JPH0347196Y2 - - Google Patents

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JPH0347196Y2
JPH0347196Y2 JP8505286U JP8505286U JPH0347196Y2 JP H0347196 Y2 JPH0347196 Y2 JP H0347196Y2 JP 8505286 U JP8505286 U JP 8505286U JP 8505286 U JP8505286 U JP 8505286U JP H0347196 Y2 JPH0347196 Y2 JP H0347196Y2
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JP
Japan
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furnace
support
sample case
gas
furnace shell
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JP8505286U
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Description

【考案の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本考案は、焼結炉、脱脂焼結炉等の加熱炉にお
いて、炉内の試料ケースにキヤリアガスを導入す
る装置に関するものである。
[従来の技術] 焼結炉、脱脂焼結炉等で焼結作業を行なう場
合、工程初期において、加熱により試料内部の不
純物(バインダー等)がガス化するので、試料ケ
ース内にキヤリアガスを流通させてこの不純ガス
の除去を行なうようにしている。
このようなキヤリアガスを試料ケース内に送る
装置を備えた炉の従来例を第2図に示す。図中1
は炉殻、2はその内部に設けられた断熱壁で、こ
の断熱壁2により加熱室3が形成されている。そ
して、ヒータ4が備えられたその加熱室3の内部
に、サポート5(脚)及び架台6により試料ケー
ス7が中空に浮いたような状態で支持されてい
る。
また、このように支持された試料ケース7に
は、上下にガス入出孔8、9が設けられており、
下側のガス入孔9には、ケース7内にキヤリアガ
スを流通させるためのガス導入通路10が、前記
サポート5の邪魔にならないようにして接続され
ている。このガス導入通路10は、試料ケース7
側のセラミツク製チユーブ11と、フランジ12
によりそのチユーブ11と接続された耐熱鋼製パ
イプ13と、このパイプ13を炉外に導き出すた
めに炉殻1に設けられた配管取り出し口14と、
前記パイプ13に接続された炉外配管15とから
構成され、配管15、パイプ13、チユーブ11
を通して炉外から試料ケース7内にキヤリアガス
を導入するものである。
[考案が解決しようとする問題点] ところで、上述した炉においては、加熱時の熱
の逃げをできるだけ小さく抑えることが望まし
い。この点、上述した従来の炉においては、サポ
ート5と別にガス導入通路を設けているので、そ
の分熱の逃げ量が大きいという問題がある。ま
た、従来のガス導入装置は、配管をサポートを避
けて狭いスペースに通さなければならないから、
構造が複雑化する上、配管作業がやりにくい。さ
らに、ボトムローデイング式の炉に適用する場
合、配管の接続を確実に行なうのが難しい等の改
善が望まれる幾つかの問題がある。
[問題点を解決するための手段] 本考案は、上記の問題点を解決するものであつ
て、炉殻内の配置された試料ケースをサポートを
介して支持した加熱炉において、サポートを直接
炉殻の固定するとともに、炉殻外部から試料ケー
ス内にガスを導入する通路を、サポートの内部に
形成したことを特徴としている。
[実施例] 以下、本考案の一実施例を第1図を参照しなが
ら説明する。
図中1は炉殻、2は断熱壁、3は加熱室、4は
ヒータ、15は試料ケースである。試料ケース1
5は、架台16上に載せられ、架台16の下面に
固定したサポート17(脚)により中空に浮いた
ような状態で炉殻1に直接支持されている。
この場合の炉は下部から炉蓋1aを明ける形式
のもので、サポート17は炉蓋1aに固定されて
いる。そして、炉蓋1aを下降させることによ
り、断熱壁2の下面部とともに試料ケース15が
一体的に下降する構成になつている。前記サポー
ト17は、上サポート18と下サポート19を連
結したもので、上サポート18は、上端が架台1
6に設けた嵌合穴に嵌入され、下端が断熱壁2を
突き抜けて、下サポート19の上面に設けた嵌合
穴に嵌入されている。
前記サポート17のうちの1本、すなわち図中
17−Aで示すものは、内部にガス導入通路とし
ての貫通孔20を有するもので、下サポート19
の下端を炉殻1の外部に気密的に貫通させた状態
で固定されている。また、貫通孔20は、当該サ
ポート17−Aに対応して形成された架台16の
通孔21、及び試料ケース15のガス入孔22を
通して試料ケース15の内部と連通している。そ
して、下サポート19の炉外端に連結された配管
23より、貫通孔20を通して試料ケース15内
にガスを導入できるようになつている。24はガ
ス出孔である。この場合、ガス入孔22が試料ケ
ース15の端に偏つて位置しているから、それに
対応してガス出孔24は反対方向にずらして配置
されている。
以上の構成により、従来設けていたガス導入配
管を省略できる。このため、加熱時の熱の逃げが
減少する。また、サポート17は試料ケース15
を支えるべく炉殻1との間に固定的に配したもの
なので、その中に形成されたガス導入通路は常時
安定した状態に保たれる。したがつて、接続箇所
が緩む等のおそれはなく、ガスを確実に試料ケー
ス15内に送れる。また、貫通孔20を直接ガス
導入通路としているので、施工に際して配管接続
等の作業を行なう必要がほとんどない。また、管
を接続したり外したりせずにすむから、接続不完
全となるようなこともなく、常に確実にガスを試
料ケース内に送れる。さらに、炉内に配管を設け
ないからレイアウト上の配慮が全く不要で、かつ
施工がやりやすい。
なお、上記実施例においては、1本のサポート
にのみガス導入通路を設けた場合を示したが、サ
ポートの数だけ導入通路を設けることも可能であ
る。
[考案の効果] 本考案は、以上のことから次のようなすぐれた
効果を奏する。
サポート内部にガス導入通路を設けているの
で、サポートと別に新たにガス導入配管を設け
る必要がなく、経済的である。また、サポート
に類するものを1本省略できることとなり、そ
の分熱の逃げの減少を図ることができる。
サポートは試料ケースと炉殻との間に固定的
に配されたものなので、その中に形成されたガ
ス導入通路は常時安定した状態に保たれる。し
たがつて、接続箇所が緩む等のおそれはなく、
ガスを確実に試料ケース内に送れる。また、ボ
トムローデイング式の炉に適用する場合にも、
管の接続の面倒がないから、ガスを確実に試料
ケース内に送れる利点を有する。
サポート内部に通路を設けることから、炉内
配管が不要となりレイアウト上有利となる上、
狭いスペースでの配管作業がなくなつて施工が
容易になる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本考案の一実施例を適用した炉の側断
面図、第2図は従来の炉の一例を示す側断面図で
ある。 1……炉殻、15……試料ケース、16……架
台、17……サポート、20……貫通孔、21…
…通孔、22……ガス出孔。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 炉殻内に配置された試料ケースをサポートを介
    して支持した加熱炉において、前記サポートを直
    接炉殻に固定するとともに、炉殻外部から試料ケ
    ース内にガスを導入する通路を、前記サポート内
    部に形成したことを特徴とする加熱炉のガス導入
    装置。
JP8505286U 1986-06-04 1986-06-04 Expired JPH0347196Y2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8505286U JPH0347196Y2 (ja) 1986-06-04 1986-06-04

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8505286U JPH0347196Y2 (ja) 1986-06-04 1986-06-04

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS62198494U JPS62198494U (ja) 1987-12-17
JPH0347196Y2 true JPH0347196Y2 (ja) 1991-10-07

Family

ID=30940105

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JP8505286U Expired JPH0347196Y2 (ja) 1986-06-04 1986-06-04

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JP (1) JPH0347196Y2 (ja)

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JPS62198494U (ja) 1987-12-17

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