JPS63123999U - - Google Patents

Description

【図面の簡単な説明】

第１図は本考案の第１実施側を示す正断面図で
ある。第２図は本考案の第２実施例を示す正断面
図である。第３図は本考案の第３実施例を示す正
断面図である。第４図は本考案の第４実施例を示
す正断面図である。第５図は従来装置の正断面図
である。第６図は従来装置の正断面図である。 １……高圧筒、２……上蓋、３……下蓋、４…
…高圧室、５……断熱層、６……ヒータ、７……
炉室、８……外側ケーシング、９……内側ケーシ
ング、１０……案内筒、１１……台板、１２……
被処理体、１３……処理室、２１……ガス通路、
２２……ガス通路、２３……ガス流路、２４……
撹拌フアン、２５……下部ガス流路、２６……環
流フアン。

Claims (1)

1. 【実用新案登録請求の範囲】 高圧筒１と上蓋２、下蓋３とにより画成される
   高圧室４内に、断熱層５と、その内側にヒータ６
   を周設して炉室７となし、かつ、前記断熱層５を
   気密構造の外側ケーシング８と内側ケーシング９
   との少くとも２つの倒立コツプ上ケーシングを含
   んで構成し、外側ケーシング８上部に開閉可能な
   ガス通路２１を、内側ケーシング９上部にガス通
   路２２を設けると共に、前記内外ケーシング８，
   ９のガス通路２１，２２間をガス流通可能に、か
   つ該断熱層５下端部を気密に構成した熱間静水圧
   加圧装置において； その上端と前記断熱層５間に気体流通自由な間
   隔を隔て、前記ヒータ６の内側に周設された案内
   筒１０と；前記下蓋３に支持部材を介して支持さ
   れ、被処理体１２を支持する台板１１と；その下
   部を前記台板１１にて区画され、前記案内筒１０
   に囲周されて画成され、被処理体１２を収容する
   空間を備えた処理室１３と；前記処理室１３下方
   に設けられ、前記台板１１を経て該処理室１３と
   前記炉室７とを連通するガス流路２３と；前記ガ
   ス流路２３における前記台板１１下方に配設され
   、駆動手段にて回転される撹拌フアン２４と；前
   記炉室７の下部に設けられ、前記断熱層５外側の
   高圧室４と該炉室７とを連通する下部ガス流路２
   ５と；前記下部ガス流路２５に配設され、駆動手
   段にて回転される環流フアン２６とを設けたこと
   を特徴とする熱間静水圧加圧装置。