランプであってもよいが、好ましくは低圧水銀ランプが
よく、又ランプを構成するガラスには合成石英ガラスを
用いるのがよい。この低圧水銀ランプは有機物の灰化
（アッシング）に必要なオゾン（Ｏ3 ）を、酸素
（Ｏ2 ）→オゾン（Ｏ3 ）の変化によって作り出せる１
８４．９ｎｍの波長の紫外線を発することができる性質
を有しており、また合成石英ガラスは１８４．９ｎｍの
紫外線を吸収しないので好ましい。
に紫外線を照射して、内表面８に付着した有機物などの
付着物を取除くためのものである。紫外線ランプ４は、
低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、キセノンランプ及び
重水素ランプ等紫外線を発するものであればどのような
ランプであってもよいが、好ましくは低圧水銀ランプが
よく、又ランプを構成するガラスには合成石英ガラスを
用いるのがよい。この低圧水銀ランプは有機物の灰化
（アッシング）に必要なオゾン（Ｏ3 ）を、酸素
（Ｏ2 ）→オゾン（Ｏ3 ）の変化によって作り出せる１
８４．９ｎｍの波長の紫外線を発することができる性質
を有しており、また合成石英ガラスは１８４．９ｎｍの
紫外線を吸収しないので好ましい。
【００１８】真空容器２の内部空間３を形成する壁面９
には、紫外線ランプ４を着脱可能に装着するためのハウ
ジング（ソケット）１０が予め取付けられている。ハウ
ジング１０に装着された各紫外線ランプ４は、内部空間
３の密封状態を保持するように容器本体６に取付けられ
たハウメチックシール１１を介して外部電源１２と電気
的に接続されている。なお、被洗浄物が真空容器以外の
場合には、内部空間３を密封状態にする必要がないの
で、ハウメチックシール１１を使用しなくてもよい。
又、紫外線ランプ４をソケット１０に取付けずに、内部
空間３に挿入するようにしてもよい。
には、紫外線ランプ４を着脱可能に装着するためのハウ
ジング（ソケット）１０が予め取付けられている。ハウ
ジング１０に装着された各紫外線ランプ４は、内部空間
３の密封状態を保持するように容器本体６に取付けられ
たハウメチックシール１１を介して外部電源１２と電気
的に接続されている。なお、被洗浄物が真空容器以外の
場合には、内部空間３を密封状態にする必要がないの
で、ハウメチックシール１１を使用しなくてもよい。
又、紫外線ランプ４をソケット１０に取付けずに、内部
空間３に挿入するようにしてもよい。
【００１９】蓋材７には、洗浄用ガスを内部空間３に流
すための供給口１４が着脱可能に設けられている。洗浄
用ガスは、ガス供給装置５から供給口１４、供給バルブ
１３を通り蓋材７内を通って内部空間３に流れ込む。洗
浄用ガスを発生させるガス供給装置５としては、オゾン
を発生させるオゾナイザが好ましい。アッシング速度を
高めるためにはオゾン濃度が高いほうが効果的であるの
で、オゾナイザとしては、数十乃至十万ｐｐｍのオゾン
を作り出せる能力のものであればよい。オゾナイザで作
り出されたオゾンは、オゾナイザと内部空間３とを接続
する連通管１５を介して供給口１４と供給バルブ１３と
を通って内部空間３に供給される。なお、オゾナイザの
代わりに、空気又は酸素を供給するガス供給装置５を用
いた場合には、紫外線ランプ４から発せられる１８４．
９ｎｍの紫外線が酸素又は空気中の酸素をオゾンに変化
させるので、この場合にも有機物の洗浄を行うことがで
きる。
すための供給口１４が着脱可能に設けられている。洗浄
用ガスは、ガス供給装置５から供給口１４、供給バルブ
１３を通り蓋材７内を通って内部空間３に流れ込む。洗
浄用ガスを発生させるガス供給装置５としては、オゾン
を発生させるオゾナイザが好ましい。アッシング速度を
高めるためにはオゾン濃度が高いほうが効果的であるの
で、オゾナイザとしては、数十乃至十万ｐｐｍのオゾン
を作り出せる能力のものであればよい。オゾナイザで作
り出されたオゾンは、オゾナイザと内部空間３とを接続
する連通管１５を介して供給口１４と供給バルブ１３と
を通って内部空間３に供給される。なお、オゾナイザの
代わりに、空気又は酸素を供給するガス供給装置５を用
いた場合には、紫外線ランプ４から発せられる１８４．
９ｎｍの紫外線が酸素又は空気中の酸素をオゾンに変化
させるので、この場合にも有機物の洗浄を行うことがで
きる。
【００２０】洗浄装置１は、洗浄により内部空間３で発
生したガスを処理するための除害装置１６と、除害装置
１６に接続された排気ポンプ１７とを備えている。蓋材
７には、排気口１８が着脱可能に取付けられている。排
気口１８は蓋材７に取付けられた排気バルブ１９に接続
されており、蓋材７、排気バルブ１９、除害装置１６及
び排気ポンプ１７は連通管２０により接続されている。
したがって、排気ポンプ１７を運転すれば真空容器２の
内部空間３にあるガスを排気することができる。又、洗
浄により内部空間３で発生して残留するオゾン、一酸化
炭素、炭酸ガス及び水分などは、連通管２０、排気バル
ブ１９、排気口１８及び連通管２０を通って除害装置１
６に排出されてここで無害化処理されたのち排気ポンプ
１７により外部に排出されるので、人体には悪影響を与
えない。
生したガスを処理するための除害装置１６と、除害装置
１６に接続された排気ポンプ１７とを備えている。蓋材
７には、排気口１８が着脱可能に取付けられている。排
気口１８は蓋材７に取付けられた排気バルブ１９に接続
されており、蓋材７、排気バルブ１９、除害装置１６及
び排気ポンプ１７は連通管２０により接続されている。
したがって、排気ポンプ１７を運転すれば真空容器２の
内部空間３にあるガスを排気することができる。又、洗
浄により内部空間３で発生して残留するオゾン、一酸化
炭素、炭酸ガス及び水分などは、連通管２０、排気バル
ブ１９、排気口１８及び連通管２０を通って除害装置１
６に排出されてここで無害化処理されたのち排気ポンプ
１７により外部に排出されるので、人体には悪影響を与
えない。
【００２１】次に、図３により本発明の原理を説明す
る。図示するように、真空容器２の内表面８に有機物
（ＣlＨmＯn ）３１等の付着物が付着している場合に、
紫外線ランプ４から発せられた紫外線Ｒが有機物３１に
照射される。内部空間３の雰囲気中に、ガス供給装置５
のオゾナイザから供給されたオゾン（又はガス供給装置
５から供給された酸素又は空気中の酸素に１８４．９ｎ
ｍの波長の紫外線を照射して生成されたオゾン）がある
と、２５３．７ｎｍの波長の紫外線がオゾンを分解して
発生基の酸素イオン（Ｏ* ）を発生させる。酸素イオン
は、有機物３１を一酸化炭素（ＣＯ）、二酸化炭素（Ｃ
Ｏ2）及び水分（Ｈ2Ｏ）に分解してアッシングする。こ
れにより、有機物３１は完全に分解されて内表面８は清
浄な状態に洗浄される。
る。図示するように、真空容器２の内表面８に有機物
（ＣlＨmＯn ）３１等の付着物が付着している場合に、
紫外線ランプ４から発せられた紫外線Ｒが有機物３１に
照射される。内部空間３の雰囲気中に、ガス供給装置５
のオゾナイザから供給されたオゾン（又はガス供給装置
５から供給された酸素又は空気中の酸素に１８４．９ｎ
ｍの波長の紫外線を照射して生成されたオゾン）がある
と、２５３．７ｎｍの波長の紫外線がオゾンを分解して
発生基の酸素イオン（Ｏ* ）を発生させる。酸素イオン
は、有機物３１を一酸化炭素（ＣＯ）、二酸化炭素（Ｃ
Ｏ2）及び水分（Ｈ2Ｏ）に分解してアッシングする。こ
れにより、有機物３１は完全に分解されて内表面８は清
浄な状態に洗浄される。
【００２２】次に、この原理を用いた洗浄装置１により
真空容器２を洗浄する場合について説明する。まず、図
１及び図２に示すように洗浄装置１の各構成部材を真空
容器２に取付ける。外部電源１２をオンして各紫外線ラ
ンプ４を点灯させる。次いで供給バルブ１３を開けてガ
ス供給装置５からオゾン（空気又は酸素であってもよ
い）を内部空間３に供給する。この時のガス流量は、１
０ｌ／ｍｉｎ程度で十分である。又、紫外線ランプ４を
点灯して紫外線を内表面８に照射する時間は、内表面８
の汚染の程度にもよるが１０分間程度で十分である。こ
のようにして洗浄用ガスの下で紫外線を内表面８に照射
することにより、内表面８に付着した有機物が完全に分
解されて内表面８は清浄な状態になる。その後、排気ポ
ンプ１７をオンして内部空間３のガスを無害化して外部
に排出する。
真空容器２を洗浄する場合について説明する。まず、図
１及び図２に示すように洗浄装置１の各構成部材を真空
容器２に取付ける。外部電源１２をオンして各紫外線ラ
ンプ４を点灯させる。次いで供給バルブ１３を開けてガ
ス供給装置５からオゾン（空気又は酸素であってもよ
い）を内部空間３に供給する。この時のガス流量は、１
０ｌ／ｍｉｎ程度で十分である。又、紫外線ランプ４を
点灯して紫外線を内表面８に照射する時間は、内表面８
の汚染の程度にもよるが１０分間程度で十分である。こ
のようにして洗浄用ガスの下で紫外線を内表面８に照射
することにより、内表面８に付着した有機物が完全に分
解されて内表面８は清浄な状態になる。その後、排気ポ
ンプ１７をオンして内部空間３のガスを無害化して外部
に排出する。
【００２３】こうして洗浄が終了すれば、ガス供給装置
５、除害装置１６及び排気ポンプ１７を取外したのち、
蓋材７を取って内部空間３の開口部を開放させた状態で
各紫外線ランプ４をハウジング１０から取外す。これに
より、真空容器２を再び使用することができる。
５、除害装置１６及び排気ポンプ１７を取外したのち、
蓋材７を取って内部空間３の開口部を開放させた状態で
各紫外線ランプ４をハウジング１０から取外す。これに
より、真空容器２を再び使用することができる。
【００２４】図４は本発明の第２実施例にかかる付着物
の洗浄装置を示す正面断面図であり、洗浄時に、紫外線
ランプを有する板部材を被洗浄物の開口部に取付けるタ
イプを示している。図５は図４の洗浄装置のＶ−Ｖ線断
面図である。
の洗浄装置を示す正面断面図であり、洗浄時に、紫外線
ランプを有する板部材を被洗浄物の開口部に取付けるタ
イプを示している。図５は図４の洗浄装置のＶ−Ｖ線断
面図である。
【００２５】本実施例の付着物の洗浄装置４０において
は、真空容器２ａの内部空間３の開口部を覆う着脱可能
な板部材４１を準備し、板部材４１に複数の紫外線ラン
プ４ａ及び洗浄用ガスの供給口１５、更に排気の接続口
を取付けている。すなわち、紫外線ランプ４ａを有する
板部材４１は洗浄時のみ使用される専用の部品である。
なお、被洗浄物としては真空容器２ａのほか配管部品で
もよく、また板部材４１の形状は平面状の平板でも曲面
を有する曲板でもよく、その他矩形でも円形でもよく、
被洗浄物の形状に合わせて製作すればよい。なお、第１
実施例と同一又は相当の構成部材には同一の符号を付し
てその説明を省略する。
は、真空容器２ａの内部空間３の開口部を覆う着脱可能
な板部材４１を準備し、板部材４１に複数の紫外線ラン
プ４ａ及び洗浄用ガスの供給口１５、更に排気の接続口
を取付けている。すなわち、紫外線ランプ４ａを有する
板部材４１は洗浄時のみ使用される専用の部品である。
なお、被洗浄物としては真空容器２ａのほか配管部品で
もよく、また板部材４１の形状は平面状の平板でも曲面
を有する曲板でもよく、その他矩形でも円形でもよく、
被洗浄物の形状に合わせて製作すればよい。なお、第１
実施例と同一又は相当の構成部材には同一の符号を付し
てその説明を省略する。
【００２６】本実施例の洗浄装置４０では、紫外線ラン
プ４ａ及び洗浄用ガスの供給口１５を洗浄専用の板部材
４１に取付けたので、板部材４１と紫外線ランプ４ａと
を一緒に容器本体６に対して取付け取外しができること
となり、洗浄作業が極めて簡単になる。
プ４ａ及び洗浄用ガスの供給口１５を洗浄専用の板部材
４１に取付けたので、板部材４１と紫外線ランプ４ａと
を一緒に容器本体６に対して取付け取外しができること
となり、洗浄作業が極めて簡単になる。
【００２７】表１は、図４及び図５に示すタイプの洗浄
装置４０を用いて真空容器２ａの内表面８を洗浄した時
の実験結果を示している。
装置４０を用いて真空容器２ａの内表面８を洗浄した時
の実験結果を示している。
【表１】洗浄評価として超純水を対象表面に滴下してそ
の接触角度から汚染の度合いを知る接触角度法を用い
た。接触角度法によれば、接触角度が大きいほど有機物
が付着し、接触角度が小さくなればなるほど有機物の付
着は少ないことを示している。洗浄実験によれば、洗浄
前には内表面８の接触角度が６５°程度あり汚れた状態
であったが、洗浄後には４°程度に著しく低下しており
極めて清浄な状態になった。
の接触角度から汚染の度合いを知る接触角度法を用い
た。接触角度法によれば、接触角度が大きいほど有機物
が付着し、接触角度が小さくなればなるほど有機物の付
着は少ないことを示している。洗浄実験によれば、洗浄
前には内表面８の接触角度が６５°程度あり汚れた状態
であったが、洗浄後には４°程度に著しく低下しており
極めて清浄な状態になった。
【００２８】以上述べたように、本発明によれば、簡単
な洗浄作業により完全に有機物を取除くことができるこ
ととなり、有機洗浄や超純水洗浄による汚染有機物除去
のように洗浄後のベーキングも必要ない。
な洗浄作業により完全に有機物を取除くことができるこ
ととなり、有機洗浄や超純水洗浄による汚染有機物除去
のように洗浄後のベーキングも必要ない。
【００２９】なお、前記各実施例では、ガス供給装置５
としてオゾナイザを用いたが分子レベルの有機汚染を引
き起こす有機物は内表面８に極薄く付着した有機物であ
り、多量のオゾンを必要としないので、必ずしもオゾナ
イザを用いる必要性はない。なお、各図中同一符号は同
一又は相当部分を示す。
としてオゾナイザを用いたが分子レベルの有機汚染を引
き起こす有機物は内表面８に極薄く付着した有機物であ
り、多量のオゾンを必要としないので、必ずしもオゾナ
イザを用いる必要性はない。なお、各図中同一符号は同
一又は相当部分を示す。
【００３０】
【発明の効果】本発明は上述のように構成したので、被
洗浄物に形成された内部空間の内表面に付着した付着物
を分子レベルで効果的に取除くことができる。
洗浄物に形成された内部空間の内表面に付着した付着物
を分子レベルで効果的に取除くことができる。
【図１】図１乃至図５は本発明の一実施例を示す図で、
図１は本発明の第１実施例にかかる付着物の洗浄装置を
示す正面断面図であり、洗浄時に紫外線ランプを取付け
るタイプを示している。
図１は本発明の第１実施例にかかる付着物の洗浄装置を
示す正面断面図であり、洗浄時に紫外線ランプを取付け
るタイプを示している。
【図２】図１の洗浄装置のII−II線断面図である。
【図３】本発明の原理を示す説明図である。
【図４】本発明の第２実施例にかかる付着物の洗浄装置
を示す正面断面図であり、洗浄時に、紫外線ランプを有
する板部材を被洗浄物の開口部に取付けるタイプを示し
ている。
を示す正面断面図であり、洗浄時に、紫外線ランプを有
する板部材を被洗浄物の開口部に取付けるタイプを示し
ている。
【図５】図４の洗浄装置のＶ−Ｖ線断面図である。
１，４０ 洗浄装置 ２ 真空容器（被洗浄物） ３ 内部空間 ４，４ａ 紫外線ランプ ５ ガス供給装置 ８ 内表面 １４ 供給口 ３１ 有機物（付着物） ４１ 板部材 Ｒ 紫外線
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 吉岡 毅 神奈川県藤沢市本藤沢４丁目２番１号 株 式会社荏原総合研究所内
Claims (4)
- 【請求項１】 着脱もしくは挿入可能な紫外線ランプを
被洗浄物の内部空間に配設し、着脱可能な供給口を介し
て供給される空気、酸素及びオゾンのうち少なくともい
ずれかを含む洗浄用ガスの下で、前記紫外線ランプから
発せられる紫外線を前記内部空間の内表面に照射するこ
とにより、この内表面に付着した付着物を取除くことを
特徴とする付着物の洗浄方法。 - 【請求項２】 前記内部空間の開口部を覆う着脱可能な
板部材に前記紫外線ランプ及び前記洗浄用ガスの供給口
を取付けたことを特徴とする請求項１記載の付着物の洗
浄方法。 - 【請求項３】 被洗浄物の内部空間に着脱もしくは挿入
可能に配設され、前記内部空間の内表面に紫外線を照射
して、この内表面に付着した付着物を取除く紫外線ラン
プと、 前記被洗浄物に着脱可能に取付けられ、空気、酸素及び
オゾンのうち少なくともいずれかを含む洗浄用ガスを前
記内部空間に供給するガス供給装置とを備えたことを特
徴とする付着物の洗浄装置。 - 【請求項４】 前記内部空間の開口部を覆う着脱可能な
板部材に前記紫外線ランプ及び前記洗浄用ガスの供給口
を取付けたことを特徴とする請求項３記載の付着物の洗
浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24196793A JPH0768162A (ja) | 1993-09-02 | 1993-09-02 | 付着物の洗浄方法及びその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24196793A JPH0768162A (ja) | 1993-09-02 | 1993-09-02 | 付着物の洗浄方法及びその装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0768162A true JPH0768162A (ja) | 1995-03-14 |
Family
ID=17082249
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24196793A Pending JPH0768162A (ja) | 1993-09-02 | 1993-09-02 | 付着物の洗浄方法及びその装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0768162A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH1190370A (ja) * | 1997-09-22 | 1999-04-06 | Iwasaki Electric Co Ltd | 表面処理装置及びその処理方法 |
| WO1999044760A1 (en) * | 1998-03-03 | 1999-09-10 | Applied Materials, Inc. | In situ cleaning of the surface inside a vacuum processing chamber |
| WO2018042626A1 (ja) * | 2016-09-02 | 2018-03-08 | 株式会社 荏原製作所 | 振動監視装置 |
| CN113412166A (zh) * | 2019-02-12 | 2021-09-17 | 应用材料公司 | 用于清洁真空系统的方法、用于真空处理基板的方法以及用于真空处理基板的设备 |
-
1993
- 1993-09-02 JP JP24196793A patent/JPH0768162A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH1190370A (ja) * | 1997-09-22 | 1999-04-06 | Iwasaki Electric Co Ltd | 表面処理装置及びその処理方法 |
| WO1999044760A1 (en) * | 1998-03-03 | 1999-09-10 | Applied Materials, Inc. | In situ cleaning of the surface inside a vacuum processing chamber |
| US6098637A (en) * | 1998-03-03 | 2000-08-08 | Applied Materials, Inc. | In situ cleaning of the surface inside a vacuum processing chamber |
| WO2018042626A1 (ja) * | 2016-09-02 | 2018-03-08 | 株式会社 荏原製作所 | 振動監視装置 |
| CN113412166A (zh) * | 2019-02-12 | 2021-09-17 | 应用材料公司 | 用于清洁真空系统的方法、用于真空处理基板的方法以及用于真空处理基板的设备 |
| CN113412166B (zh) * | 2019-02-12 | 2024-02-20 | 应用材料公司 | 用于清洁真空腔室的方法、用于真空处理基板的方法以及用于真空处理基板的设备 |
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