JPS6312650B2 - - Google Patents

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JPS6312650B2
JPS6312650B2 JP55067265A JP6726580A JPS6312650B2 JP S6312650 B2 JPS6312650 B2 JP S6312650B2 JP 55067265 A JP55067265 A JP 55067265A JP 6726580 A JP6726580 A JP 6726580A JP S6312650 B2 JPS6312650 B2 JP S6312650B2
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JP
Japan
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exhaust gas
nox concentration
reactor
nox
amount
Prior art date
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JP55067265A
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JPS56163741A (en
Inventor
Sumihiko Kawashima
Hiroshi Sugimoto
Yoshiaki Oda
Hitoshi Ito
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Kawasaki Heavy Industries Ltd
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Kawasaki Heavy Industries Ltd
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Publication date
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Publication of JPS56163741A publication Critical patent/JPS56163741A/ja
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  • Treating Waste Gases (AREA)
  • Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 技術分野 本発明は、事業用ボイラなどの排ガス中の
NOxを、触媒を充填した反応器内でNH3と接触
還元反応させることによつて、脱硝する乾式脱硝
装置のNH3注入量制御方法に関する。
背景技術 従来からの乾式脱硝装置においては、脱硝率あ
るいはNH3注入量と排ガス中のNOx量との比
NH3/NOxを直接の制御対象として、反応器に
注入するNH3量を制御している。ボイラ排ガス
中のNOx濃度は、通常ボイラ負荷の変動に伴な
つて変化するので、反応器出口でのNOx濃度規
制値を満足するためには、排ガス中のNOx濃度
が高いときを基準にして脱硝率あるいはNH3
NOxが選定される。そのため、排ガス中のNOx
濃度が低くなつたときには、上記のように脱硝率
あるいはNH3/NOxが一定に保たれているため
に、過剰脱硝となり、NH3が必要以上に浪費さ
れることになる。また、それに伴なつて反応器出
口の残留NH3濃度も増加する。この残留NH3
度がある値以上になると、反応器に後続する設備
にスケーリング等の悪影響が及ぼされる。
或る先行技術では、残留NH3濃度を所定値以
下に抑えるために、反応器出口のNH3濃度を
NH3分析計を用いて測定し、残留NH3濃度が所
定値を超えたときには、この残留NH3濃度が所
定値以下となるようにNH3注入量を制御してい
る。このNH3分析計としては、現在化学発光法
を利用したものが市販されているが、現状では信
頼性に乏しい。したがつて、このようなNH3
析計を制御系に組込むことは、逆に制御系を乱す
ことにもなりかねず、好ましくない。
第3図は、他の先行技術(特開昭53−33977)
における制御系の系統図で、これをブロツクダイ
ヤグラムとして表したものである。21は排ガス
の入口、23は脱硝処理後の排出ガスの出口を示
す。22は脱硝プラントの中枢となる反応塔であ
つて、NH3ボンベ29からバルブ28(粗レベ
ル)、バルブ27(精レベル)を通してNH3が導
入される。24は排ガス総入量測定のためのセン
サー、25は排ガス中のNOx濃度検出用センサ
ー、26は排ガス中のNOx濃度検出用センサー
である。参照符32〜37は、動作ステツプを示す。
21→22→23の脱硝プロセスにおける導入
NH3量の自動供給制御を行なうにあたり、24,
25,26の各センサーからの信号を入力して次
式のプログラムに従う第3図のブロツクダイヤグ
ラムの流れで導入NH3量の制御を行なう。
K*V*C−A=E E→ε(ε>0) 排ガス総入量(V)、該排ガス中のNOx濃度(C)
および脱硝処理後の排ガス中の残留NOx濃度(E)
を変動入力とする。Aは導入NH3量である。K
は制御系の精度に関する可変定数で本発明におけ
る自動制御系のソフトウエアで重要な意味を有す
るものである。εはノンゼロ(non−zero)、ノ
ンネガテイブ(non−negative)の非常に小さな
値を示す。
プロセス稼動時の最初はV、Cのデジタル量を
測定し、K=1.0として、K*V*Cを計算し、
この数量に対応したバルブ28(粗レベル)を開
口する。次にセンサー26によつて残留NOx濃
度Eを検出し、Eの値が精レベルで制御しうるか
どうかの判定を行ない、もし精レベル制御の範囲
外であればバルブ28をさらに開くか、閉じるか
によつてKの値を1ランクだけ+あるいは−のい
ずれかの方向に変更して、その時点でのV′、
C′を改めてV、Cとし再びK*V*Cを計算し、
バルブ28をコントロールする。このフイードバ
ツク制御を繰り返して粗レベルが設定されると、
22→26→27の精レベルでのNH3量の供給
がバルブ27によつて行なわれる。この精レベル
でのNH3供給はフイードフオワード制御であつ
て、この回路に含まれた判断部分によつて、精レ
ベルでの制御が能力オーバーになると、再度Kの
値を変更して粗レベル制御を行なうことになる。
つまりフイードバツク制御とフイードフオワード
制御を多重に繰り返しながらNH3ボンベのバル
ブ27と28が開閉され、反応塔22に有効限界
のNH3量が時変的に導入され、脱硝プラント2
1→22→23のプロセスの自動化システムが完
遂される。
この先行技術によれば、反応塔中へ導入される
NH3量は有効限界量として供給されるように制
御系が形成されているため、未反応のNH3が素
抜けとなつて排出することは阻止しうるので、二
次公害を生起するおそれがない。
このような先行技術は脱硝処理後の排ガス中の
残留NOx濃度を変動入力の1つとして、この値
が精レベルでの制御(フイードフオワード制御)
をしうるかどうかの判定を行ない、不可の場合は
精レベルでの制御が可能なまでの粗レベルでの制
御(フイードバツク制御)を行なうというフイー
ドフオワード制御と、フイードバツク制御の組み
合わせによるものである。
この先行技術では、脱硝処理後におけるNOx
濃度を検出してフイードフオワード制御とフイー
ドバツク制御とを交互に行なつている。したがつ
て脱硝処理が行なわれるべきガスのNOx濃度が
急激に変化したときにおいて、脱硝処理後におけ
るNOx濃度を検出して上述の制御を行なうので
反応速度が悪いという問題がある。
発明が解決すべき問題点 本発明者等は、脱硝触媒量を適正に選択し、か
つ反応器出口のNOx濃度を所定値に保つことに
よつて、排ガス流量および温度の変化に拘らず、
残留NH3濃度を所定値以下に常に抑え得る点に
注目し、上述の技術的課題を解決すべく研究し
た。その結果、ボイラ負荷の変動などの外乱を受
けても、反応器出口NOx濃度を所定値に常に保
つことができるNH3注入量制御方法を開発すれ
ば、上述のごとき残留NH3濃度の問題も同時に
解決できるという結論に達した。
本発明は、上述の観点に基づいて発明されたも
のであり、反応器出口NOx濃度を制御対象とす
ることによつて、(a)反応器出口のNOx濃度を所
定値に保ち、(b)残留NH3を所定値以下に保ち、
かつ(c)NH3消費量を必要最小限に抑え得るNH3
注入量制御方式を提供するものであり、脱硝処理
されるべき排ガスのNOx濃度が急激に変化した
ときにおいても、応答速度を向上して脱硝を行な
うことができるように改良した乾式脱硝装置にお
けるNH3注入量制御方法を提供することを目的
とする。
発明の構成 本発明は、触媒を充填した反応器内で排ガス中
のNOxをNH3ガスと接触還元反応させて脱硝す
る乾式脱硝装置におけるNH3注入量制御方法に
おいて、 NH3注入量FAを、反応器入口のNOx濃度CN
i、反応器出口の予め設定したNOx濃度CNOset、
排ガス流量FG、ならびに排ガス温度Tおよび排
ガス流量FGに依存する補正関数(T、FG)から
成る式 FA=(T、FG)・(CNi−CNOset)・FG によつて算出したフイードフオワード制御するた
めの信号と、 反応器出口NOx濃度が反応器出口の予め設定
したNOx濃度になるようにするためのフイード
バツク補正信号と、排ガス流量信号とを掛算して
得られた値を表す信号とを、 加算し、この加算値に基づいてNH3流入量を
制御することを特徴とする乾式脱硝装置における
NH3注入量制御方法である。
作 用 本発明に従えば、フイードフオワード制御する
ためのNH3注入量FAを表す信号を演算すること
によつて、反応器入口のNOx濃度が急激に変化
したときにおいても迅速に脱硝を行なうことがで
き、応答速度を向上することができる。
しかも、反応器出口のNOx濃度を高精度で一
定に保つために、予め設定したNOx濃度CNOset
と反応器出口のNOx濃度CNOとの差であるフイー
ドバツク補正信号FB(=CNOset−CNO)を演算し
て求める。
仮に、このフイードバツク補正信号を直接に用
いてNH3注入量を定めてフイードバツク制御を
行なうとすれば、排ガス流量が或る一定の値にお
いてNH3濃度が変化したときのみ反応器出口
NOx濃度を一定に保つことができるけれども、
排ガス流量が変動すると、反応器出口のNH3
度がオーバシユートしたり前記予め設定した
NOx濃度になるのに時間がかかつたりするとい
う問題が生じる。
この問題を解決するために本発明では、フイー
ドバツク補正信号FBと、排ガス流量FGを表す信
号とを掛算してその積A(=FG・FB)を演算す
る。
こうしてフイードフオワード制御するための
NH3注入量FAを表す信号と、フイードバツク制
御を行なう前述の積Aを表す信号とを、加算して
NH3注入量を制御する。こうして応答性を向上
し、高精度で反応器出口NOx濃度を制御するこ
とが可能になる。
実施例 以下、本発明について詳細に説明する。制御対
象たるNOxの濃度を測定するNOx分析計を、反
応器出口に設けた場合には、反応器入口に設けた
場合に比べて、NOxを含むガスが反応器を通過
しながらNH3と反応する時間だけ、NOxの濃度
の制御が遅れることになる。そのため反応器出口
のNOx濃度をフイードバツクするだけの通常の
制御系では、ボイラ負荷変動等の急激な外乱に対
して、制御系の追従が困難である。
そこで、本発明者等は、排ガス流量、反応器入
口NOx濃度および排ガス温度から脱硝に必要と
されるNH3注入量を推定し得る第1式を用いて、
フイードフオワード制御を構成する制御方法を開
発した。
FA=(T、FG)・(CNi−CNOset)・FG×10-6
……(1) ここで、FA;脱硝に必要とされるNH3注入量
(Nm3/H)、FG;排ガス流量(Nm3/H)、T;
反応器入口排ガス温度(℃)、CNi;反応器入口
NOx濃度(ppm)、CNOset;反応器出口のNOx濃
度設定値(ppm)、(T、FG);排ガス温度およ
び流量による脱硝率変化の補正関数である。
このような第1式を用いることによつて、
NH3注入量の推定が可能となり、反応器出口の
NOx濃度をフイードバツクするだけの通常の制
御系に比べて、急激な外乱に対してもフイードフ
オワード制御によつてNH3注入量を先行的に変
化させ出口NOx濃度の変化をおさえることがで
きる。
しかし、第1式から推定された必要NH3注入
量と実際に必要とされるNH3注入量との差や、
脱硝触媒の活性の変化などの種々の特性の変化に
よつて、反応器出口のNOx濃度が所定値からず
れることは避けられない。そこで、前述のフイー
ドフオワード制御に、反応器出口NOx濃度のゲ
イン補正したフイードバツク制御を組合せて構成
する。
なおゲイン補正の必要な理由は以下に述べる通
りである。本発明者等の解析によると、NH3
入量を微小変化させたときの反応器出口のNOx
濃度の変化割合(すなわち後述のように定義した
プロセスゲインKp)は、第9式で示すように排
ガス流量FGの逆数に比例することが明らかにな
つた。
排ガス中に含まれるNOx量は反応器内に注入
されるNH3量により、理想的には比例的に還元
される。この反応器内に送り込まれるNOx量を
一定とした場合、NH3注入量を増加(減少)し
ていくと、還元されるNOx量も一定の割合で増
加(減少)、すなわち反応器出口でのNOx濃度は
減少(増加)してくる。この変化割合を本件明細
書では「プロセスゲイン」と称して定義し、次の
第2式の関係式で示す。
実際の脱硝装置においてはボイラの負荷状態に
よつて反応器入口のNOx量が変化するため、反
応器出口のNOx濃度が一定になるように制御し
ようとすれば、従来のフイードバツク制御ではプ
ロセスゲインを変化させることになる。本発明で
は、プロセスゲインが変化することはフイードバ
ツク制御系の安定性の面で好ましくないため、プ
ロセスゲインの変化を排ガス流量で補正するので
ある。
Kp=|ΔCNO/ΔFA| ……(2) ここで、ΔCNOは反応器出口のNOx濃度の変化
量であり、ΔFAはNH3注入量の変化量である。
NH3注入量をFA(Nm3/H)とし、反応器入口
NOx量をG(Nm3/H)とし、 FA/G=α ……(3) とおく。脱硝率ηは、α<1のとき近似的に、 η≒K・α ……(4) で表わされる。ここでKは定数である。
反応器内での脱硝率を考えた場合、α≧1に選
定すると、すなわちNH3の注入量は、化学量論
的にみてNOx量と1対1またはそれ以上とする
と、次の問題点(a)、(b)が発生する。
(a) 反応器内での脱硝率ηが100%となることを
期待することはできるとしても、余分に注入さ
れたNH3は残留NH3として系外に排出される
ことによつて、2次公害が発生する。すなわち
脱硝装置においては、α≧1に選定すると、
NH3が必要以上に消費されるばかりでなく、
残留NH3が2次公害の原因となることになり、
残留NH3を処理するための2次装置が必要に
なる。
(b) また余分にNH3を注入することによつて、
酸性硫安が生じ、したがつてガス通路にその酸
性硫安が付着して閉塞を生じるという重要な問
題が発生する。
したがつて従来から、また本発明でも、α<1
とする。上述の第4式における脱硝率ηは、反応
器内での触媒の働きによる効率であり、脱硝装置
では、この第4式が成り立つように、すなわちα
<1で、反応器を用いている。
排ガス中に含まれるNOxの量Gは、 G=CNi・FG×10-6 ……(5) であり、反応器出口のNOx濃度CNOは CNO×(1−η)・CNi ……(6) である。第6式および第4式から反応器出口の
NOx濃度の変化量ΔCNOは、第7式で表わされ
る。
ΔCNO=−Δη・CNi=−K・Δα・CNi ……(7) また、NH3注入量の変化量ΔFAは第5式から ΔFA=G・Δα=CNi・FG・Δα×10-6 ……(8) で表わされる。前述の第5式および第6式は、反
応器においてα<1の選定条件下で、触媒の働き
によつて、成立するように、反応器が設計されて
いる。また第7式および第8式では、NH3注入
量に対して、還元されるNOx量の変化に関する
式であつて、NOx濃度の変化は、排ガス中の
NOx量が還元される割合が変化することによつ
て、成り立つ。
第7式および第8式を第2式に代入すると、 Kp=|−K・Δα・CNi|/|CNi・FG・Δα×10-6
∝|K/FG|……(9) となる。プロセスゲインKpが変化すると、フイ
ードバツクループの安定度が変化し、制御系にと
つては好ましくない。そのため第9式の結果をも
とに排ガス流量信号をフイードバツク補正信号に
掛算することによつてプロセスゲインKpの変化
を補正し、フイードバツクループの制御性を大幅
に改善した。
以下、本発明による制御系の一実施例を第1図
に基づいて説明する。ボイラ排ガスは入口ダクト
Aを介して反応器Bに導入され、脱硝された後、
出口ダクトCに導出される。入口ダクトAには、
NH3ガス供給装置DからNH3ガスが供給される。
入口ダクトAには、排ガス流量計1、および
NOx濃度計2が備えられる。反応器Bには、排
ガス温度計3が設けられ、出口ダクトCには
NOx濃度計4が設けられる。NH3ガス供給装置
DからNH3ガスを導く管路13の途中には、
NH3ガス流量計5およびNH3ガス流量調節弁6
が備えられる。
排ガス流量計1、NOx濃度計2および排ガス
温度計3によつて計測された排ガス流量FG、反
応器入口NOx濃度CNiおよび排ガス温度Tの信
号は、演算装置9に伝送される。この演算装置9
においては前述の第1式に基づいてアンモニア注
入量FAが算出され、この信号は加算器8に入力
される。この信号がフイードフオワード信号であ
る。
一方、NOx濃度計4によつて計測された反応
器出口NOx濃度CNOの信号は、NOx濃度調節計
10に伝送され、反応器出口NOx濃度が予め設
定した値CNOsetを表す信号12に等しくなるよう
なフイードバツク補正信号がNOx濃度調節計1
0から導出され、このフイードバツク補正信号
FB(=CNOset−CNO)は、掛算器7に入力される。
NOx濃度調節計10は、その出力をNH3ガス流
量調節計11の流量の設定値として与えるもので
あり、比例積分(PI)調節が行なわれる。この
PI調節動作による信号に、排ガス流量信号を掛
算器7で補正することが、すなわち、プロセスゲ
インの補正を行なうことである。すなわちこの制
御系では、プロセスゲインの補正を行なうことに
よつて、負荷の変動に対する応答性を向上してい
る。次に述べるように、排ガス流量が増加(減
少)したときは、NH3ガス流量調節ループのゲ
インは増加(減少)するように補正する。したが
つて前述の先行技術におけるように、NOx濃度
計のみによるフイードバツク制御に比べて、本件
の制御系では応答性を向上することが可能とな
る。
掛算器7において、プロセスゲインKpを補正
するために排ガス流量計1からの排ガス流量FG
を表す信号と前述のフイードバツク補正信号FB
とが掛算され、その積Aを表すフイードバツク信
号を、加算器8に与える。
A=FG・FB=FG(CNOset−CNO) ……(10) 加算器8において、演算装置9からのフイード
フオワード信号FAと、掛算器7からのフイード
バツク信号Aとが、加算された後、NH3ガス流
量調節計11の設定値信号Bとして出力される。
B=FA+A ……(11) NH3ガス流量調節計11では、前述の設定値
信号Bと、NH3ガス流量計5で測定されたNH3
ガス流量とが比較され、NH3ガス流量が設定値
信号Bに等しくなるようにNH3ガス流量調節弁
6の開度が調節される。
このようなフイードフオワード制御とフイード
バツク制御とを組合せて、NH3注入量を第1図
示の実施例において制御した本件発明者による実
験結果を第2図に示す。第2図1のごとく排ガス
流量が1800Nm3/Hからランプ状に2700Nm3/H
に変化すると、反応器入口NOx濃度は第2図2
のごとく300ppmから400ppmに追従変化する。し
かし反応器出口NOx濃度は第2図3に示すごと
く±5ppmの変動が見られるもののほぼ定常的に
50ppmを維持していることが判つた。
効 果 上述のごとく本発明によれば、プロセスゲイン
を補正したフイードバツク制御と、NH3注入量
が第1式によつて算出されるフイードフオワード
制御との組合せによつて、NH3注入量を制御す
るようにしたので、外乱の影響を受けても反応器
出口のNOx濃度を確実に所定値に保つことがで
きる。この結果反応器出口のNOx濃度を所定値
に保つとともに、NH3分析計等の特殊な計器を
使用せずに、同時に残留NH3量も所定値未満に
抑えることができ、しかも過剰脱硝による無駄な
NH3消費がなくNH3注入量を必要最小限に抑え
ることが可能になる。
特に本発明では、フイードフオワード制御のた
めには反応器入口のNOx濃度が用いられ、反応
器出口のNOx濃度によつてフイードフオワード
制御を行なうものではないので、脱硝処理される
べき排ガスのNOx濃度が急激に変化した場合に
おいても、迅速に脱硝を行なうことができ、応答
速度を向上することができる。
フイードフオワード制御のための信号FAには、
フイードバツク制御のためのフイードバツク補正
信号FBと排ガス流量信号FGとが掛算して得られ
た値Aを表す信号とが、加算(=FA+A)され
るようにしたので、反応器出口のNOx濃度を高
精度で一定にすることが可能になる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例の全体の系統図、第
2図は第1図の制御系でNH3注入量を制御した
実験結果を示すグラフ、第3図は先行技術の系統
図である。 1……排ガス流量計、2,4……NOx濃度計、
3……排ガス温度計、5……NH3ガス流量計、
6……NH3ガス流量調節弁、7……掛算器、8
……加算器、9……演算装置、10……NOx濃
度調節計、B……反応器。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 触媒を充填した反応器内で排ガス中のNOx
    をNH3ガスと接触還元反応させて脱硝する乾式
    脱硝装置におけるNH3注入量制御方法において、 NH3注入量FAを、反応器入口のNOx濃度CN
    i、反応器出口の予め設定したNOx濃度CNOset、
    排ガス流量FG、ならびに排ガス温度Tおよび排
    ガス流量FGに依存する補正関数(T、FG)から
    成る式 FA=(T、FG)・(CNi−CNOset)・FG によつて算出したフイードフオワード制御するた
    めの信号と、 反応器出口NOx濃度が反応器出口の予め設定
    したNOx濃度になるようにするためのフイード
    バツク補正信号と、排ガス流量信号とを掛算して
    得られた値を表す信号とを、 加算し、この加算値に基づいてNH3流入量を
    制御することを特徴とする乾式脱硝装置における
    NH3注入量制御方法。
JP6726580A 1980-05-20 1980-05-20 Method for controlling feed rate or nh3 in dry denitration apparatus Granted JPS56163741A (en)

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JPS5333977A (en) * 1976-09-10 1978-03-30 Unitika Ltd Automatically controlling method for quantity of introduced nh3 in denitration plant for flue gas

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